空间光调制器及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种空间光调制器，包括：反射层，用于对入射波进行反射；调制层，设置在所述反射层上，所述调制层的光学性质可调节，包括像素调制单元；电极层，设置在所述调制层上，包括调制电极，所述调制电极设置在所述像素调制单元上，所述调制电极通过改变施加在所述像素调制单元的电压完成改变调制层的光学性质，具有稳定性高，鲁棒性高，使用寿命长和调制速度高的特点。本发明专利技术还公开了一种空间光调制器的制备方法，通过采用调制电极通过改变像素调制单元的电压完成改变调制层的光学性质，进而实现对光波的调制，相较于液晶空间光调制器，具有加工步骤少、加工难度低、成品率高，生产成本低的有益效果。

【技术实现步骤摘要】
空间光调制器及其制备方法
本专利技术涉及光学领域，特别是涉及一种空间光调制器及其制备方法。
技术介绍
光学信息处理技术以光学器件为基础，利用光波承载信息，采用并行方式处理信息，具有信息容量大、信息处理速度快的优点，在飞速发展的信息时代具有重要的应用价值，在光通信、生物传感器、光学计算机和数字全息成像等领域具有重要作用。空间光调制器在光学信息处理系统中是一种重要的光学器件，具有多个像素单元，能够调节光波的振幅和相位等光学参量，使光学参量在空间中形成一维或二维分布。目前空间光调制器的种类主要是液晶空间光调制器。液晶空间光调制器的主要功能材料是液晶，还包括导向层和封框胶。封框胶等连接结构容易移动，存在固定稳定性弱的问题。液晶的使用温度通常不超过50℃。液晶、导向层和封框胶都是温度稳定性较低的有机物，在光照和较高温度下使用容易老化，存在使用温度低、使用寿命短的问题。液晶空间光调制器的调制机理通常采用液晶的电致双折射效应，由于液晶材料、液晶层的厚度的最小均匀性和液晶层最小厚度的限制，液晶空间光调制器存在调制速度低的缺点，调制速度通常在百赫兹量级。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种空间光调制器，其特征在于，包括：/n反射层，用于对入射波进行反射；/n调制层，设置在所述反射层上，所述调制层的光学性质可调节，包括像素调制单元；/n电极层，设置在所述调制层上，包括调制电极，所述调制电极设置在所述像素调制单元上，所述调制电极通过改变施加在所述像素调制单元的电压完成改变调制层的光学性质。/n

【技术特征摘要】
1.一种空间光调制器，其特征在于，包括：
反射层，用于对入射波进行反射；
调制层，设置在所述反射层上，所述调制层的光学性质可调节，包括像素调制单元；
电极层，设置在所述调制层上，包括调制电极，所述调制电极设置在所述像素调制单元上，所述调制电极通过改变施加在所述像素调制单元的电压完成改变调制层的光学性质。


2.根据权利要求1所述的空间光调制器，其特征在于，所述调制电极的数量为多个，多个所述调制电极呈阵列排布在所述电极层上。


3.根据权利要求1所述的空间光调制器，其特征在于，所述反射层包括至少两层分层，每层所述分层的折射率均不同；所述反射层材质包括以下之一：导体、半导体或绝缘体。


4.根据权利要求3所述的空间光调制器，其特征在于，所述反射层的层数为偶数层，层数编号为奇数的分层的材质为SiO2，厚度为240nm的正整数倍，折射率为1.5；层数编号为偶数的分层的材质为Ta2O5，厚度为190nm的正整数倍，折射率为2.0。


5.根据权利要求1所述的空间光调制器，其特征在于，所述调制层的材质包括以下之一：热光材料、电光材料、声光材料或磁光材料。


6.根据权利要求1-5任一所述的空间光调制器，其特征在于，所述电极层还包括：
公共电极焊盘，通过引出电极与所述调制电极连接；
像素电极焊盘，通过引出电极与所述调制电极连接；
其中，所述公共电极焊盘与外接电源的负极连接，所述像...

【专利技术属性】
技术研发人员：田立飞，李智勇，
申请(专利权)人：中国科学院半导体研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11