涂敷装置制造方法及图纸

技术编号:28047348 阅读:45 留言:0更新日期:2021-04-09 23:35
涂敷头具备:涂敷液室,其填充有所述涂敷液;以及喷嘴室,其是从所述涂敷液室连续的流路,其前端开口是所述排出口。控制部具备排出参数决定部,该排出参数决定部将能够与所述涂敷头的排出动作并行地从涂敷液供给部向所述涂敷液室内补给的所述涂敷液的每单位时间的体积作为补给流量,根据所述补给流量和所述喷嘴室的容积,决定所述液滴从所述涂敷头连续排出的连续排出期间的排出参数。所述连续排出期间包含从所述排出口排出的所述涂敷液的每单位时间的体积比所述补给流量大的增量排出期间,并且,在所述连续排出期间从所述排出口排出的所述涂敷液的总体积为所述喷嘴室的容积与在所述连续排出期间从所述涂敷液供给部向所述涂敷液室内补给的所述涂敷液的总体积的和以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】涂敷装置
本专利技术涉及涂敷装置。
技术介绍
以往,在向对象物上涂敷涂敷液时,使用涂敷装置。在涂敷装置的涂敷头中,在涂敷液室填充有涂敷液,例如使用压电元件(piezoelectricelement)向涂敷液室内的涂敷液赋予压力,由此涂敷液的液滴从与涂敷液室连续的排出口排出。而且,涂敷液室连接有涂敷液罐,从而与涂敷头的排出动作并行地从涂敷液罐向涂敷液室内补给涂敷液。另外,在日本公开公报特开2000-308843号公报中,公开了如下方法:在对容器内的材料施加空气压力从而使材料从针滴下的分配器中,在针的排出口设置缺口部和凸部,由此缩短材料的滴下所需的时间。专利文献1:日本公开公报特开2000-308843号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题但是,在涂敷装置中,考虑在高速地涂敷涂敷液的情况下,从排出口排出液滴的排出频率变高的情况。然而,从涂敷液罐向涂敷液室内补给的涂敷液的补给流量存在依赖于涂敷液的粘度等的一定的界限,因此在以较高的排出频率排出液滴的情况下,在从涂敷液室到排出口的喷嘴室中没有涂敷液。在该情本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂敷装置,其具备:/n涂敷头,其从排出口排出涂敷液的液滴;/n涂敷液供给部,其向所述涂敷头供给所述涂敷液;以及/n控制部,其控制所述液滴从所述涂敷头的排出,/n所述涂敷头具备:/n涂敷液室,其填充有所述涂敷液;/n喷嘴室,其是从所述涂敷液室连续的流路,其前端开口是所述排出口;以及/n排出机构,其使所述液滴从所述排出口排出,/n所述控制部具备排出参数决定部,该排出参数决定部将能够与所述涂敷头的排出动作并行地从所述涂敷液供给部向所述涂敷液室内补给的所述涂敷液的每单位时间的体积作为补给流量,根据所述补给流量和所述喷嘴室的容积,决定所述液滴从所述涂敷头连续排出的连续排出期间的排出参数,/n所述...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180831 JP 2018-1625291.一种涂敷装置,其具备:
涂敷头,其从排出口排出涂敷液的液滴;
涂敷液供给部,其向所述涂敷头供给所述涂敷液;以及
控制部,其控制所述液滴从所述涂敷头的排出,
所述涂敷头具备:
涂敷液室,其填充有所述涂敷液;
喷嘴室,其是从所述涂敷液室连续的流路,其前端开口是所述排出口;以及
排出机构,其使所述液滴从所述排出口排出,
所述控制部具备排出参数决定部,该排出参数决定部将能够与所述涂敷头的排出动作并行地从所述涂敷液供给部向所述涂敷液室内补给的所述涂敷液的每单位时间的体积作为补给流量,根据所述补给流量和所述喷嘴室的容积,决定所述液滴从所述涂敷头连续排出的连续排出期间的排出参数,
所述连续排出期间包含从所述排出口排出的所述涂敷液的每单位时间的体积比所述补给流量大的增量排出期间,并且,在所述连续排出期间从所述排出口排出的所述涂敷液的总体积为所述喷嘴室的容积与在所述连续排出期间从所述涂敷液供给部向所述涂敷液室内补给的所述涂敷液的总体积的和以下。


2.根据权利要求1所述的涂敷装置,其中,
在所述连续排出期间中的除了所述液滴的排出时的期间内,所述涂敷液的液面形成于所述喷嘴室内。


3.根据权利要求1或2所述的涂敷装置,其中,
在所述连续排出期间中设定从所述排出口排出的所述涂敷液的每单位时间的体积为所述补给流量以下的恒定量的定量排出期间,所述连续排出期间中的初期为所述增量排出期间,剩余的期间为所述定量排出期间。
...

【专利技术属性】
技术研发人员:李鹏抟中谷政次
申请(专利权)人:日本电产株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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