一种减反射膜玻璃制造技术

本实用新型专利技术公开了一种减反射膜玻璃，包括依次层叠的玻璃基底、第一中折射率介质膜层、第二高折射率介质膜层和第三低折射率介质膜层；所述第一中折射率介质膜层的折射率为1.77～1.9，所述第二高折射率介质膜层的折射率为2.0～2.5，所述第三低折射率介质膜层的折射率为1.47～1.53；所述第一中折射率介质膜层为SiO

【技术实现步骤摘要】
一种减反射膜玻璃


[0001]本技术涉及玻璃深加工领域，具体涉及一种减反射膜玻璃。

技术介绍

[0002]众所周知，光在两种介质的界面上会发生反射现象，当反射光的光程差恰好等于入射光的半个波长时，反射光会相互抵消，从而大大减少了光学器件的光反射损失，增强了透射光的强度。在光学镜头、展示展柜玻璃等领域，这种减反射膜玻璃具有非常广泛的应用。
[0003]目前的减反射薄膜大多采用高折射率材料/低折射率材料交替搭配的结构，对于性能及外观较好的镀膜玻璃来说，其薄膜总厚度相对较厚且生产效率比较低下。

技术实现思路

[0004]本技术实施例提供了一种减反射膜玻璃，旨在提高减反射膜玻璃的透过率以及提高减反射膜玻璃的生产效率，降低生产成本。
[0005]本技术实施例提供了一种减反射膜玻璃，包括依次层叠的玻璃基底、第一中折射率介质膜层、第二高折射率介质膜层和第三低折射率介质膜层；
[0006]所述第一中折射率介质膜层的折射率为1.77～1.9，所述第二高折射率介质膜层的折射率为2.0～2.5，所述第三低折射率介质膜层的折射率为1.47～1.53；
[0007]所述第一中折射率介质膜层为SiO
x
N
y
层，其中，x/y为2/10～3/10；所述第二高折射率介质膜层为Si3N4层或Nb2O5层或TiO2层；所述第一中折射率介质膜层的厚度为80nm～100nm，所述第二高折射率介质膜层的厚度为15nm～55nm；所述第三低折射率介质膜层的厚度为70nm～90nm。
[0008]可选的，所述第三低折射率介质膜层为SiO2层。
[0009]可选的，所述第三低折射率介质膜层上层叠有保护层。
[0010]可选的，所述保护层为ZrO2层或Si3N4层或SiC层，所述保护层的厚度为2nm～20nm。
[0011]可选的，所述保护层的厚度为4nm～15nm。
[0012]可选的，所述第一中折射率介质膜层的厚度为85nm～95nm。
[0013]可选的，所述第一中折射率介质膜层的厚度为87nm～92nm。
[0014]可选的，所述第二高折射率介质膜层的厚度为25nm～50nm。
[0015]可选的，所述第三低折射率介质膜层的厚度为75nm～85nm。
[0016]可选的，所述第三低折射率介质膜层的厚度为78nm～82nm。
[0017]本技术实施例提供了一种减反射膜玻璃，包括依次层叠的玻璃基底、第一中折射率介质膜层、第二高折射率介质膜层和第三低折射率介质膜层；所述第一中折射率介质膜层的折射率为1.77～1.9，所述第二高折射率介质膜层的折射率为2.0～2.5，所述第三低折射率介质膜层的折射率为1.47～1.53；所述第一中折射率介质膜层为SiO
x
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层，其中，x/y为2/10～3/10；所述第二高折射率介质膜层为Si3N4层或Nb2O5层或TiO2层；所述第一中折
射率介质膜层的厚度为80nm～100nm，所述第二高折射率介质膜层的厚度为15nm～55nm；所述第三低折射率介质膜层的厚度为70nm～90nm。本技术实施例通过采用特定的材料和布局，提高所述减反射膜玻璃的折射率，从而提高所述减反射膜玻璃的透过率，并且通过减小减反射膜的厚度，从而提高减反射膜玻璃的生产效率，降低生产成本。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本技术实施例技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1为本技术实施例提供的一种减反射膜玻璃的结构示意图；
[0020]图2为本技术实施例提供的一种减反射膜玻璃的另一结构示意图；
[0021]图3为本技术实施例提供的一种减反射膜玻璃的另一结构示意图。
具体实施方式
[0022]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0023]应当理解，当在本说明书和所附权利要求书中使用时，术语“包括”和“包含”指示所描述特征、整体、步骤、操作、元素和/或组件的存在，但并不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或其集合的存在或添加。
[0024]还应当理解，在此本技术说明书中所使用的术语仅仅是出于描述特定实施例的目的而并不意在限制本技术。如在本技术说明书和所附权利要求书中所使用的那样，除非上下文清楚地指明其它情况，否则单数形式的“一”、“一个”及“该”意在包括复数形式。
[0025]还应当进一步理解，在本技术说明书和所附权利要求书中使用的术语“和/或”是指相关联列出的项中的一个或多个的任何组合以及所有可能组合，并且包括这些组合。
[0026]下面请参见图1，图1为本技术实施例提供的一种减反射膜玻璃的结构示意图，包括依次层叠的玻璃基底110、第一中折射率介质膜层120、第二高折射率介质膜层130和第三低折射率介质膜层140；
[0027]所述第一中折射率介质膜层120的折射率为1.77～1.9，所述第二高折射率介质膜层130的折射率为2.0～2.5，所述第三低折射率介质膜层140的折射率为1.47～1.53；
[0028]所述第一中折射率介质膜层120为SiO
x
N
y
层，其中，x/y为2/10～3/10；所述第二高折射率介质膜层130为Si3N4层或Nb2O5层或TiO2层；所述第一中折射率介质膜层120的厚度为80nm～100nm，所述第二高折射率介质膜层130的厚度为15nm～55nm；所述第三低折射率介质膜层140的厚度为70nm～90nm。
[0029]本实施例中，在所述减反射膜玻璃的玻璃基底110上依次镀制所述第一中折射率
介质膜层120(也可称为底层介质层)、第二高折射率介质膜层130和第三低折射率介质膜层140，其中，所述第一中折射率介质膜层120主要用于与所述玻璃基片110进行连接，并且调节反射色性能以及阻挡玻璃中碱金属离子的扩散；所述第二高折射率介质膜层130主要用于调节膜层的干涉及外观颜色；所述第三低折射率介质层140主要用于调节膜层的干涉及反射颜色。
[0030]本实施例通过磁控溅射设备，在玻璃表面(即玻璃基底110)镀制多种无机材料复合膜，形成一种glass(即玻璃基底110)/中折射率膜层(即第一中折射率介质膜层120)/高折射率膜层(即第二高折射率介质膜层130)/低折射率膜层(即第三低折射率介质膜层140)本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种减反射膜玻璃，其特征在于，包括依次层叠的玻璃基底、第一中折射率介质膜层、第二高折射率介质膜层和第三低折射率介质膜层；所述第一中折射率介质膜层的折射率为1.77～1.9，所述第二高折射率介质膜层的折射率为2.0～2.5，所述第三低折射率介质膜层的折射率为1.47～1.53；所述第一中折射率介质膜层为SiO
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层，其中，x/y为2/10～3/10；所述第二高折射率介质膜层为Si3N4层或Nb2O5层或TiO2层；所述第一中折射率介质膜层的厚度为80nm～100nm，所述第二高折射率介质膜层的厚度为15nm～55nm；所述第三低折射率介质膜层的厚度为70nm～90nm。2.根据权利要求1所述的减反射膜玻璃，其特征在于，所述第三低折射率介质膜层为SiO2层。3.根据权利要求1所述的减反射膜玻璃，其特征在于，所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：谭小安，王琦，吕宜超，
申请(专利权)人：深圳南玻科技有限公司，
类型：新型
国别省市：