感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法技术

本发明专利技术能够提供一种LER性能及崩塌抑制能力优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明专利技术的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过酸的作用而极性增大的树脂及通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物，该感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，树脂具有由通式(B‑1)表示的重复单元。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法
本专利技术涉及一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。
技术介绍
以往，在IC(IntegratedCircuit，集成电路)及LSI(LargeScaleIntegratedcircuit、大规模集成电路)等的半导体器件的制造工序中，通过使用抗蚀剂组合物(以下，也称为“感光化射线性或感放射线性树脂组合物”。)的微影术进行微细加工。近年来，伴随着集成电路的高集成化，逐步要求形成次微米区域或四分之一微米区域的超微细图案。伴随于此，发现曝光波长还有如下倾向：自g射线变为i射线进而变为KrF准分子激光的短波长化的倾向。进而，目前还正进行除了准分子激光以外，使用EB(ElectronBeam，电子束)、X射线或EUV(ExtremeUltraViolet，极紫外线)光的微影术的开发。例如，专利文献1中公开了一种放射线感光材料，其特征在于，由在单元结构包含由下述通式表示的衣康酸酐及包含通过酸产生碱可溶性基的单元结构的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其包含：/n树脂，通过酸的作用而极性增大；及/n化合物，通过光化射线或放射线的照射产生酸，/n所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，所述树脂具有由通式(B-1)表示的重复单元，/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180907 JP 2018-168170;20190222 JP 2019-0305871.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其包含：
树脂，通过酸的作用而极性增大；及
化合物，通过光化射线或放射线的照射产生酸，
所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中，所述树脂具有由通式(B-1)表示的重复单元，



在通式(B-1)中，X表示-CO-、-SO-或-SO2-，
R1～R3分别独立地表示氢原子或有机基团，
L表示具有杂原子作为环元素原子的2价的连接基。


2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，
由通式(B-1)表示的重复单元为由通式(B-2)表示的重复单元，



在通式(B-2)中，X表示-CO-、-SO-或-SO2-，
Y表示-O-、-S-、-SO-、-SO2-或-NR6-，
R1～R6分别独立地表示氢原子或有机基团。


3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，
R2及R3中的至少一者为吸电子基团。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，
R2及R3两者为吸电子基团。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，
R2及R3中的至少一者为具有氟原子的吸电子基团。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，
由通式(B-...

【专利技术属性】
技术研发人员：八木一成，金子明弘，川岛敬史，后藤研由，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP