In a method of controlling a processing device, an error value between the input value of a processing device for processing a subject to be processed and a measured value obtained by measuring the subject to be processed is obtained. A correction value is calculated so that the input value of the device is processed and the values are processed as processing data to be used in calculating the next correction value in the direction of reducing the error value. The search has pre processing data with the same history of the subject in the processing device, and predicts a current bias correction value from a plurality of recent correction values with the same history. Moreover, a neural network is used to predict a current random correction value based on a plurality of recent random correction values. The predicted bias correction value is combined with the random correction value as a current correction value of the processing device.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关技术的交叉参考本申请依赖于2001年7月3日申请的第2001-0039371号韩国专利申请的优先权，该申请的全部内容结合于此作为参考。专利技术背景专利
本专利技术涉及一种，特别是一种在制造半导体器件地整个过程中光刻工艺期间依照估算步进器的校正值的新自适应最小均方神经网络(ALMS-NN)算法来。相关技术的说明作为一种在半导体工业中增强竞争能力的途径，为了创建一种能够保证高生产率的高效制造系统进行了大量的研究。特别是在重要的半导体制造工艺之一的光刻工艺中，由于处理条件频繁地变化，需要开发一种系统化的生产系统以应付频繁的变化，因而为了提高生产率作出了相当大的努力来建立一种能够减少抽样处理的频度的系统。为了建立这样一种系统，工艺中的对不准问题是光刻工艺中要考虑的首要问题。这个问题的出现主要是由于难于分析工艺的物理和化学特性，执行工艺期间的噪声干扰，和执行工艺后的测量误差，这些都是直接影响生产率的增加抽样频度的原因。广泛地开发和使用了一种过程控制系统(PCS)作为一种能够保证半导体制造系统的高生产率的生产系统，这个系统主要不涉及有关工艺步骤的数学模型，而涉及根据通...
【技术保护点】
一种用于控制处理装置的方法，包括步骤：获得一个用于处理待处理的主体的处理装置的输入值与通过测量在处理装置中被处理的主体得到的测量值之间的误差值，计算用于在减小误差值的方向上校正处理装置的输入值的校正值，并把这些值作为处理数据管理，以在计算下一个校正值中使用， 所述方法进一步包括步骤： 搜索具有与装载到处理装置中的主体的历史相同历史的在前处理数据； 从来源于搜索的具有相同历史的在前处理数据的多个最近在前校正值来预测一个当前偏置校正值； 通过一个神经网络根据来源于在前处理数据的多个最近在前随机校正值来预测一个当前随机校正值； 将预测的当前偏置值与预...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：田耕植，朴赞勳，朴一锡，曹奉秀，姜显台，黄载媛，诸永镐，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]
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