表面保护薄膜用基材、使用该基材的表面保护薄膜、及带表面保护薄膜的光学薄膜制造技术

提供可良好地抑制光学检査时的漏光、着色及彩虹样不均的表面保护薄膜用基材。本发明专利技术的表面保护薄膜用基材的正面方向的相位差R0(550)与极角45

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】表面保护薄膜用基材、使用该基材的表面保护薄膜、及带表面保护薄膜的光学薄膜


[0001]本专利技术涉及表面保护薄膜用基材、使用该基材的表面保护薄膜、及带表面保护薄膜的光学薄膜。

技术介绍

[0002]对于光学薄膜(例如，偏光板、包含偏光板的层叠体)，为了在直到应用该光学薄膜的图像显示装置被实际使用为止的期间保护该光学薄膜(最终为图像显示装置)，以可剥离的方式贴合有表面保护薄膜。在实用中，光学薄膜/表面保护薄膜的层叠体贴合于显示单元来制作图像显示装置，并在贴合有该层叠体的状态下将图像显示装置供于光学试验(例如，点亮试验)，在其后的适当的时刻将表面保护薄膜剥离去除。表面保护薄膜代表性的是具有具有作为基材的树脂薄膜和粘合剂层。利用以往的表面保护薄膜，有时在光学检査时发生漏光、着色、彩虹样不均等，成为光学检査的精度降低的原因。其结果，尽管图像显示装置自身没有问题，在上市前的光学检査中有时也被判断为不良，由此，存在自图像显示装置的制造到上市为止的效率降低的问题。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种表面保护薄膜用基材，其正面方向的相位差R0(550)与极角45
°
和方位角45
°
方向的相位差R45(550)满足下述的关系：R45(550)
‑
R0(550)≤13(nm)。2.根据权利要求1所述的表面保护薄膜用基材，其中，所述正面方向的相位差R0(550)为20nm以下。3.根据权利要求1或2所述的表面保护薄膜用基材，其总透光率为80％以上、雾度为1.0％以下。4.根据权利要求1～3中任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员：清水享，中原步梦，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：