一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠及其制备方法，由下述重量份的原料制成：四方多晶氧化锆65‑95份、四方多晶氧化锆10‑35份、氧化铝1‑5份，将所述的四方多晶氧化锆、四方多晶氧化锆、氧化铝充分混合得到A料；将A料经过滚动成球工艺，得到B料；将B料经高温窑炉进行烧制，自然冷却后得到C料；将C料经过粗抛光、精抛光工序获得D料；将D料经过干燥、自然晾干、分选、筛分工序获得氧化锆研磨珠成品；本发明专利技术能降低氧化锆陶瓷的烧结温度，同时提高氧化锆陶瓷的强度和韧性，使其具有优异的耐磨性，可以制成研磨介质延长产品的使用寿命，保护动态分离砂磨机的分离系统动静环。

【技术实现步骤摘要】
一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠及其制备方法
本专利技术属于无机非金属材料
，具体为一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠及其制备方法。
技术介绍
氧化锆陶瓷具有高韧性、高抗弯强度和高耐磨性，热膨胀系数接近于钢等优点，因此被广泛应用于结构陶瓷领域。主要用于3Y-TZP研磨球，球阀球座，光纤套筒，光纤插针，手表链、壳，手机背板等领域，砂磨机的锆珠与物料分离系统有静态分离(主要组成部分为筛网，依靠筛网的缝隙)和动态分离(主要组成部分为动环和静环，依靠动环和静环之间的缝隙)，动态分离设备需要氧化锆珠具有足够高的强度和韧性，才能保证在设备运转过程中锆珠不被动静环挤碎。
技术实现思路
本专利技术的目的就在于为了解决砂磨机的锆珠与物料分离系统有静态分离(主要组成部分为筛网，依靠筛网的缝隙)和动态分离(主要组成部分为动环和静环，依靠动环和静环之间的缝隙)，动态分离设备需要氧化锆珠具有足够高的强度和韧性，才能保证在设备运转过程中锆珠不被动静环挤碎的问题，而提出一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠及其制备方法；这种氧化锆研磨珠具有良好的韧性和高的机械强度，在使用过程中具有优良的耐磨性，使用寿命长，而且烧结成本较低，节约能耗。本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现：一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠，由以下重量份的原料制成：四方多晶氧化锆65-95份、四方多晶氧化锆10-35份和氧化铝1-5份；该应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠的制备方法包括以下步骤：第一步：将所述的D50＝500nm的四方多晶氧化锆、D50＝200nm的四方多晶氧化锆、氧化铝充分混合得到A料；第二步：将A料经过滚动成球工艺，采用5％wt浓度的PEG-2000水溶液作为粘接剂,控制研磨珠生坯含水率为15wt％得到B料；第三步：将B料经高温窑炉进行烧制，自然冷却后得到C料；第四步：将C料经过粗抛光、精抛光工序获得D料；第五步：将D料经过干燥、自然晾干、分选、筛分工序获得氧化锆研磨珠成品。优选的，所述四方多晶氧化锆的粒径D50＝500nm。优选的，所述四方多晶氧化锆的粒径D50＝200nm。优选的，所述氧化铝的粒径D50＝50nm。一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠的制备方法，包括以下步骤：第一步：将所述的D50＝500nm的四方多晶氧化锆、D50＝200nm的四方多晶氧化锆、氧化铝充分混合得到A料；第二步：将A料经过滚动成球工艺，采用5％wt浓度的PEG-2000水溶液作为粘接剂,控制研磨珠生坯含水率为15wt％得到B料；第三步：将B料经高温窑炉进行烧制，自然冷却后得到C料；第四步：将C料经过粗抛光、精抛光工序获得D料；第五步：将D料经过干燥、自然晾干、分选、筛分工序获得氧化锆研磨珠成品。优选的，在第二步中，A料经过冷等静压成型得到B料。优选的，在第三步中，烧结温度为1320℃-1400℃,保温时间3小时。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：将所述的D50＝500nm的四方多晶氧化锆(3Y-TZP)、D50＝200nm的四方多晶氧化锆(3Y-TZP)、氧化铝(Al2O3)充分混合得到A料；将A料经过滚动成球工艺，采用5％(wt)浓度的PEG-2000水溶液作为粘接剂,控制研磨珠生坯含水率为15％(wt)得到B料，或A料经过冷等静压成型得到B料；将B料经高温窑炉进行烧制，其烧结温度为1320℃到1400℃,保温时间3小时，自然冷却后得到C料；将C料经过粗抛光、精抛光工序获得D料；将D料经过干燥(自然晾干)、分选、筛分工序获得成品。本专利技术通过配比不同粒径的四方多晶氧化锆的粉体，同时添加了少量纳米氧化铝，提高了氧化锆珠研磨珠的成型致密度和烧结致密度，保证了产品的细晶结构，使产品获得了优良的耐磨性和强度，在使用过程中保护了动态分离砂磨机的分离系统动静环，延长了氧化锆研磨珠的更换周期，提高了研磨设备的使用寿命；本专利技术得到的氧化锆研磨珠具有良好的韧性和高的机械强度，在使用过程中具有优良的耐磨性，使用寿命长，而且烧结成本较低，节约能耗。具体实施方式下面将结合实施例对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。实施例1一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠，由以下重量份的原料制成：四方多晶氧化锆65份、四方多晶氧化锆10份和氧化铝1份；所述四方多晶氧化锆的粒径D50＝500nm。所述四方多晶氧化锆的粒径D50＝200nm。所述氧化铝的粒径D50＝50nm。一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠的制备方法，包括以下步骤：第一步：将所述的D50＝500nm的四方多晶氧化锆、D50＝200nm的四方多晶氧化锆、氧化铝充分混合得到A料；第二步：将A料经过滚动成球工艺，采用5％wt浓度的PEG-2000水溶液作为粘接剂,控制研磨珠生坯含水率为15wt％得到B料；第三步：将B料经高温窑炉进行烧制，自然冷却后得到C料；第四步：将C料经过粗抛光、精抛光工序获得D料；第五步：将D料经过干燥、自然晾干、分选、筛分工序获得氧化锆研磨珠成品。在第二步中，A料经过冷等静压成型得到B料。在第三步中，烧结温度为1320℃,保温时间3小时。实施例2一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠，由以下重量份的原料制成：四方多晶氧化锆80份、四方多晶氧化锆18份和氧化铝2份；所述四方多晶氧化锆的粒径D50＝500nm。所述四方多晶氧化锆的粒径D50＝200nm。所述氧化铝的粒径D50＝50nm。一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠的制备方法，包括以下步骤：第一步：将所述的D50＝500nm的四方多晶氧化锆、D50＝200nm的四方多晶氧化锆、氧化铝充分混合得到A料；第二步：将A料经过滚动成球工艺，采用5％wt浓度的PEG-2000水溶液作为粘接剂,控制研磨珠生坯含水率为15wt％得到B料；第三步：将B料经高温窑炉进行烧制，自然冷却后得到C料；第四步：将C料经过粗抛光、精抛光工序获得D料；第五步：将D料经过干燥、自然晾干、分选、筛分工序获得氧化锆研磨珠成品。在第二步中，A料经过冷等静压成型得到B料。在第三步中，烧结温度为1320℃,保温时间3小时。实施例3一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠，由以下重量份的原料制成：四方多晶氧化锆75份、四方多晶氧化锆22份和氧化铝3份；所述四方多晶氧化锆的粒径D50＝500nm。所述四方多晶氧化锆的粒径D50＝200nm。所述氧化铝的粒径D50＝50nm。一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠，其特征在于：由以下重量份的原料制成：四方多晶氧化锆65-95份、四方多晶氧化锆10-35份和氧化铝1-5份；/n该应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠的制备方法包括以下步骤：/n第一步：将所述的D

【技术特征摘要】
1.一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠，其特征在于：由以下重量份的原料制成：四方多晶氧化锆65-95份、四方多晶氧化锆10-35份和氧化铝1-5份；
该应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠的制备方法包括以下步骤：
第一步：将所述的D50＝500nm的四方多晶氧化锆、D50＝200nm的四方多晶氧化锆、氧化铝充分混合得到A料；
第二步：将A料经过滚动成球工艺，采用5％wt浓度的PEG-2000水溶液作为粘接剂,控制研磨珠生坯含水率为15wt％得到B料；
第三步：将B料经高温窑炉进行烧制，自然冷却后得到C料；
第四步：将C料经过粗抛光、精抛光工序获得D料；
第五步：将D料经过干燥、自然晾干、分选、筛分工序获得氧化锆研磨珠成品。


2.根据权利要求1所述的一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠，其特征在于，所述四方多晶氧化锆的粒径D50＝500nm。


3.根据权利要求1所述的一种应用于动态分离砂磨机的氧化锆研磨珠，其特征在于，所述四方多晶氧化锆的粒径D50＝200nm。


4...

【专利技术属性】
技术研发人员：任永国，孟超，朱振宇，魏小威，范孝友，
申请(专利权)人：安徽致磨新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34