一种双折射率的测定装置和测定方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种双折射率的测定装置，属于光学与晶体学领域，其包括测量光源、扩束镜、汇聚物镜、棱镜、波片、载物台组件、物镜、镜筒、滤波片、偏振片、针孔光阑，扩束镜设置在测量光源的出射方向上，汇聚物镜设置在扩束镜出射光方向上，棱镜设置在汇聚物镜出射光方向上，棱镜的底面设置待测样品，待测样品设置在载物台组件上，物镜末端设置有镜筒，在镜筒和物镜之间设置有滤波片，镜筒内依次设置有偏振片和针孔光阑，载物台组件能升降、旋转、X方向和Y方向的移动，采集从针孔光阑出射的携带有待测样品折射率信息的出射光，从而能获得折射率。本发明专利技术装置能精确、方便地测量获得物体的双折射率信息。息。息。

【技术实现步骤摘要】
一种双折射率的测定装置和测定方法


[0001]本专利技术属于光学与晶体学领域，更具体地，涉及一种双折射率的测定装置和测定方法。

技术介绍

[0002]双折射是很多晶体都具有的一种性质，晶体光学中，按照晶胞微观结构将晶体分为七大晶系，包括轴晶系、六方晶系、四方晶系、三方晶系、斜方晶系、单斜晶系和三斜晶系，除等轴晶系外的六种，均有双折射现象，故双折射现象是晶体光学研究的重点。除晶体所具有的这种永久性双折射之外，各向同性介质也会因为应力、电场等作用发生暂时性双折射。如塑料件在成型过程中的挤压或模塑带来的双折射，光纤因弯曲带来的双折射，液晶分子在电场中有序排列形成的双折射等。在激光晶体加工、玻璃材料和光学镀膜性质研究、液晶材料性质研究等领域，双折射的测量是基础一环。
[0003]对于体积大、可加工或易于塑形的物质，如液晶、光学薄膜、光学晶体等，可利用偏向角法、偏振干涉法测量其双折射率。但对于分布不均匀，成分复杂的样品，这些方法都难以使用。
[0004]以对矿石薄片的显微镜鉴定过程为例，双折射的测量较为繁琐，要在偏光显微镜下寻找垂直光轴切本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双折射率的测定装置，其特征在于，其包括测量光源(4)、扩束镜(5)、汇聚物镜(8)、棱镜(3)、波片(6)、载物台组件(1)、物镜(9)、镜筒(10)、滤波片(11)、偏振片(12)、针孔光阑(14)，其中，扩束镜(5)设置在测量光源(4)的出射方向上，汇聚物镜(8)设置在扩束镜(5)出射光方向上，棱镜(3)设置在汇聚物镜(8)出射光方向上，棱镜(3)的纵截面为梯形，棱镜的底面用于设置待测样品，汇聚物镜(8)出射光对准棱镜的一个侧面，将光束汇聚于棱镜下底面，物镜(9)的镜头对准棱镜的另一个侧面，用于接收从棱镜出射的出射光，待测样品设置在载物台组件(1)上，物镜(9)末端设置有镜筒(10)，在镜筒(10)和物镜(9)之间设置有滤波片(11)，镜筒(10)内依次设置有偏振片(12)和针孔光阑(14)，偏振片(12)靠近物镜，采集从针孔光阑(14)出射的携带有待测样品折射率信息的出射光，从而能获得折射率，载物台组件能实现升降、旋转、X方向和Y方向的移动，以带动待测样品实现在空间的全方位运动，从而实现对待测样品双折射率的测量。2.如权利要求1所述的一种双折射率的测定装置，其特征在于，所述载物台组件(1)包括XY位移平台、旋转台、升降台和弹簧片，XY位移平台设置在旋转台上，弹簧片设置在XY位移平台上，旋转台设置在升降台上，弹簧片用于将样品压紧于XY位移平台台面上，旋转台带动待测样品以旋转中心轴做360
°
范围内旋转，XY位移平台水平移动样品使旋转中心轴与样品表面交点改变，行程覆盖样品待测范围，升降台用于调整样品高度，以与梯形棱镜底面相接触。3.如权利要求2所述的一种双折射率的测定装置，其特征在于，扩束镜放大倍率为5倍～20倍，波片为二分之一波片或者四分之一的波片，波片设置在波片架上，通过旋转波片架可调整透射光的偏振方向，汇聚物镜为无限远物镜，工作距离2cm～5cm，针孔光阑起遮蔽杂散光的作用，其直径大小1um～2000um。4.如权利要求3所述的一种双折射率测定装置，其特征在于，还包括探测器(15)和计算机，探测器与计算机相连，探测器可为CCD或CMOS，探测器用于接收物镜的出射光并成像，计算机用于提取明暗界限位置，计算对应的折射率，并通过与载物台组件的配合，完成对样品表面上每一个点的双折射率测量。5.如权利要求4所述的一种双折射率的测定装置，其特征在于，所述棱镜的材质为蓝宝石晶体、红宝石晶体或氧化锆，其折射率至少大于1.7，梯形棱镜两梯形面为磨砂面，其余四面为光学面，棱镜以夹具夹持，校准完成后即保...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭文平，关淙元，夏珉，李微，杨克成，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：