掩膜板及其制备方法、显示面板的制备方法技术

本发明专利技术提供一种掩膜板及其制备方法、显示面板的制备方法。显示面板还包括围绕各子像素的像素界定层，掩膜板包括基板和设于基板上的隔离柱，基板具有开口区和遮光区，开口区对应部分子像素，遮光区对应其余子像素和像素界定层；隔离柱位于遮光区。隔离柱制作在掩膜板上，能起到支撑掩膜板的效果，且蒸镀时不影响后续膜层蒸镀，保证了显示面板的蒸镀效果和封装效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
掩膜板及其制备方法、显示面板的制备方法


[0001]本专利技术涉及显示
，具体而言，涉及一种掩膜板及其制备方法、显示面板的制备方法。

技术介绍

[0002]OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示技术，以其轻薄、自发光、视角广、响应速度快、亮度低、功耗低等优点，被业界公认为第三代显示技术，已经成为显示
的主要发展方向。
[0003]蒸镀OLED显示面板中各子像素的有机层时，需要在基板上制作隔离柱(PS，Photo Spacer)用以支撑精密金属掩膜板(FMM，Fine Metal Mask)，使二者之间维持一间隙，防止基板和掩膜板贴合过近导致后续分离时破坏蒸镀好的膜层。但在掩膜板对位时仍需尽可能使掩膜板贴近基板，避免因间隙过大而形成较大的蒸镀shadow，掩膜板在对位过程中很可能会刮伤或压伤基板上的隔离柱，隔离柱损伤会影响后续膜层的蒸镀效果，尤其金属阴极层易发生断裂，导致像素不良或局部封装失效，影响器件性能和寿命。此外对位时隔离柱也有可能刮伤掩膜板而导致出现蒸镀不良。
[0004]需要说明的是，在上述
技术介绍
部分专利技术的信息仅用于加强对本专利技术的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种掩膜板及其制备方法、显示面板的制备方法，解决现有技术存在的一种或多种问题。
[0006]根据本专利技术的一个方面，提供一种掩膜板，用于制备显示面板，所述显示面板包括多个像素单元，所述像素单元包括多个子像素，所述显示面板还包括围绕各所述子像素的像素界定层，所述掩膜板包括：
[0007]基板，所述基板具有开口区和遮光区，所述开口区对应部分所述子像素，所述遮光区对应其余所述子像素和所述像素界定层；
[0008]隔离柱，所述隔离柱设于所述基板上且位于所述遮光区。
[0009]在本专利技术的一种示例性实施例中，所述隔离柱在所述基板遮光区的设置位置与所述像素界定层对应。
[0010]在本专利技术的一种示例性实施例中，所述隔离柱的数量为多个，每一所述隔离柱在所述基板遮光区的设置位置与一个所述像素单元内的像素界定层对应。
[0011]在本专利技术的一种示例性实施例中，所述像素单元包括第一子像素、第二子像素和第三子像素，所述像素界定层围绕所述第一子像素、第二子像素和第三子像素；
[0012]所述基板的开口区对应各所述第一子像素，所述基板的遮光区对应各所述第二子像素、第三子像素和所述像素界定层，所述隔离柱在所述基板遮光区的设置位置与所述像素单元内的像素界定层位于所述第二子像素和第三子像素之间的部分相对应。
[0013]在本专利技术的一种示例性实施例中，所述隔离柱的数量与所述像素单元的数量相等，各所述隔离柱在所述基板遮光区的设置位置与各所述像素单元内的像素界定层一一对应。
[0014]在本专利技术的一种示例性实施例中，所述隔离柱的材质为有机材料或金属材料。
[0015]在本专利技术的一种示例性实施例中，所述隔离柱的材质与所述基板的材质相同。
[0016]根据本专利技术的另一个方面，提供一种显示面板的制备方法，包括：提供一背板；在所述背板上制备像素界定层，所述像素界定层定义多个子像素；将如上述任意一项所述的掩膜板覆盖在所述背板上，使所述开口区暴露出部分所述子像素，所述遮光区覆盖其余所述子像素和所述像素界定层，且使所述隔离柱抵在所述背板上；在所述开口区暴露的子像素内蒸镀有机材料。
[0017]根据本专利技术的再一个方面，提供一种掩膜板的制备方法，包括：形成具有开口区的基板，所述基板开口区以外的部位为遮光区；在所述基板的遮光区形成多个隔离柱。
[0018]在本专利技术的一种示例性实施例中，所述形成多个隔离柱包括：在所述基板的遮光区涂覆光刻胶，通过曝光显影去除部分光刻胶，剩余光刻胶形成所述隔离柱。或，在所述基板的遮光区涂覆光刻胶，通过曝光显影去除部分所述光刻胶，在去除了光刻胶的位置通过电铸工艺形成所述隔离柱，去除剩余所述光刻胶。
[0019]在本专利技术的一种示例性实施例中，所述形成具有开口区的基板包括：在一基板上涂覆光刻胶，通过曝光显影去除部分光刻胶，在去除了光刻胶的位置通过刻蚀形成所述开口区，去除剩余所述光刻胶，形成所述具有开口区的基板。或，在一底板上涂覆光刻胶，通过曝光显影去除部分光刻胶，在去除了光刻胶的位置通过电铸工艺形成所述遮光区，去除剩余所述光刻胶，形成所述具有开口区的基板。
[0020]本专利技术的隔离柱制作在掩膜板上，能起到支撑掩膜板的效果，而且在掩膜板和背板贴合时，即使刮伤或压伤隔离柱，后续撤掉掩膜板时隔离柱也会离开背板，不影响后续膜层蒸镀，保证了显示面板的蒸镀效果和封装效果。
[0021]应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本专利技术。
附图说明
[0022]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本专利技术的实施例，并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1为显示面板的结构示意图；
[0024]图2为实施方式中蒸镀红色子像素所使用的掩膜版的结构示意图；
[0025]图3为实施方式中掩膜版与显示面板的背板贴合时的俯视图；
[0026]图4为实施方式中掩膜版与显示面板的背板贴合时的截面图；
[0027]图5为实施方式中蒸镀红色子像素所使用的掩膜版的结构示意图；
[0028]图6为实施方式中掩膜版与显示面板的背板贴合时的俯视图；
[0029]图7为实施方式中掩膜版与显示面板的背板贴合时的截面图；
[0030]图8为实施方式中蒸镀红色子像素所使用的掩膜版的结构示意图；
[0031]图9为实施方式中掩膜版与显示面板的背板贴合时的俯视图；
[0032]图10为实施方式中掩膜版与显示面板的背板贴合时的截面图；
[0033]图11为实施方式中利用掩膜板制备显示面板的方法流程图；
[0034]图12为实施方式中掩膜板的制备方法流程图；
[0035]图13为实施方式中掩膜板基板的第一种制备方法示意图；
[0036]图14为实施方式中掩膜板基板的第二种制备方法示意图；
[0037]图15为实施方式中掩膜板隔离柱的第一种制备方法示意图；
[0038]图16为实施方式中掩膜板隔离柱的第二种制备方法示意图。
[0039]图中：1、基板；101、开口区；102、遮光区；12、隔离柱；2、背板；20、像素单元；201、红色子像素；202、绿色子像素；203、蓝色子像素；21、像素界定层；3、底板；4、光刻胶。
具体实施方式
[0040]现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，用于制备显示面板，所述显示面板包括多个像素单元，所述像素单元包括多个子像素，所述显示面板还包括围绕各所述子像素的像素界定层，其特征在于，所述掩膜板包括：基板，所述基板具有开口区和遮光区，所述开口区对应部分所述子像素，所述遮光区对应其余所述子像素和所述像素界定层；隔离柱，所述隔离柱设于所述基板上且位于所述遮光区。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述隔离柱在所述基板遮光区的设置位置与所述像素界定层对应。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述隔离柱的数量为多个，每一所述隔离柱在所述基板遮光区的设置位置与一个所述像素单元内的像素界定层对应。4.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述像素单元包括第一子像素、第二子像素和第三子像素，所述像素界定层围绕所述第一子像素、第二子像素和第三子像素；所述基板的开口区对应各所述第一子像素，所述基板的遮光区对应各所述第二子像素、第三子像素和所述像素界定层，所述隔离柱在所述基板遮光区的设置位置与所述像素单元内的像素界定层位于所述第二子像素和第三子像素之间的部分相对应。5.根据权利要求3或4所述的掩膜板，其特征在于，所述隔离柱的数量与所述像素单元的数量相等，各所述隔离柱在所述基板遮光区的设置位置与各所述像素单元内的像素界定层一一对应。6.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述隔离柱的材质为有机材料或金属材料。7.根据权利要求1所述的掩膜板，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈阔，张智辉，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：