【技术实现步骤摘要】
一种封装结构及其制备方法与光电装置
本专利技术涉及光电器件
,尤其涉及一种封装结构及其制备方法与光电装置。
技术介绍
光电器件的寿命缩短主要是由于吸附了空气中的氧气和湿气,这些环境中的水汽渗透到器件内部,会加速器件的老化,减少器件的寿命。通过封装工艺把有机膜和金属电极保护起来,免受外界空气的影响,最终能达到延长器件寿命的目的,因此封装工艺对器件寿命的影响很大。传统的光电器件封装技术是在水、氧含量低于1ppm的手套箱中完成的。将制作好的器件由手套箱内的线形机械手传入手套箱内。后盖板由调整好程序的自动涂胶机完成UV胶的涂敷,将制作好的光电器件基板与涂好UV胶的后盖板对准贴合,经过UV曝光以后就形成了一个与大气环境隔开的壁障,该壁障能有效防止空气中的水、氧进入光电器件内部,避免了与之发生反应。传统后盖式封装方式的不足是:易发生翘曲变形(金属后盖)、易产生微裂纹及扩展(金属后盖)、易脆(玻璃后盖)。传统封装四周要用UV胶粘合,UV胶固化后稀松多孔,水汽和氧较容易从中通过。而内置吸湿剂,吸水后膨胀易导致器件变形,从而导致 ...
【技术保护点】
1.一种封装结构,其特征在于,包括:活性炭薄膜和形成于所述活性炭薄膜上的氧化物薄膜,所述活性炭薄膜具有多孔结构,所述孔为封闭的孔。/n
【技术特征摘要】
1.一种封装结构,其特征在于,包括:活性炭薄膜和形成于所述活性炭薄膜上的氧化物薄膜,所述活性炭薄膜具有多孔结构,所述孔为封闭的孔。
2.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述孔的直径为0.1-0.3nm。
3.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述活性炭薄膜的厚度为300-500nm;和/或
所述氧化物薄膜的厚度为100-300nm。
4.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述氧化物薄膜的材料包括氧化硅、氧化钛和氧化锆中的一种或多种。
5.一种封装结构的制备方法,其特征在于,包括步骤:
提供热固性聚合物薄膜,对所述热固性聚合物薄膜进行裂解,得到多孔结构的活性炭薄膜;
在所述活性炭薄膜上制备氧化物薄膜,得到所述封装结构。
6.根据权利要求5所述的封装结构的制备方法,其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱佩,向超宇,罗植天,
申请(专利权)人:TCL集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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