光谱仪装置以及用于制造光谱仪装置的方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种光谱仪装置（10），该光谱仪装置包括：法布里珀罗‑干涉仪单元（FP），该法布里珀罗‑干涉仪单元包括第一载体基底（TS1），其中所述第一载体基底（TS1）布置在法布里珀罗‑干涉仪单元（FP）的下侧（U）上并且具有光学孔径（NA）；第一基底（K）和/或第二基底（S），该第一基底布置在法布里珀罗‑干涉仪单元（FP）的背离下侧（U）的上侧（O）上，其中所述第一载体基底（TS1）以下侧（U）布置在第二基底（S）上；布置在第二基底（S）上或中和/或布置在第一基底（K）上或中的光电探测器装置（PD），其中，光电探测器装置（PD）的第一电联接区域（A1）和法布里珀罗‑干涉仪单元（FP）的第二电联接区域（A2）可以从同一方向进行电接触。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光谱仪装置以及用于制造光谱仪装置的方法
本专利技术涉及一种光谱仪装置以及一种用于制造光谱仪装置的方法。
技术介绍
为了制造尽可能成本有利的和小型的但是高性能的光谱仪大多存在如下要求，即，尽可能少的部件和尽可能最少数量的可简单且成本有利地实施的制造步骤就够用并且实现尽可能小的结构尺寸。然而，通常为了制造光谱仪装置需要许多方法步骤或部件，其也能够引起大的结构体积并且能够提高用于部件和制造的所产生的成本。在US7286244中给出一种具有法布里珀罗-干涉仪单元的探测器结构作为小型化光谱仪的一部分。光谱仪的此类实施方案也从文献US2016/245696和US2016/245697得知。
技术实现思路
本专利技术提供一种根据权利要求1所述的光谱仪装置和一种根据权利要求15所述的用于制造光谱仪装置的方法。优选的改进方案是从属权利要求的主题。本专利技术所基于的思想在于，给出一种光谱仪装置，其特征在于小的结构尺寸并且具有法布里珀罗-干涉仪的组件（封装件）和/或探测器系统的成本有利的制造方式。在此，有利地提供具有尽可能本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光谱仪装置（10），包括/n- 法布里珀罗-干涉仪单元（FP），其包括第一载体基底（TS1），其中该第一载体基底（TS1）布置在法布里珀罗-干涉仪单元（FP）的下侧（U）上并具有光学孔径（NA）；/n- 第一基底（K），其布置在所述法布里珀罗-干涉仪单元（FP）的上侧（O）上，该上侧背离所述下侧（U）；和/或第二基底（S），其中所述第一载体基底（TS1）以所述下侧（U）布置在所述第二基底（S）上；/n- 光电探测器装置（PD），其布置在所述第二基底（S）上或中和/或布置在所述第一基底（K）上或中，其中，所述光电探测器装置（PD）的第一电联接区域（A1）和所述法布里珀罗-干涉仪单元（FP...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180731 DE 102018212755.71.一种光谱仪装置（10），包括
-法布里珀罗-干涉仪单元（FP），其包括第一载体基底（TS1），其中该第一载体基底（TS1）布置在法布里珀罗-干涉仪单元（FP）的下侧（U）上并具有光学孔径（NA）；
-第一基底（K），其布置在所述法布里珀罗-干涉仪单元（FP）的上侧（O）上，该上侧背离所述下侧（U）；和/或第二基底（S），其中所述第一载体基底（TS1）以所述下侧（U）布置在所述第二基底（S）上；
-光电探测器装置（PD），其布置在所述第二基底（S）上或中和/或布置在所述第一基底（K）上或中，其中，所述光电探测器装置（PD）的第一电联接区域（A1）和所述法布里珀罗-干涉仪单元（FP）的第二电联接区域（A2）能够从同一个方向进行电接触。


2.根据权利要求1所述的光谱仪装置（10），其特征在于，所述第一基底（K）包括盖基底，所述法布里珀罗-干涉仪单元（FP）能够用该盖基底来遮盖，并且所述第二基底（S）包括基座基底，所述法布里珀罗-干涉仪单元（FP）能够安置在该基座基底上。


3.根据权利要求1或2所述的光谱仪装置（10），其中，所述光学孔径由所述第一载体基底（TS1）中的开口或者在所述第一载体基底（TS1）上的不透明涂层形成。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的光谱仪装置（10），其中反射器装置（HS）在光入射方向（L）上布置在光电探测器装置（PD）之后，从而光电探测器装置（PD）布置在反射器装置（HS）和法布里珀罗-干涉仪单元（FP）之间。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的光谱仪装置（10），其中，所述第一电联接区域（A1）和所述第二电联接区域（A2）面向或背离所述光入射方向（L）。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的光谱仪装置（10），其包括温度传感器装置（TempS），所述温度传感器装置集成在第二基底（S）中和/或第一基底（K）中和/或法布里珀罗-干涉仪单元中，并且优选布置在光学孔径（NA）外。


7.根据权利要求1至6中任一项所述的光谱仪装置（10），其中，所述光电探测器装置（PD）包括集成到所述第一基底（K）中的第一传感器（S1）。


8.根据权利要求1至7中任一项所述的光谱仪装置（10），其中，所述光电探测器装置（PD）包括第二传感器（S2），所述第二传感器在所述光学孔径（NA）之外布置在所述第一基底（K）上或中和/或布置在第二基底（S）上，其中，所述第一基底（K）和/或所述第二基底（S）在所述第二传感器（S2）的区域中包括金属遮盖部（B），所述金属遮盖部逆着所述光入射方向（L）遮盖所述第二传感器（S2）。


9.根据回引权利要求4的权利要求4至8中任一项所述的光谱仪装置（10），其中所述反射器装置（HS）包括具有第一焦点（Fok1）的抛物面形状并且所述光电探测器装置（PD）至少布置在所述第一焦点（Fok1）中，其中所述第一焦点（Fok1）位于所述法布里珀罗-干涉仪单元（FP）的光轴（A...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·胡斯尼克，C·胡贝尔，R·罗德尔，B·斯坦，C·谢林，
申请(专利权)人：罗伯特·博世有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE