一种便于清理的陶瓷窑炉制造技术

本实用新型专利技术涉及窑炉领域，特别是指一种便于清理的陶瓷窑炉，包括有主体，主体的正面设有向内凹的烤腔，烤腔内设有加热管，=主体背面对应烤腔的位置设有可上下移动的活动板，主体背面对应烤腔的位置设有向内凹的活动槽，其中活动槽与烤腔相通，本实用新型专利技术设置了活动板，通过活动板向上移动后，实现烤腔向后相通，从而能够方便清理烤腔内壁的灰尘；采用齿轮与齿条相啮合的作用，来实现升降活动板，再由手轮的转动带动齿轮的转动，使升降活动板时更加方便省力，同时通过卡块嵌入上卡槽内后，活动板的下表面便与卡块的上表面相贴合，从而将活动板上升后固定住，以便于清理烤腔的内壁。

【技术实现步骤摘要】
一种便于清理的陶瓷窑炉
本技术涉及窑炉领域，特别是指一种便于清理的陶瓷窑炉。
技术介绍
目前，工业窑炉广泛运用，其品种多、耗能高和影响大，是工业加热的关键设备。现有的窑炉有大有小，但功能基本上都是加热产品的，产品在加热的过程中会产生大量的灰尘，灰尘都会附着四面内壁，当灰尘攒集一定的量的时候，加热的效果明显下降，工作效率大大降低，由于窑炉只有一个用来放进或者取出产品的口，在清理窑炉内壁的灰尘时，导致清理窑炉内的灰尘较为不方便，影响清理效果。
技术实现思路
本技术提供一种便于清理的陶瓷窑炉，以克服现有技术由于窑炉只有一个用来放进或者取出产品的口，在清理窑炉内壁的灰尘时，导致清理窑炉内的灰尘较为不方便，影响清理效果的问题。本技术采用如下技术方案：一种便于清理的陶瓷窑炉，包括有主体1，所述主体1的正面设有向内凹的烤腔2，所述烤腔2内设有加热管3，其特征在于：所述主体1背面对应烤腔2的位置设有可上下移动的活动板4，所述主体1背面对应烤腔2的位置设有向内凹的活动槽5，其中活动槽5与烤腔2相通，所述活动槽5的两侧均设有向内凹的滑槽6，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种便于清理的陶瓷窑炉，包括有主体，所述主体的正面设有向内凹的烤腔，所述烤腔内设有加热管，其特征在于：所述主体背面对应烤腔的位置设有可上下移动的活动板，所述主体背面对应烤腔的位置设有向内凹的活动槽，其中活动槽与烤腔相通，所述活动槽的两侧均设有向内凹的滑槽，所述活动板嵌入滑槽内；所述主体对应活动板位置的侧面贯穿有通孔，所述通孔的上端侧面设有向内凹的上卡槽，所述通孔的下端侧面设有向内凹的下卡槽，所述上卡槽与下卡槽大小相同，所述下卡槽设于活动槽的下方，所述下卡槽嵌套有卡块。/n

【技术特征摘要】
1.一种便于清理的陶瓷窑炉，包括有主体，所述主体的正面设有向内凹的烤腔，所述烤腔内设有加热管，其特征在于：所述主体背面对应烤腔的位置设有可上下移动的活动板，所述主体背面对应烤腔的位置设有向内凹的活动槽，其中活动槽与烤腔相通，所述活动槽的两侧均设有向内凹的滑槽，所述活动板嵌入滑槽内；所述主体对应活动板位置的侧面贯穿有通孔，所述通孔的上端侧面设有向内凹的上卡槽，所述通孔的下端侧面设有向内凹的下卡槽，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾海洲，曾榕，曾榛，曾俊炜，曾梓铭，
申请(专利权)人：福建省德化祥裕陶瓷文化有限责任公司，
类型：新型
国别省市：福建;35