一进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线制造技术

本发明专利技术提供一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线，包括：底座，所述底座与壳体焊接固定，所述壳体一侧开设有若干玻璃插片架通道，所述玻璃插片架通道内螺栓固定安装有玻璃插片架，所述进架通道和出架通道分别与镀膜舱和转运舱开设的相应通道相连通；转运架，所述转运架活动安装在底座上，插片机械手，所述插片机械手用于夹取玻璃并将玻璃插片架上的玻璃转运至玻璃插架上，本发明专利技术通过在过渡真空腔体内设置插片装置，使过渡真空腔体内的真空度保持与镀膜腔体相近或一致的状态，大大减少了过渡真空腔体的过渡时间，有效提高了镀膜效率，克服了人工无法在低真空度的条件下工作的障碍，减轻了人工负担。减轻了人工负担。减轻了人工负担。

【技术实现步骤摘要】
一进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线


[0001]本专利技术涉及导电膜玻璃连续式磁控溅射镀膜设备
，具体为一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线。

技术介绍

[0002]现有技术中申请号为“CN201210543911.X”的一种多功能连续式磁控溅射镀膜装置，包括至少一个镀膜室，镀膜室内壁上具有用于磁控溅射镀膜的可交替使用的立式靶和倾斜靶，对应立式靶在镀膜室内设置移动式的立式基材承载架，对应倾斜靶在镀膜室内设置移动式的倾斜式基材承载架，通过在镀膜室的靶位口处设置可交替使用的立式靶和倾斜靶，并对应设置立式基材承载架和倾斜式基材承载架，使得镀膜基材在不同要求时可以选用不同的靶材进行镀膜，并且立式靶和倾斜靶的可交替使用，还可以使得镀膜室能适应更多规格的产品镀膜，提高镀膜装置的通用性。
[0003]但是上述该多功能连续式磁控溅射镀膜装置在使用过程中仍然存在较为明显的缺陷：1、上述装置在镀膜装置的前后端需要进行人工装片和卸片，由于磁控溅射室内部要求达到较高要求的真空度，因此玻璃插架在进入真空腔体内部需要在过渡真空腔体内进行中转，过渡真空本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种进口过渡真空腔体，其特征在于，包括：底座(1)，所述底座(1)与壳体(2)焊接固定，所述壳体(2)一侧开设有若干玻璃插片架通道(3)，所述玻璃插片架通道(3)内螺栓固定安装有玻璃插片架(4)，所述壳体(2)一侧分别开设有进架通道(5)和出架通道(6)，所述进架通道(5)和出架通道(6)分别与镀膜舱(7)和转运舱(8)开设的相应通道相连通；转运架(9)，所述转运架(9)活动安装在底座(1)上，所述转运架(9)通过平移机构(10)沿底座(1)进行纵向平移，所述转运架(9)上活动连接有玻璃插架(11)；插片机械手(12)，所述插片机械手(12)用于夹取玻璃并将玻璃插片架(4)上的玻璃转运至玻璃插架(11)上。2.根据权利要求1所述的一种进口过渡真空腔体，其特征在于：所述镀膜舱(7)、转运舱(8)及壳体(2)顶部均安装有真空泵(13)。3.根据权利要求1所述的一种进口过渡真空腔体，其特征在于：所述转运架(9)包括转运台(14)，所述转运台(14)两端通过支撑架(15)与顶部的插架吸附板(16)固定连接，所述转运台(14)上间隔均匀设置有若干转运辊轮(17)。4.根据权利要求3所述的一种进口过渡真空腔体，其特征在于：所述转运台(14)两侧沿转运架(9)平移方向开设有贯穿的螺纹通孔(...

【专利技术属性】
技术研发人员：倪植森，张少波，陈诚，杨金发，彭程，许波，钟汝梅，李俊琛，邵帅，罗丹，
申请(专利权)人：凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司，
类型：发明
国别省市：