光学膜及柔性显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及光学膜及柔性显示装置。本发明专利技术的课题在于提供具有高化学稳定性的光学膜。本发明专利技术的解决手段为下述光学膜，其为包含选自由聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂组成的组中的至少1种树脂的光学膜，该光学膜的利用飞行时间型二次离子质谱法得到的、碱金属的离子强度(I

【技术实现步骤摘要】
光学膜及柔性显示装置


[0001]本专利技术涉及光学膜及柔性显示装置。

技术介绍

[0002]目前，液晶显示装置、有机EL显示装置等图像显示装置在移动电话、智能手表这样的各种用途中被广泛利用。作为这样的图像显示装置的前面板，已使用了玻璃，但玻璃刚性非常强，容易破裂，因此难以作为例如柔性显示装置的前面板材料来利用。因此，作为代替玻璃的材料之一，研究了高分子材料的有效利用，例如正在研究使用聚酰亚胺系树脂的光学膜(例如专利文献1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2018-119132号公报

技术实现思路

[0006]专利技术所要解决的课题
[0007]这样的作为柔性显示装置的前面板材料来利用的光学膜在很多情况下以进一步层叠硬涂层等功能层而成的层叠体的形式被装配至显示装置中。功能层向光学膜的层叠有时经由将形成功能层的树脂的溶液涂覆于光学膜的工序来进行。此处，根据用于树脂溶液的溶剂的种类、光学膜与树脂溶液的接触时间的不同，有可能由于溶剂等所带来的化学影响而使光学膜的特性变化。
[0008]另外，对于光学膜而言，要求高的外观品质，尤其还期望异物、缺陷少。基于减少异物、缺陷为目的，在生产工序中实施用乙醇等有机溶剂对制造设备进行清扫的步骤。但是，用有机溶剂对例如导辊等制造设备进行清扫之后，由于残留于制造设备的有机溶剂与光学膜接触，从而使得光学膜的外观品质有时降低。
[0009]因此，本专利技术的课题在于提供：具有高化学稳定性的光学膜，其不易受到上述那样的与溶剂等的接触所造成的影响；及具备该光学膜的柔性显示装置。
[0010]用于解决课题的手段
[0011]为了解决上述课题，本申请的专利技术人着眼于树脂膜中包含的成分的种类和量，进行了深入研究。结果令人惊讶地发现，当光学膜中的利用飞行时间型二次离子质谱法得到的碱金属的离子强度(I
A
)相对于CH3的离子强度(I
CH3
)的比例(I
A
/I
CH3
)为0.2以上、并且Si的离子强度(I
Si
)相对于CH3的离子强度(I
CH3
)的比例(I
Si
/I
CH3
)为0.05以上时，容易提高光学膜的化学稳定性，从而完成了本专利技术。
[0012]即，本专利技术包括以下的优选方式。
[0013]〔1〕光学膜，其为包含选自由聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂组成的组中的至少1种树脂的光学膜，该光学膜的利用飞行时间型二次离子质谱法得到的、碱金属的离子强度(I
A
)相对于CH3的离子强度(I
CH3
)的比例(I
A
/I
CH3
)为0.2以上，并且，Si的离子强度(I
Si
)相对
于CH3的离子强度(I
CH3
)的比例(I
Si
/I
CH3
)为0.05以上。
[0014]〔2〕如前述〔1〕所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂为芳香族系树脂。
[0015]〔3〕如前述〔1〕或〔2〕所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂中的来自芳香族系单体的结构单元相对于全部结构单元的比例为60摩尔％以上。
[0016]〔4〕如前述〔1〕～〔3〕中任一项所述的光学膜，其厚度为10～100μm，全光线透过率为80％以上。
[0017]〔5〕如前述〔1〕～〔4〕中任一项所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂的重均分子量为200,000以上。
[0018]〔6〕如前述〔1〕～〔5〕中任一项所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂为聚酰胺酰亚胺树脂。
[0019]〔7〕如前述〔1〕～〔6〕中任一项所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂包含来自对苯二甲酸的结构单元。
[0020]〔8〕如前述〔1〕～〔7〕中任一项所述的光学膜，其为用于柔性显示装置的前面板的膜。
[0021]〔9〕柔性显示装置，其具备前述〔1〕～〔8〕中任一项所述的光学膜。
[0022]〔10〕如前述〔9〕所述的柔性显示装置，其还具备触摸传感器。
[0023]〔11〕如前述〔9〕或〔10〕所述的柔性显示装置，其还具备偏光板。
[0024]专利技术的效果
[0025]根据本专利技术，能够提供具有高化学稳定性的光学膜。
具体实施方式
[0026]以下，对本专利技术的实施方式详细地进行说明。需要说明的是，本专利技术的范围并不限定于此处说明的实施方式，可以在不超出本专利技术的主旨的范围内进行各种变更。
[0027]本专利技术的光学膜为包含选自由聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂组成的组中的至少1种树脂的光学膜，该光学膜的利用飞行时间型二次离子质谱法(TOF-SIMS)得到的、碱金属的离子强度(I
A
)相对于CH3的离子强度(I
CH3
)的比例(I
A
/I
CH3
)为0.2以上，并且，Si的离子强度(I
Si
)相对于CH3的离子强度(I
CH3
)的比例(I
Si
/I
CH3
)为0.05以上。
[0028]本专利技术的光学膜中，I
A
相对于I
CH3
的比例(I
A
/I
CH3
)及I
Si
相对于I
CH3
的比例(I
Si
/I
CH3
)是通过下述方式算出的：利用飞行时间型二次离子质谱法(Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry：本说明书中也称为“TOF-SIMS”)，测定光学膜的I
CH3
、I
A
及I
Si
，并使I
A
及I
Si
各自除以I
CH3
。需要说明的是，本说明书中，所谓利用飞行时间型二次离子质谱法测定的I
CH3
，设为测定数据中归属于CH3离子的峰的积分值，所谓I
A
，设为测定数据中归属于碱金属离子的峰的积分值，所谓I
Si
，设为测定数据中归属于Si离子的峰的积分值。需要说明的是，光学膜中包含1种碱金属的情况下，将归属于该碱金属离子的峰的积分值作为I
A
，光学膜中包含2种以上的碱金属的情况下，将归属于各碱金属离子的峰的积分值进行合计并作为I
A
即可。
[0029]TOF-SIMS为质谱法的一种，通过TOF-SIMS，能够以非常高的检测灵敏度得到试样的最外表面中存在的元素或分子种类，另外，也能够研究试样的最外表面中存在的元素或
分子种本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.光学膜，其为包含选自由聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂组成的组中的至少1种树脂的光学膜，所述光学膜的利用飞行时间型二次离子质谱法得到的、碱金属的离子强度(I
A
)相对于CH3的离子强度(I
CH3
)的比例(I
A
/I
CH3
)为0.2以上，并且，Si的离子强度(I
Si
)相对于CH3的离子强度(I
CH3
)的比例(I
Si
/I
CH3
)为0.05以上。2.如权利要求1所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂为芳香族系树脂。3.如权利要求1或2所述的光学膜，其中，聚酰亚胺系树脂及聚酰胺系树脂中的来自芳...

【专利技术属性】
技术研发人员：西冈宏司，杉山纮子，有村孝，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：