一种高像素大靶面工业镜头制造技术

本发明专利技术公开一种高像素大靶面工业镜头，包括光学系统，光学系统由物方到像方依次设置具有正光焦度的调焦组和具有负光焦度的固定组，调焦组包括具有正光焦度的前组、具有正光焦度的中组、光阑、具有正光焦度的后组，光学系统的焦距f，调焦组的焦距为f

【技术实现步骤摘要】
一种高像素大靶面工业镜头
本专利技术属于光学成像
，具体涉及一种高像素大靶面工业镜头的光学系统。
技术介绍
随着工业镜头的不断迭代发展，小靶面工业镜头已无法满足大型机械制造、纺织、印刷、显示器制造等行业检测。急需更大靶面的工业镜头来满足大型制造业。与此同时，相机芯片也在往大尺寸、高分辨率的方向发展，目前市面上已经出现IMX411芯片，其最大芯片尺寸有像元尺寸为3.76μm，高达一亿五千万像素。相应地也就对镜头的光学性能提出了更高的要求，然而目前市面上能够与之匹配大靶面的光学镜头很少，或是在分辨率方面有所不足。因此对于高分辨率、大靶面的工业镜头的研发就更为迫切。
技术实现思路
鉴于相关技术中存在的问题，本申请的目的在于提供具有较高的分辨率的光学镜头，最高分辨率可达140lp/mm，可匹配3.57μm像元芯片，最大靶面尺寸为同时具有低畸变性能。为了实现上述目的，本申请提供一种高像素大靶面工业镜头，包括光学系统，所述光学系统由物方到像方依次设置具有正光焦度的调焦组S1和具有负光焦度的固定组S2；其中，调焦组S本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高像素大靶面工业镜头，其特征在于：包括光学系统，所述光学系统由物方到像方依次设置具有正光焦度的调焦组S1和具有负光焦度的固定组S2；其中，调焦组S1包括具有正光焦度的前组T1、具有正光焦度的中组T2、光阑、具有正光焦度的后组T3；/n所述前组T1包括具有负光焦度、弯月结构的第一透镜G1；具有负光焦度、双凹结构的第二透镜G2；具有正光焦度、双凸结构的第三透镜G3；具有负光焦度、弯月结构的第四透镜G4；具有正光焦度、弯月结构的第五透镜G5；其中，第二透镜G2和第三透镜G3胶合成具有正光焦度的第一胶合透镜组U1，第四透镜G4和第五透镜G5胶合成具有正光焦度的第二胶合透镜组U2；/n所述中组T...

【技术特征摘要】
1.一种高像素大靶面工业镜头，其特征在于：包括光学系统，所述光学系统由物方到像方依次设置具有正光焦度的调焦组S1和具有负光焦度的固定组S2；其中，调焦组S1包括具有正光焦度的前组T1、具有正光焦度的中组T2、光阑、具有正光焦度的后组T3；
所述前组T1包括具有负光焦度、弯月结构的第一透镜G1；具有负光焦度、双凹结构的第二透镜G2；具有正光焦度、双凸结构的第三透镜G3；具有负光焦度、弯月结构的第四透镜G4；具有正光焦度、弯月结构的第五透镜G5；其中，第二透镜G2和第三透镜G3胶合成具有正光焦度的第一胶合透镜组U1，第四透镜G4和第五透镜G5胶合成具有正光焦度的第二胶合透镜组U2；
所述中组T2包括具有负光焦度、双凹结构的第六透镜G6；具有正光焦度、双凸结构的第七透镜G7，其中，第六透镜G6和第七透镜G7胶合成具有正光焦度的第三胶合透镜组U3；
所述后组T3包括具有负光焦度、双凹结构的第八透镜G8；具有正光焦度、双凸结构的第九透镜G9；具有正光焦度、双凸结构的第十透镜G10；其中，第八透镜G8和第九透镜G9胶合成具有负光焦度的第四胶合透镜组U4；
所述固定组S2包括具有正光焦度、弯月结构的第十一透镜G11；具有负光焦度、弯月结构的第十二透镜G12；
所述光学系统的焦距为f，所述调焦组S1的焦距为fS1，所述固定组S2的焦距为fS2，分别满足关系式：0.85<|fS1/f|<1.20，36.00<|fS2/f|<38.00。


2.根据权利要求1所述的高像素大靶面工业镜头，其特征在于：所述光学系统的第一透镜G1的前表面顶点到第十二透镜G12后表面顶点的距离L与光学系统的焦距f满足关系式：|L/f|>1.85。


3.根据权利要求1所述的高像素大靶面工业镜头，其特征在于：所述光学系统的光学后截距BFL与光学系统的焦距f满足关系式：|BFL/f|＜1.15；所述光学系统的半像高y`与光学系统的焦距f满足关系式：|y`/f|＜0.65。


4.根据权利要求1所述的高像素大靶面工业镜头...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾振煌，林佳敏，卢盛林，
申请(专利权)人：广东奥普特科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44