一种硅基光电子一体化成像系统技术方案

技术编号:28046329 阅读:37 留言:0更新日期:2021-04-09 23:32
本发明专利技术公开了一种硅基光电子一体化成像系统,该系统包括前端透镜组、成像模块和计算图像处理模块;其特征在于,所述前端透镜组包括按照光入射方向依次排列的超透镜、超表面准直透镜和平面硅基光波导;所述超透镜以硅为基底,通过设计超透镜表面的纳米柱的参数,实现对通过光波的振幅、相位、偏振的调控;所述平面硅基光波导中含有具有表面等离子基元放大作用的贵金属纳米粒子;光束依次通过超透镜、超表面准直透镜和平面硅基光波导入射到成像模块,成像模块与计算图像处理模块相连。本发明专利技术能够对光波的振幅、相位、偏振进行灵活的调控,从而最大限度的实现光电一体化成像。

【技术实现步骤摘要】
一种硅基光电子一体化成像系统
本专利技术涉及光电子
,具体涉及一种硅基光电子一体化成像系统。
技术介绍
传统光学成像系统的成像原理与人眼类似,通过前端透镜阵列将光线聚焦到光感探测器,然后基于光强分布生成目标图像。美国“锁眼”光学侦察卫星以及“哈勃”太空望远镜均采用这一成像原理。但这些光学系统均是通过控制光束在给定折射率介质中传播的光程来实现对波面的相位、振幅和偏振进行调控的。基于这种方式,相位和偏振的变化是通过光束在透镜或波片等光学元件中的传播积累而成的。因此,传统光学元件在对波面的控制方面具有很强的局限性,为了保证光程的累积量,光学元件的尺寸和厚度都受到了限制,并且为了保证波面调控的精确度和准确性,对元件加工的精确度要求也很高。而且现有的光学系统,由于加工工艺不兼容的原因,样品集成度较低,难以实现一体化集成。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供了一种硅基光电子一体化成像系统,能够对光波的振幅、相位、偏振进行灵活的调控,从而最大限度的实现光电一体化成像。为了解决上述技术问题,本专利技术是这样实现的。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅基光电子一体化成像系统,该系统包括前端透镜组、成像模块(4)和计算图像处理模块(5);其特征在于,所述前端透镜组包括按照光入射方向依次排列的超透镜(1)、超表面准直透镜(2)和平面硅基光波导(3);所述超透镜(1)以硅为基底,通过设计超透镜表面的纳米柱的参数,实现对通过光波的振幅、相位、偏振的调控;所述平面硅基光波导(3)中含有具有表面等离子基元放大作用的贵金属纳米粒子;光束依次通过超透镜(1)、超表面准直透镜(2)和平面硅基光波导(3)入射到成像模块(4),成像模块(4)与计算图像处理模块(5)相连。/n

【技术特征摘要】
1.一种硅基光电子一体化成像系统,该系统包括前端透镜组、成像模块(4)和计算图像处理模块(5);其特征在于,所述前端透镜组包括按照光入射方向依次排列的超透镜(1)、超表面准直透镜(2)和平面硅基光波导(3);所述超透镜(1)以硅为基底,通过设计超透镜表面的纳米柱的参数,实现对通过光波的振幅、相位、偏振的调控;所述平面硅基光波导(3)中含有具有表面等离子基元放大作用的贵金属纳米粒子;光束依次通过超透镜(1)、超表面准直透镜(2)和平面硅基光波导(3)入射到成像模块(4),成像模块(4)与计算图像处理模块(5)相连。


2.根据权利要求1所述的一种硅基光电子一体化成像系统,其特征在于:该系统包括2个所述前端透镜组;所述成像模块(4)采用CMOS干涉成像模块;2个前端透镜组出射的光波共同入射到CMOS干涉成像模块产生干涉。


3.根据权利要求1所述的一种硅基光电子一体化成像系统,其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐碧洁姜明勇易辉杜姝函王昊月王得成陈向宁
申请(专利权)人:中国人民解放军战略支援部队航天工程大学
类型:发明
国别省市:北京;11

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