层叠体及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种在具有防污层的层叠体中容易维持良好的防污性的层叠体及其制造方法。层叠体依次层叠有基材层、底漆层和防污层。层叠体中，防污层中的与底漆层侧相反的一侧的表面的算术平均粗糙度Ra

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】层叠体及其制造方法
本专利技术涉及层叠体及其制造方法。
技术介绍
智能手机、平板终端等便携式电子设备中，为了保护触控面板，在触控面板表面贴合保护膜。已知由于对这样的保护膜要求不易附着指纹、污垢的性质、即便附着了指纹、污垢也容易擦拭的性质等防污性而在保护膜的最外表面设置防污层(例如，专利文献1、2等)。专利文献1和2中记载了利用对防污剂进行真空蒸镀的方法、进行湿式涂布的方法而形成防污层。真空蒸镀由于通常在真空室内进行，因此会以分批的方式进行生产，存在生产效率降低的趋势。认为由于利用湿式涂布等湿式法形成防污层时能够连续生产，因此能够提高生产效率。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利第5468167号公报专利文献2：日本特开2017－52901号公报
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供在具有防污层的层叠体中容易维持良好的防污性的层叠体及其制造方法。本专利技术提供以下的层叠体及其制造方法。〔1〕一种层叠体，依次层叠有基材层、底漆层和防污层，上述防污层中的与上述底本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种层叠体，依次层叠有基材层、底漆层和防污层，/n所述防污层中的与所述底漆层侧相反的一侧的表面的算术平均粗糙度Ra

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180903 JP 2018-164387;20190130 JP 2019-0141811.一种层叠体，依次层叠有基材层、底漆层和防污层，
所述防污层中的与所述底漆层侧相反的一侧的表面的算术平均粗糙度Ra3为8nm以下，
所述防污层中的与所述底漆层侧相反的一侧的表面的水接触角为105°以上。


2.一种层叠体，依次层叠有基材层、底漆层和防污层，
所述底漆层中的所述防污层侧的表面的算术平均粗糙度Ra1为6nm以下。


3.根据权利要求2所述的层叠体，其中，所述防污层中的与所述底漆层侧相反的一侧的表面的算术平均粗糙度Ra3为8nm以下。


4.根据权利要求2或3所述的层叠体，其中，所述算术平均粗糙度Ra1与所述基材层中的所述底漆层侧的表面的算术平均粗糙度Ra2之差的绝对值为5nm以下。


5.根据权利要求1～4中任一项所述的层叠体，其中，所述基材层在所述底漆层侧具有硬涂层。


6.根据权利要求1～5中任一项所述的层叠体，其中，所述基材层为透明基材。


7.根据权利要求1～6中任一项所述的层叠体，其中，所述基材层中的所述底漆层侧的表面的算术平均粗糙度Ra2为6nm以下。

【专利技术属性】
技术研发人员：洪承柏，朴一雨，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP