立体印刷设备制造技术

本发明专利技术公开了一种具有曝光装置(110)的立体印刷设备(100)，所述曝光装置包括：辐射元件(120)；遮蔽元件(130)，所述遮蔽元件具有基本上矩形的遮蔽区域(132)；光路(140)，所述光路位于辐射元件(120)和遮蔽区域(132)之间，所述光路具有线性部段(145)；强度均匀化装置(150)，所述强度均匀化装置具有第一反射表面、第二反射表面、第三反射表面和第四反射表面(1521、1522、1523、1524)。第一反射表面和第二反射表面(1521、1522)布置在线性部段(145)的相对侧上，并且第三反射表面和第四反射表面(1523、1524)布置在线性部段(145)的相对侧上。在强度均匀化装置(150)沿与线性部段(145)垂直相交的任一平面的横截面中，所述反射表面(1521、1522、1523、1524)遵循矩形的边界(156)。)遵循矩形的边界(156)。)遵循矩形的边界(156)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】立体印刷设备
专利

[0001]本专利技术涉及立体印刷式3D打印技术，也称为立体印刷式增材制造。特别地，本专利技术涉及具有基于光掩膜的曝光装置的立体印刷设备。

技术介绍

[0002]立体印刷技术是3D打印或增材制造技术，其中使用光辐射使合适的原材料光聚合以生产所需的目标物。原料以树脂形式进入加工过程。槽用于保持一定量的树脂，构建平台沿垂直方向移动，以使得要生产的目标物逐层增到构建平台的构建表面上。用于光聚合的光辐射可以从上方来自槽，在这种情况下，随着制造的进行，构建平台向下移动通过剩余的树脂。本说明书特别涉及立体印刷的所谓的“自下而上”的变型，其中，光聚合光辐射从下方来自槽，并且构建平台随着制造的进行向上移动远离剩余的树脂。
[0003]在立体印刷设备中，可以通过各种类型的曝光装置(例如，激光扫描装置，图像投影装置或基于光掩膜的曝光装置)来提供光辐射。通常，具有基于光掩膜的曝光布置的立体印刷设备可以提供高的构建速率和打印分辨率。
[0004]在传统的基于光掩膜的曝光装置中，辐射元件阵列被设置成紧邻矩形光掩膜，并且由辐射元件阵列发射本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种具有曝光装置(110)的立体印刷设备(100)，所述曝光装置包括：
‑
辐射元件(120)，所述辐射元件用于发射光辐射，
‑
遮蔽元件(130)，所述遮蔽元件具有基本上矩形的遮蔽区域(132)，用于通过部分地遮蔽来自所述辐射元件(120)的光辐射而形成曝光图案，
‑
光路(140)，所述光路位于辐射元件(120)和遮蔽区域(132)之间，所述光路(140)具有线性部段(145)，和
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强度均匀化装置(150)，所述强度均匀化装置具有第一反射表面、第二反射表面、第三反射表面和第四反射表面(1521、1522、1523、1524)；其中，第一反射表面和第二反射表面(1521、1522)布置在线性部段(145)的相对侧上，第三反射表面和第四反射表面(1523、1524)布置在线性部段(145)的相对侧上；其中，所述反射表面(1521、1522、1523、1524)构造成将来自辐射元件(120)的相对于线性部段(145)倾斜传播的光辐射收集到遮蔽区域(132)上；其中，对于每个所述反射表面(1521、1522、1523、1524)，从相对于线性部段(145)可垂直测量的距离(154)不会随沿着光路(140)距辐射元件(120)的距离的增加而减小；并且其中，在强度均匀化装置(150)沿与线性部段(145)垂直相交的任一平面的横截面中，反射表面(1521、1522、1523、1524)遵循矩形的边界(156)。2.根据权利要求1所述的立体印刷设备(100)，其中，所述辐射元件(120)包括辐射源，所述辐射源诸如为基本上朗伯辐射源，所述辐射源的辐射图案具有范围从110
°
到130
°
的半峰全宽(FWHM)角，所述半峰全宽角例如为约120
°
。3.根据前述权利要求中的任一项所述的立体印刷设备(100)，其中，所述遮蔽元件(130)包括液晶元件。4.根据权利要求3所述的立体印刷设备(100)，其中，所述液晶元件是透射型液晶元件。5.根据前述权利要求中的任一项所述的立体印刷设备(100)，其中，所述光路(140)是基本上线性的。6.根据前述权利要求中的任一项所述的立体印刷设备(100)，其中，所述光路(140)与所述遮蔽区域(132)的中心垂直相交。7.根据前述权利要求中的任一项所述的立体印刷设备(100)，其中，所述第一反射表面和第二反射表面(1521、1522)是基本平面的。8.根据前述权利要求中任一项所述的立体印刷设备(...

【专利技术属性】
技术研发人员：T，
申请(专利权)人：普兰梅卡有限公司，
类型：发明
国别省市：