一种半导体纯水处理系统的反渗透装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术是半导体纯水处理系统的反渗透装置，其是若干根表面均布有进水孔的内管一端开口一端闭合、靠近开口端的外侧面垂直穿过B侧板固定、靠近闭合端的外侧面穿过A侧板上对应的孔向外延伸，B侧板内侧与内管连接处设有与内管同轴的圆柱形的螺纹固定部，若干个反渗透机构对应套设在内管外侧、穿过A侧板上的孔然后与螺纹固定部连接，底板中部设有总水管，总水管顶部和底部分别设出水口和进水口，总水管侧面设有若干个支管，支管包括硬管段和软管段，硬管段上设阀门，软管段端部通过水管快速接口连接反渗透机构外侧面中部。本实用新型专利技术的优点：结构设计合理，更换某一反渗透机构时不影响其它反渗透机构工作，有效提高了生产效率和生产稳定性。和生产稳定性。和生产稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体纯水处理系统的反渗透装置


[0001]本技术涉及的是一种半导体纯水处理系统的反渗透装置，属于水处理设备


技术介绍

[0002]在半导体制作工艺中，80％以上的工序都要经过化学处理，而每一道化学处理都离不开超纯水。在硅片的处理工序中，一半以上的工序经过超纯水清洗后便直接进入高温处理过程，此时如果水中含有杂质便会进入硅片，造成器件性能下降，成品率低。电子工业提出的超纯水电阻率≥18MΩ
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cm(25℃)，已极其接近理论纯水水质18.3MΩ
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cm(25℃)。
[0003]现有技术有用于生产半导体制作所需超纯水的处理系统，其中反渗透装置是处理系统的重要组成，工作时利用孔径为1/10000μm(相当于大肠杆菌大小的1/6000，病毒的1/300)的反渗透膜(RO膜)，使较高浓度的水变为低浓度水，同时将工业污染物、重金属、细菌、病毒等大量混入水中的杂质全部隔离。现有技术反渗透装置一般为固定安装，不方便对内反渗透组件进行更换清洗，且在维护的过程中，会影响整体的反渗透效率；现有技术也有可拆卸式反本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体纯水处理系统的反渗透装置，其特征包括底板和设置在底板顶部两端的A侧板和B侧板，若干根垂直方向平行设置的表面均布有进水孔的内管一端开口一端闭合、靠近开口端的外侧面垂直穿过B侧板固定、靠近闭合端的外侧面穿过A侧板上对应的直径大于内管外径的孔向外延伸，B侧板内侧与内管连接处设有与内管同轴的圆柱形的螺纹固定部，若干个反渗透机构对应套设在内管外侧、穿过A侧板上的孔然后与螺纹固定部连接，底板中部设有总水管，总水管顶部和底部分别设出水口和进水口，总水管侧面设有...

【专利技术属性】
技术研发人员：龙超，陈行，蔡显锋，张建涛，
申请(专利权)人：江苏源邦环境科技有限公司，
类型：新型
国别省市：