【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】衬底容器的膜扩散器相关申请案的交叉参考本申请案主张2018年8月28日申请的第62/723,979号美国临时申请案、2019年4月23日申请的第62/837,389号美国临时申请案及2019年7月16日申请的第62/874,647号美国临时申请案的权利,所有所述案的全部内容出于所有目的以引用方式并入本文中。
本专利技术涉及用于运输或存储衬底的系统,其包含容器及用于将所述容器内的环境净化到所要水平的相对湿度、氧气及气悬微粒的系统。
技术介绍
一般来说,在处理晶片或衬底之前、处理晶片或衬底期间及处理晶片或衬底之后,利用专用载体或容器来运输及/或存储批量硅晶片或衬底。如本文中所使用,术语衬底可是指半导体晶片、磁盘、平板衬底及其它此类衬底的一或多者。此类容器大体上经配置以将衬底轴向布置于插槽中且通过其外围边缘或在其外围边缘附近将衬底支撑于插槽中。衬底通常可在径向方向上从容器向上或横向移除。用于传送晶片或衬底的示范性容器可包含前开式晶圆传送盒(FOUP)或前开式晶圆运输盒(FOSB)。在某些配置中,衬底载体的容 ...
【技术保护点】
1.一种用于运输衬底的系统中的净化扩散器,其包括:/ni)净化扩散器核心,其具有内部净化气体通道、一或多个扩散器端口及外表面;/nii)过滤介质,其固定到所述净化扩散器核心的所述外表面;及/niii)净化端口连接器,其用于将所述净化扩散器安装到用于运输衬底的衬底容器的净化端口;/n所述净化扩散器经布置使得存在连续路径来使通过所述净化端口连接器进入的净化气体进入所述内部净化气体通道,通过所述扩散器端口离开所述内部净化气体通道,且通过所述过滤介质。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180828 US 62/723,979;20190423 US 62/837,389;20191.一种用于运输衬底的系统中的净化扩散器,其包括:
i)净化扩散器核心,其具有内部净化气体通道、一或多个扩散器端口及外表面;
ii)过滤介质,其固定到所述净化扩散器核心的所述外表面;及
iii)净化端口连接器,其用于将所述净化扩散器安装到用于运输衬底的衬底容器的净化端口;
所述净化扩散器经布置使得存在连续路径来使通过所述净化端口连接器进入的净化气体进入所述内部净化气体通道,通过所述扩散器端口离开所述内部净化气体通道,且通过所述过滤介质。
2.根据权利要求1所述的净化扩散器,其中所述净化扩散器核心是单体物件。
3.根据权利要求1所述的净化扩散器,其中所述净化扩散器核心是包括可注射模制、可熔融处理聚合物的单体物件。
4.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的净化扩散器,其中所述过滤介质通过焊接接合剂来直接接合到所述净化扩散器核心的所述外表面。
5.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的净化扩散器,其中所述过滤介质由黏着剂来固定到所述净化扩散器核心的所述外表面。
6.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的净化扩散器,其进一步包括安置于所述过滤介质上的稀纱布。
7.根据权利要求1到6中任一权利要求所述的净化扩散器,其中所述过滤介质是包括聚烯烃、聚酯、聚砜或含氟聚合物的多孔疏水薄膜。
8.根据权利要求1到6中任一权利要求所述的净化扩散器,其中所述过滤介质是包括聚烯烃、聚酯、聚砜或含氟聚合物的疏水膜。
9.根据权利要求1到8中任一权利要求所述的净化扩散器,其中所述过滤介质是疏水超高分子量聚乙烯膜。
10.根据权利要求1到9中任一权利要求所述的净化扩散器,其中所述净化扩散器核心另外包括一或多个转向器,所述一或多个转向器从界接所述内部净化气体通道的所述净化扩散器核心的内表面突出到所述内部净化气体通道中。
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【专利技术属性】
技术研发人员:M·V·史密斯,N·西伦,M·A·富勒,M·C·扎布卡,文圣仁,J·P·普利亚,
申请(专利权)人:恩特格里斯公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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