一种用于调整粉体烧结气氛的简易装置制造方法及图纸

技术编号:28071577 阅读:34 留言:0更新日期:2021-04-14 15:01
本实用新型专利技术公开了一种用于调整粉体烧结气氛的简易装置,包括基板和嵌入部件,所述基板的顶面设有把手,所述基板的底面开设有多个纵横交错布置的纵向卡槽和横向卡槽,所述纵向卡槽的两端和横向卡槽的两端均贯穿所述基板的对应两侧边部,所述嵌入部件与所述纵向卡槽连接且可沿所述纵向卡槽移动调整,所述嵌入部件与所述横向卡槽连接且可沿所述横向卡槽移动调整,所述嵌入部件包括用于将粉体分离成多块的板状嵌入部件以及用于插入粉体形成孔洞的柱状嵌入部件和锥状嵌入部件。采用本实用新型专利技术,能够选择搭配不同形状的嵌入部件及其数量,合理应对烧结时不同的气氛要求,而且嵌入部件能够在基板上灵活更换及分布,结构简单且适用范围广。适用范围广。适用范围广。

【技术实现步骤摘要】
一种用于调整粉体烧结气氛的简易装置


[0001]本技术属于粉体烧结
,特别是涉及一种用于调整粉体烧结气氛的简易装置。

技术介绍

[0002]随着工业生产的发展,各种粉体的使用量逐年增加,且对粉体灼烧的质量要求越来越高。如粉体的均匀性、球形度、一致性和稳定性。
[0003]从影响粉体灼烧的因素分析,要保证满足上述要求,需要稳定的温控装置和升温系统、合适可控的气流系统以及粉体自身混料的均匀度控制。而在上述因素中,通过控制合适可控的气流系统可以在变更较小、投入较少的情况使粉体灼烧得到改善。
[0004]气流系统较差的装置会使灼烧过程出现粉体内部局部温度过高,导致粉体颗粒在该区域生长过度,出现偏大和取相生长的情况;粉体颗粒间反应过程产生的气体未能及时排除会出现该区域产物浓度过高,抑制正反应的进行,导致粉体反应不充分;部分粉体对气氛要求过高,而粉体并未能与气体良好接触,导致反应物不足,抑制材料化学反应的正反应,同样会使粉体未得到充分生长。所以,在粉体生长方面,对于气氛的调整仍是一项关键性的工作。
[0005]现有的关于调整粉本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于调整粉体烧结气氛的简易装置,其特征在于,包括基板和嵌入部件,所述基板的顶面设有把手,所述基板的底面开设有多个纵横交错布置的纵向卡槽和横向卡槽,所述纵向卡槽的两端贯穿所述基板的纵向两侧边部,所述横向卡槽的两端贯穿所述基板的横向两侧边部,所述嵌入部件与所述纵向卡槽连接且可沿所述纵向卡槽移动调整,所述嵌入部件与所述横向卡槽连接且可沿所述横向卡槽移动调整,所述嵌入部件包括用于将粉体分离成多块的板状嵌入部件以及用于插入粉体形成孔洞的柱状嵌入部件和锥状嵌入部件。2.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员:林子琦范江蓝秋明张键鹏史镇洪简健明李宇东马真陈英胡先贵
申请(专利权)人:江门市科恒实业股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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