【技术实现步骤摘要】
处理方法和等离子体处理装置
[0001]本专利技术涉及处理方法和等离子体处理装置。
技术介绍
[0002]专利文献1中公开了关于使用微波的等离子体清洁的技术。在等离子体清洁中，通过等离子体中的自由基的化学作用和离子的物理作用实施清洁处理。
[0003]存在在电磁波的辐射口的附近电磁波能量集中，等离子体电子温度变高的倾向。由于等离子体电子温度上升，在电磁波的辐射口的附近发生因离子的撞击导致的损伤。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2017-157627号公报
技术实现思路
[0007]专利技术要解决的技术问题
[0008]本发提供一种能够维持等离子体电子密度并且降低等离子体电子温度的处理方法和等离子体处理装置。
[0009]用于解决技术问题的技术方案
[0010]依照本专利技术的一个方式，提供一种在处理基片的处理容器内使用等离子体进行的处理方法，其包括：将气体供给到上述处理容器内的步骤；和对上述处理容器内间歇...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种在处理基片的处理容器内使用等离子体进行的处理方法，其特征在于，包括：将气体供给到所述处理容器内的步骤；和对所述处理容器内间歇地供给从多个微波导入组件输出的微波的功率的步骤，所述间歇地供给微波的功率的步骤，周期性地使多个所述微波导入组件的所有微波的功率的供给成为关断给定时间的状态。2.如权利要求1所述的处理方法，其特征在于：所述间歇地供给微波的功率的步骤，将从多个所述微波导入组件输出的微波的功率的至少任一者的接通和关断的时机错开。3.如权利要求1或2所述的处理方法，其特征在于：所述间歇地供给微波的功率的步骤，在所述给定时间以外的时间，随机地设定从多个所述微波导入组件输出的微波的功率的接通和关断的时机。4.如权利要求1或2所述的处理方法，其特征在于：所述间歇地供给微波的功率的步骤，使从多个所述微...
【专利技术属性】
技术研发人员：池田太郎，上田博一，镰田英纪，芦田光利，军司勋男，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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