像素定义层开孔设计方法、显示面板制作方法及显示面板技术

本申请实施例提供一种像素定义层开孔设计方法、显示面板制作方法及显示面板，所述像素定义层开孔设计方法包括基于像素定义层的预设开孔尺寸确定金属掩膜板开孔尺寸，并进一步确定像素定义层的开孔余量，依据所述像素定义层的开孔余量确定像素定义层的目标开孔尺寸，进而确定像素定义层的开孔设计方案；本申请依据像素定义层开孔余量，对像素定义层的目标开孔尺寸进行非等比例增缩，实现像素定义层的开孔尺寸和开孔间隙较好地平衡发光层寿命需求和发光层制作良率需求，促进发光层制作良率提升的同时，较好地维持发光层寿命。

【技术实现步骤摘要】
像素定义层开孔设计方法、显示面板制作方法及显示面板
本申请涉及显示
，尤其涉及一种像素定义层开孔设计方法、显示面板制作方法及显示面板。
技术介绍
有机发光二极管显示面板的像素定义层开孔间隙的大小是衡量发光层制作工艺能力的重要指标，也是影响产品寿命的主要参数。一方面，考虑显示面板寿命的因素，像素定义层的开孔需要做大，开孔间隙则需要做小；另一方面，发光层制作工艺能力及发光层制作良率的因素，又限制了开孔间隙不能过小。因此，需要对这两方面的因素进行平衡。蒸镀法制作发光层的过程需要使用金属掩膜板，金属掩膜板具有拉伸方向和非拉伸方向，其中拉伸方向是金属掩膜板的张开方向。现有的明珠型像素开孔在拉伸方向和非拉伸方向的尺寸是相等的；对明珠型像素开孔在上述两个方向上进行等比例缩小，会导致发光层寿命显著降低，而进行等比例扩大又会导致发光层制作良率的显著下降，因此难以实现很好的平衡。所以，现有对像素定义层开孔尺寸和开孔间隙的设计难以实现对发光层寿命和发光层制作良率的很好平衡。
技术实现思路
本申请提供一种像素定义层开孔设计方法、显示面板制作方法及显示面板，用于解决现有对像素定义层开孔尺寸和开孔间隙的设计难以实现对发光层寿命和发光层制作良率进行平衡的问题。本申请提供一种像素定义层开孔设计方法，其包括：基于像素定义层的预设开孔尺寸，确定金属掩膜板开孔尺寸；基于所述金属掩膜板开孔尺寸，确定所述像素定义层沿第一方向的第一预设开孔余量和沿第二方向的第二预设开孔余量；基于所述第一预设开孔余量、所述第二预设开孔余量及所述像素定义层的预设开孔尺寸确定所述像素定义层的目标开孔尺寸。根据本申请一实施例，所述像素定义层的预设开孔尺寸包括沿所述第一方向的第一预设尺寸和沿所述第二方向的第二预设尺寸，所述基于像素定义层的预设开孔尺寸，确定金属掩膜板开孔尺寸的步骤，包括：将所述第一预设尺寸以第一比例扩大，得到所述金属掩膜板的第一开孔尺寸；将所述第二预设尺寸以第二比例扩大，得到所述金属掩膜板的第二开孔尺寸；基于所述第一开孔尺寸和所述第二开孔尺寸，确定所述金属掩膜板开孔尺寸。根据本申请一实施例，所述基于所述金属掩膜板开孔尺寸，确定所述像素定义层沿第一方向的第一预设开孔余量和沿第二方向的第二预设开孔余量的步骤，包括：基于所述金属掩膜板的开孔尺寸，确定所述金属掩膜板的开孔参数；基于所述金属掩膜板的开孔参数，确定所述金属掩膜板在所述像素定义层上的投影沿所述第一方向的第一投影偏差和沿所述第二方向的第二投影偏差；基于所述第一投影偏差确定所述第一预设开孔余量；基于所述第二投影偏差确定所述第二预设开孔余量。根据本申请一实施例，基于所述第一预设开孔余量、所述第二预设开孔余量及所述像素定义层的预设开孔尺寸确定所述像素定义层的目标开孔尺寸的步骤，包括：基于所述第一预设开孔余量及所述第二预设开孔余量，确定所述像素定义层的开孔间隙差；基于所述像素定义层的开孔间隙差及所述像素定义层的预设开孔尺寸，确定所述像素定义层的目标开孔尺寸。根据本申请一实施例，所述基于所述第一预设开孔余量及所述第二预设开孔余量，确定所述像素定义层的开孔间隙差的步骤，包括：将所述第二预设开孔余量与所述第一预设开孔余量作差，得到所述像素定义层的开孔间隙差。根据本申请一实施例，所述像素定义层的预设开孔尺寸包括沿所述第一方向的第一预设尺寸和沿所述第二方向的第二预设尺寸，所述像素定义层的目标开孔尺寸包括沿所述第一方向的第一目标尺寸和沿所述第二方向的第二目标尺寸；所述基于所述像素定义层的开孔间隙差及所述像素定义层的预设开孔尺寸，确定所述像素定义层的目标开孔尺寸的步骤，包括：基于所述像素定义层的开孔间隙差，确定目标开孔偏移量；将所述第一预设尺寸与所述目标开孔偏移量作差，得到所述第一目标尺寸；将所述第二预设尺寸与所述目标开孔偏移量作和，得到所述第二目标尺寸；基于所述第一目标尺寸和所述第二目标尺寸，确定所述像素定义层的目标开孔尺寸。根据本申请一实施例，所述基于所述像素定义层的开孔间隙差，确定目标开孔偏移量的步骤，包括：取所述像素定义层的开孔间隙差的二分之一，得到所述目标开孔偏移量。本申请还提供一种显示面板制作方法，其包括：在阵列基板上形成像素基底层；采用如上所述的像素定义层开孔设计方法设计位于所述像素基底层上的像素开孔的目标开孔尺寸；基于所述目标开孔尺寸，在所述像素基底层上形成像素开孔。根据本申请一实施例，在所述基于所述目标开孔尺寸，在所述像素基底层上形成像素开孔的步骤之后，还包括：在所述像素开孔内形成发光层；在所述像素基底层和所述发光层上形成封装层。本申请还提供一种显示面板，其采用如上所述的显示面板制作方法制作而成。本申请的有益效果是：本申请提供的像素定义层开孔设计方法，包括基于像素定义层的预设开孔尺寸确定金属掩膜板开孔尺寸，并进一步确定像素定义层的开孔余量，依据所述像素定义层的开孔余量确定像素定义层的目标开孔尺寸，进而确定像素定义层的开孔设计方案；所述像素定义层开孔设计方法依据开孔余量，对像素定义层的目标开孔尺寸进行非等比例增缩，实现像素定义层的开孔尺寸和开孔间隙较好地平衡发光层寿命需求和发光层制作良率需求，促进发光层制作良率提升的同时，较好地维持了发光层寿命。附图说明下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。图1是本申请实施例提供的像素定义层开孔设计方法流程图；图2是本申请实施例提供的像素定义层的预设开孔结构示意图；图3是本申请实施例提供的像素定义层的预设开孔和金属掩膜板开孔结构示意图；图4是本申请实施例提供的由像素定义层的预设开孔形成像素定义层的目标开孔的示意图；图5是本申请实施例提供的显示面板制作方法流程图；图6是本申请实施例提供的显示面板结构示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。本申请实施例提供一种像素定义层开孔设计方法，所述像素定义层开孔设计方法包括基于像素定义层的预设开孔尺寸确定金属掩膜板开孔尺寸，并进一步确定像素定义层的开孔余量，依据所述像素定义层的开孔余量确定像素定义层的目标开孔尺寸，进而确定像素定义层的开孔设计方案；所述像素定义层开孔设计方法依据开孔余量，对像素定义层的目标开孔尺寸进行非等比例增缩，实现像素定义层的开孔尺寸和开孔间隙较好地平衡发光层寿命需求和发光层制作良率需求，促进发光层制作良率提升的同时，较好地维持了发光层寿命。请参阅图1，图1是本申请实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种像素定义层开孔设计方法，其特征在于，包括：/n基于像素定义层的预设开孔尺寸，确定金属掩膜板开孔尺寸；/n基于所述金属掩膜板开孔尺寸，确定所述像素定义层沿第一方向的第一预设开孔余量和沿第二方向的第二预设开孔余量；/n基于所述第一预设开孔余量、所述第二预设开孔余量及所述像素定义层的预设开孔尺寸确定所述像素定义层的目标开孔尺寸。/n

【技术特征摘要】
1.一种像素定义层开孔设计方法，其特征在于，包括：
基于像素定义层的预设开孔尺寸，确定金属掩膜板开孔尺寸；
基于所述金属掩膜板开孔尺寸，确定所述像素定义层沿第一方向的第一预设开孔余量和沿第二方向的第二预设开孔余量；
基于所述第一预设开孔余量、所述第二预设开孔余量及所述像素定义层的预设开孔尺寸确定所述像素定义层的目标开孔尺寸。


2.根据权利要求1所述的像素定义层开孔设计方法，其特征在于，所述像素定义层的预设开孔尺寸包括沿所述第一方向的第一预设尺寸和沿所述第二方向的第二预设尺寸，所述基于像素定义层的预设开孔尺寸，确定金属掩膜板开孔尺寸的步骤，包括：
将所述第一预设尺寸以第一比例扩大，得到所述金属掩膜板的第一开孔尺寸；
将所述第二预设尺寸以第二比例扩大，得到所述金属掩膜板的第二开孔尺寸；
基于所述第一开孔尺寸和所述第二开孔尺寸，确定所述金属掩膜板开孔尺寸。


3.根据权利要求1所述的像素定义层开孔设计方法，其特征在于，所述基于所述金属掩膜板开孔尺寸，确定所述像素定义层沿第一方向的第一预设开孔余量和沿第二方向的第二预设开孔余量的步骤，包括：
基于所述金属掩膜板的开孔尺寸，确定所述金属掩膜板的开孔参数；
基于所述金属掩膜板的开孔参数，确定所述金属掩膜板在所述像素定义层上的投影沿所述第一方向的第一投影偏差和沿所述第二方向的第二投影偏差；
基于所述第一投影偏差确定所述第一预设开孔余量；
基于所述第二投影偏差确定所述第二预设开孔余量。


4.根据权利要求1所述的像素定义层开孔设计方法，其特征在于，基于所述第一预设开孔余量、所述第二预设开孔余量及所述像素定义层的预设开孔尺寸确定所述像素定义层的目标开孔尺寸的步骤，包括：
基于所述第一预设开孔余量及所述第二预设开孔余量，确定所述像素定义层的开孔间隙差；
基于所述像素定义层的开孔间隙差及所述像素定义层的预设开孔尺寸，确定所述像素定义层的目标开孔尺寸。


5.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘志乔，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42