一种可调节的氧化镓清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及氧化镓生产技术领域，且公开了一种可调节的氧化镓清洗装置，包括底座，所述底座的内腔固定安装有固定板，所述固定板底部的左右两侧均固定安装有伸缩杆。该可调节的氧化镓清洗装置，通过设置驱动电机，当需要调整清洗池的高度时，只需通过控制面板将驱动电机启动，使转动轮旋转，通过传动皮带带动从动轮转动，使得转杆在两个限位杆的限制下稳定转动，带动其左右两侧的转动锥齿转动，通过啮合带动啮合锥齿转动，使得转动套杆转动，由于在转动套杆内开设有与螺杆相适配的螺纹孔，在转动套杆转动的过程中，螺杆受其螺纹推力而上下移动，推动调节板上下移动，从而灵活调节清洗池的高度，使设备达到便于调节高度的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种可调节的氧化镓清洗装置
本技术涉及氧化镓生产
，具体为一种可调节的氧化镓清洗装置。
技术介绍
氧化镓别名三氧化二镓，氧化镓是一种宽禁带半导体，Eg=4.9eV，其导电性能和发光特性长期以来一直引起人们的注意，Ga2O3是一种透明的氧化物半导体材料，在光电子器件方面有广阔的应用前景，被用作于Ga基半导体材料的绝缘层，以及紫外线滤光片，它还可以用作O2化学探测器。在氧化镓生产的过程中，需要先对其原料进行清洗和加工，目前现有的氧化镓清洗装置一般存在着不便于调节高度的缺点，由于缺少相应的高度调节机构，使得用户无法根据自己的实际使用需求对氧化镓清洗装置的高度进行调节，从而使清洗效率受到影响，不能更好的满足人们的使用需求，故而提出一种可调节的氧化镓清洗装置来解决上述所提出的问题。
技术实现思路
（一）解决的技术问题针对现有技术的不足，本技术提供了一种可调节的氧化镓清洗装置，具备便于调节高度等优点，解决了目前现有的氧化镓清洗装置一般存在着不便于调节高度的缺点，由于缺少相应的高度调节机构，使得用户无法根据自己的实际使用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可调节的氧化镓清洗装置，包括底座（8），其特征在于：所述底座（8）的内腔固定安装有固定板（21），所述固定板（21）底部的左右两侧均固定安装有伸缩杆（1），两个所述伸缩杆（1）之间的底部固定安装有缓冲板（6），所述缓冲板（6）的左右两侧均固定安装有一端与底座（8）活动连接的滑块（7），所述缓冲板（6）底部的左右两侧均固定安装有移动轮（5），所述缓冲板（6）的顶部固定安装有一端与固定板（21）固定连接的缓冲弹簧（4），所述固定板（21）顶部的左右两侧均固定安装有限位杆（16），两个所述限位杆（16）之间活动安装有转杆（2），所述转杆（2）的左右两侧均固定安装有转动锥齿（15），所述转杆（...

【技术特征摘要】
1.一种可调节的氧化镓清洗装置，包括底座（8），其特征在于：所述底座（8）的内腔固定安装有固定板（21），所述固定板（21）底部的左右两侧均固定安装有伸缩杆（1），两个所述伸缩杆（1）之间的底部固定安装有缓冲板（6），所述缓冲板（6）的左右两侧均固定安装有一端与底座（8）活动连接的滑块（7），所述缓冲板（6）底部的左右两侧均固定安装有移动轮（5），所述缓冲板（6）的顶部固定安装有一端与固定板（21）固定连接的缓冲弹簧（4），所述固定板（21）顶部的左右两侧均固定安装有限位杆（16），两个所述限位杆（16）之间活动安装有转杆（2），所述转杆（2）的左右两侧均固定安装有转动锥齿（15），所述转杆（2）的外侧固定安装有从动轮（3），所述底座（8）的顶部固定安装有工作台（11），所述固定板（21）顶部的左右两侧均活动安装有一端与工作台（11）活动连接的转动套杆（10），所述转动套杆（10）外侧的底部固定安装有一端与转动锥齿（15）相啮合的啮合锥齿（9），所述转动套杆（10）的顶部活动安装有螺杆（14），两个所述螺杆（14）之间的顶部固定安装有调节板（13），所述调节板（13）的顶部固定安装有清洗池（12），所述工作台（11）的顶部固定安装有驱动电机（19），所述驱动电机（19）的输出轴固定安装有转动轮（18），所述转动轮（18）与从动轮（3）的外侧传动连接有传动...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖迪，
申请(专利权)人：江苏利泷半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32