本发明专利技术涉及激光加工技术领域，具体公开了一种杂散光吸收装置、激光加工头及光纤激光器，其中，该杂散光吸收装置包括壳体，壳体包括反射部与吸收部，吸收部自上至下依次设有第一吸收面、第二吸收面和第三吸收面，反射部的反射面能吸收部分杂散光并能将剩余的杂散光反射至第一吸收面，第一吸收面能吸收部分杂散光并能将剩余的杂散光反射至第二吸收面，第二吸收面能吸收部分杂散光并能将剩余的杂散光反射至第三吸收面或者第一吸收面；第三吸收面能吸收部分杂散光并能将剩余的杂散光反射至第二吸收面。上述设置使得杂散光能够在吸收部完成自上至下与自下至上的两条路径的反射与吸收，提高了杂散光的吸收效率，降低激光加工头内部腔体温度。
【技术实现步骤摘要】
一种杂散光吸收装置、激光加工头及光纤激光器
本专利技术涉及激光加工
，尤其涉及一种杂散光吸收装置、激光加工头及光纤激光器。
技术介绍
光纤激光器是指用掺稀土元素玻璃光纤作为增益介质的激光器，光纤激光器可在光纤放大器的基础上开发出来：在泵浦光的作用下光纤内极易形成高功率密度，造成激光工作物质的激光能级“粒子数反转”，当适当加入正反馈回路(构成谐振腔)便可形成激光振荡输出。随着光纤激光技术的快速发展和激光器功率的提升，激光器输出的散射光功率开始增大，导致激光加工头内部腔体温度过高，加工稳定性下降。
技术实现思路
本专利技术的目的在于：提供一种杂散光吸收装置，以解决激光加工头内部腔体温度过高导致加工稳定性下降的问题。为达上述目的，本专利技术采用以下技术方案：第一方面，本专利技术提供一种杂散光吸收装置，该杂散光吸收装置包括壳体，所述壳体包括反射部与吸收部，所述反射部包括反射面，所述吸收部自上至下依次设有第一吸收面、第二吸收面和第三吸收面，所述反射面能吸收部分杂散光并能将剩余的所述杂散光反射至所述第一吸收面，所述第一吸收面能吸收部分所述杂散光并能将剩余的所述杂散光反射至所述第二吸收面，所述第二吸收面能吸收部分杂散光并能将剩余的所述杂散光反射至所述第三吸收面或者所述第一吸收面；所述第三吸收面能吸收部分杂散光并能将剩余的所述杂散光反射至所述第二吸收面。可选地，所述壳体的外轮廓为圆筒状，所述反射部与所述吸收部沿所述壳体的中心线的切面形状均为轴对称图形。可选地，所述反射面为向远离所述壳体的中心线方向凹陷的弧形面，所述反射面围成第一通道，所述第一通道的内径尺寸沿靠近所述吸收部的方向逐渐减小。可选地，所述第一吸收面为向远离所述壳体的中心线方向凹陷的弧形面。可选地，所述第二吸收面围成第二通道，所述第二通道为圆筒状。可选地，所述第三吸收面沿远离所述反射部方向向所述壳体的中心倾斜。可选地，所述反射部还包括导向面，所述导向面设于所述反射面与所述第一吸收面之间，所述导向面沿靠近所述反射面的方向向所述壳体的中心倾斜。可选地，所述壳体的外周设有散热部，所述散热部用于所述壳体的散热。第二方面，本专利技术提供一种激光加工头，包括上述任一方案中的杂散光吸收装置与激光发射部件，所述激光发射部件设于所述杂散光吸收机构上方且靠近所述反射部。第三方面，本专利技术提供一种光纤激光器，包括上述方案中的激光加工头。本专利技术的有益效果为：本专利技术提供一种杂散光吸收装置，该杂散光吸收装置通过一个反射面与三个吸收面的设置使得激光发射装置发射的杂散光会被反射面反射至第一吸收面，杂散光在第一吸收面被部分吸收后反射至第二吸收面，杂散光在第二吸收面被部分吸收后反射至第三吸收面，杂散光在第三吸收面被部分吸收后反射至第二吸收面，杂散光能够在吸收部完成自上至下与自下至上的两条路径的反射与吸收，提高了杂散光的吸收效率，能有效降低激光加工头内部腔体温度，提高加工稳定性。附图说明图1为本专利技术实施例中杂散光吸收装置的结构示意图；图2为图1中A处的局部放大图；图3为本专利技术实施例中激光加工头的结构示意图。图中：1、反射部；11、反射面；12、第一通道；13、导向面；2、吸收部；21、第一吸收面；22、第二吸收面；23、第三吸收面；24、第二通道；100、激光发射装置；200、激光加工头。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。其中，术语“第一位置”和“第二位置”为两个不同的位置，而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。如图1-3所示，本实施例提供一种杂散光吸收装置、激光加工头及光纤激光器，其中，该杂散光吸收装置包括壳体，壳体包括反射部1与吸收部2，反射部1设有反射面11，吸收部2自上至下依次设有第一吸收面21、第二吸收面22和第三吸收面23，反射面11能吸收部分杂散光且能将杂散光反射至第一吸收面21，第一吸收面21能吸收部分杂散光并能将剩余的杂散光反射至第二吸收面22，第二吸收面22能吸收部分杂散光并能将剩余的杂散光反射至第三吸收面23或者第一吸收面21；第三吸收面23能吸收部分杂散光并能将剩余的杂散光反射至第二吸收面22。本实施例通过一个反射面11与三个吸收面的设置使得激光发射装置100发射的第一角度θ1的激光能够顺利穿过杂散光吸收装置，且激光发射装置100发射的第二角度θ2的激光会被反射面11反射至第一吸收面21，第二角度θ2的杂散光在第一吸收面21被部分吸收后反射至第二吸收面22，杂散光在第二吸收面22被部分吸收后反射至第三吸收面23，杂散光在第三吸收面23被部分吸收后反射至第二吸收面22，杂散光在第二吸收面22被部分吸收后反射至第一吸收面21，至此，杂散光已经在吸收部2完成自上至下与自下至上的两条路径的反射与吸收，该设置能反复吸收杂散光，提高了杂散光的吸收效果。其中，θ1和θ2是激光发射装置100发射的激光的发射角，θ1是加工激光的发射角，θ2是杂散光的发射角。可选地，杂散光能在第二吸收面22多次反射。可选地，反射次数可以为3-100次中的任一整数次。当然，也可以是3-100次之外的其他整数次，具体的反射次数可根据第一吸收面21的反射的效果以及第二吸收面22的长度等因素确定，该设置能进一步提高杂散光的吸收效果。可选地，壳本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种杂散光吸收装置，其特征在于，包括壳体，所述壳体包括反射部(1)与吸收部(2)，所述反射部(1)包括反射面(11)，所述吸收部(2)自上至下依次设有第一吸收面(21)、第二吸收面(22)和第三吸收面(23)，所述反射面(11)能吸收部分杂散光并能将剩余的所述杂散光反射至所述第一吸收面(21)，所述第一吸收面(21)能吸收部分所述杂散光并能将剩余的所述杂散光反射至所述第二吸收面(22)，所述第二吸收面(22)能吸收部分杂散光并能将剩余的所述杂散光反射至所述第三吸收面(23)或者所述第一吸收面(21)；所述第三吸收面(23)能吸收部分杂散光并能将剩余的所述杂散光反射至所述第二吸收面(22)。/n
【技术特征摘要】
1.一种杂散光吸收装置，其特征在于，包括壳体，所述壳体包括反射部(1)与吸收部(2)，所述反射部(1)包括反射面(11)，所述吸收部(2)自上至下依次设有第一吸收面(21)、第二吸收面(22)和第三吸收面(23)，所述反射面(11)能吸收部分杂散光并能将剩余的所述杂散光反射至所述第一吸收面(21)，所述第一吸收面(21)能吸收部分所述杂散光并能将剩余的所述杂散光反射至所述第二吸收面(22)，所述第二吸收面(22)能吸收部分杂散光并能将剩余的所述杂散光反射至所述第三吸收面(23)或者所述第一吸收面(21)；所述第三吸收面(23)能吸收部分杂散光并能将剩余的所述杂散光反射至所述第二吸收面(22)。
2.根据权利要求1所述的杂散光吸收装置，其特征在于，所述壳体的外轮廓为圆筒状，所述反射部(1)与所述吸收部(2)沿所述壳体的中心线的切面形状均为轴对称图形。
3.根据权利要求1所述的杂散光吸收装置，其特征在于，所述反射面(11)为向远离所述壳体的中心线方向凹陷的弧形面，所述反射面(11)围成第一通道(12)，所述第一通道(12)的内径尺寸沿靠近所述吸收部(2)的方向逐渐减小。
4.根据权利要求1所...
【专利技术属性】
技术研发人员：卢琳，陈明洁，
申请(专利权)人：上海波刺自动化科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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