具有视窗的光罩盒制造技术

本申请案涉及一种具有视窗的光罩盒。所述光罩盒的门包含具有透镜、侧壁及凸缘的视窗。所述视窗可在壳体与盖板之间定位或附贴在门内部。压缩密封件可与所述视窗结合使用。所述侧壁、所述凸缘及所述压缩密封件协作以在维持所期望的保护水平而不受外部污染物影响的同时在所述门中达成压缩配合。时在所述门中达成压缩配合。时在所述门中达成压缩配合。

【技术实现步骤摘要】
具有视窗的光罩盒


[0001]本专利技术大体来说涉及在半导体制造的光刻工艺中使用的存储、运输、运送及处理光罩及薄膜的容器。更确切来说，本专利技术涉及在容器的门中包含视窗的光罩容器。

技术介绍

[0002]在集成电路及其它半导体装置的制作中通常遇到的工艺步骤中的一者是光刻。广义来说，光刻涉及使用经图案化模板将专门制备的晶片表面选择性地暴露于辐射源以形成经蚀刻表面层。通常，经图案化模板是光罩，其是含有将重现在晶片上的图案的非常平坦的玻璃板。举例来说，可通过首先在晶片表面上沉积氮化硅，后续接着光敏液体聚合物或光致抗蚀剂的涂层来制备晶片表面。接下来，使紫外线(UV)光或极紫外线光(EUV)照射穿过或反射离开掩模或光罩的表面，以将所期望图案投射在光致抗蚀剂覆盖的晶片上。光致抗蚀剂中暴露于光的部分发生化学改性且在随后使晶片经受移除未暴露的光致抗蚀剂的化学介质时不受影响，从而使晶片上发生改性的光致抗蚀剂呈现出掩模上的图案的精确形状。然后，使晶片经受蚀刻工艺，所述蚀刻工艺移除氮化物层的暴露部分，而使晶片上的氮化物图案呈现出掩模的精确设计。此经蚀刻层单独地或与其本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光罩盒门，其包括：门壳体；门盖板，其固定到所述门壳体；孔口，其界定在所述门壳体中；及视窗，其包含透镜、侧壁及凸缘，其中所述视窗在所述门壳体与所述门盖板之间容纳在所述光罩盒门内，以使得可通过界定在所述门壳体中的所述孔口观察所述透镜。2.根据权利要求1所述的光罩盒门，其中所述门盖板包含额外孔口，以使得可从所述光罩盒门的底部观察所述透镜。3.根据权利要求1所述的光罩盒门，其中所述侧壁远离所述透镜而向下延伸且外接所述透镜，从而界定所述视窗的外周界。4.根据权利要求3所述的光罩盒门，其中所述侧壁远离所述透镜而向下延伸，以使得所述侧壁的下边缘接触所述门盖板的上表面。5.根据权利要求3所述的光罩盒门，其中所述侧壁远离所述透镜而向下延伸，以使得所述侧壁的下边缘位于所述门壳体的下表面与所述门盖板的上表面之间。6.根据权利要求1所述的光罩盒门，其中所述凸缘在所述视窗的外周界周围远离所述侧壁而向外延伸。7.根据权利要求1所述的光罩盒门，其中所述凸缘由形成在所述侧壁中的凹槽界定。8.根据权利要求1所述的光罩盒门，其中所述凸缘在所述视窗的外周界周围远离所述侧壁而向外延伸，且具有大于第二外周界的第一外周界。9.根据权利要求8所述的光罩盒门，其中所述透镜的下表面与所述凸缘的上表面之间界定有凹槽。10.根据权利要求1所述的光罩盒门，其中所述视窗、所述透镜及所述凸缘一体地形成在所述门盖板...

【专利技术属性】
技术研发人员：S，
申请(专利权)人：恩特格里斯公司，
类型：发明
国别省市：