【技术实现步骤摘要】
一种甘薯茎叶晒后修复面膜及其制备方法
本专利技术属于化妆品
,具体涉及一种甘薯茎叶晒后修复面膜及其制备方法。
技术介绍
紫外线辐射是大多数皮肤疾病的主要原因,包括皮肤癌。近年来,紫外线诱导的皮肤癌的发病率在全世界急剧上升。紫外线根据波长可分为三段,分别为紫外线A(UVA,320-400nm),紫外线B(UVB,280-320nm),紫外线C(UVC,200-280nm)。大多数UVC可以在到达地球表面之前被臭氧层吸收,而UVA和UVB都能够穿透大气并造成皮肤累积损伤。UVA和UVB辐射引起的突变性DNA损伤主要有两类:以胸腺嘧啶二聚体为主要亚群的环丁烷吡啶二聚体(CPDs)的形成和6-4光产物(6-4pps)的形成。它们是细胞受紫外线损伤后产生的特征性光产物。紫外线辐射是导致各种皮肤疾病,包括非黑色素瘤和黑色素瘤皮肤癌的主要原因。涂抹防晒霜是保护皮肤免受紫外线辐射危害的重要途径之一,但是即使涂抹了防晒霜,被太阳晒过的肌肤仍会处于严重的缺水状态,只有及时修复并补充水分,才能在晒后依旧拥有好肤质。使用晒后修复面膜是 ...
【技术保护点】
1.一种甘薯茎叶晒后修复面膜,其特征在于,制备所述面膜的原料包括甘薯茎叶粉0.5~2.0份,基底油10~20份,甘油5~15份,乳化剂2~5份,抑菌剂0.2~0.8份,去离子水70~90份;所述基底油为橄榄油或鳄梨油。/n
【技术特征摘要】
1.一种甘薯茎叶晒后修复面膜,其特征在于,制备所述面膜的原料包括甘薯茎叶粉0.5~2.0份,基底油10~20份,甘油5~15份,乳化剂2~5份,抑菌剂0.2~0.8份,去离子水70~90份;所述基底油为橄榄油或鳄梨油。
2.根据权利要求1所述的晒后修复面膜,其特征在于,所述甘薯茎叶粉由将甘薯茎叶经灭酶、干燥和粉碎后制备得到。
3.根据权利要求1所述的晒后修复面膜,其特征在于,粉碎后所述甘薯茎叶的粒度为150~200目。
4.根据权利要求1所述的晒后修复面膜,其特征在于,所述乳化剂为赛比克305、卵磷脂、二辛基十二醇月桂酰谷氨酸酯中的一种或两种,优选赛比克305。
5.根据权利要求1所述的晒后修复面膜,其特征在于,所述抑菌剂为苯氧乙醇、山梨酸、尼泊金甲酯中的一种或多种,优选苯氧乙醇。
6.根据权利要求1或2所述的晒后修复面膜,其特征在于,制备所述面膜的原料包括甘薯茎叶粉0.5~2....
【专利技术属性】
技术研发人员:孙红男,木泰华,洪晶阳,马梦梅,陈井旺,张苗,
申请(专利权)人:中国农业科学院农产品加工研究所,
类型:发明
国别省市:北京;11
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