曝光装置制造方法及图纸

曝光装置具有圆筒形状的周壁部件。周壁部件形成能够收容衬底的处理空间并且具有上部开口及下部开口。而且，在周壁部件的上部，以盖住上部开口的方式设置着光出射部。在周壁部件的下方设置着下盖部件，所述下盖部件设置成能够沿上下方向移动且能够封闭及打开下部开口。以在处理空间内收容有衬底且下部开口被下盖部件封闭的状态，用惰性气体置换处理空间内的环境气体。该状态下，真空紫外线从光出射部出射到衬底，衬底被曝光。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置
本专利技术涉及一种使用真空紫外线对衬底进行曝光处理的曝光装置。
技术介绍
为了使形成于衬底上的膜改质，有时会使用真空紫外线。例如，在日本专利特开2018-159828号公报中记载了一种曝光装置，该曝光装置使用真空紫外线对衬底上的包含定向自组装(DirectedSelfAssembly)材料的膜进行曝光处理。该曝光装置包括处理室、投光部及封闭部。处理室具有上部开口及内部空间。投光部以盖住处理室的上部开口的方式配置于处理室的上方。在处理室的侧面，形成着用于在处理室的内部与外部之间搬送衬底的搬送开口。封闭部构成为能够利用挡板来打开关闭搬送开口。在衬底的曝光处理时，首先，打开搬送开口，通过该搬送开口将衬底搬入到处理室的内部。接下来，以在处理室的内部配置着衬底的状态，封闭搬送开口，从而该处理室的内部空间得以密闭。而且，为了减少照射到衬底的真空紫外线因氧而衰减，用惰性气体来置换处理室内的环境气体。当处理室内的氧浓度降低到预定的浓度时，通过处理室的上部开口将真空紫外线照射到衬底。由此，衬底上的膜得以改质。然后，再次打开搬送开口，将曝光后的衬底搬出到处理室的外部。
技术实现思路
如所述那样，在日本专利特开2018-159828号公报记载的曝光装置中，每对一块衬底进行曝光处理时，均需要用惰性气体来置换处理室内的环境气体直到处理室内的氧浓度达到预定的浓度为止。该情况下，为了提高曝光处理的效率，理想的是缩短置换处理室内的环境气体所需的时间。而且，如所述那样，在日本专利特开2018-159828号公报记载的曝光装置中，以低氧环境气体来进行曝光处理。因此，进行曝光的整个处理室的环境气体均被惰性气体所置换。然而，需要较长时间才能均匀地置换惰性气体。如果惰性气体的置换不均匀，则曝光处理的精度会降低。而且，如果置换惰性气体所需的时间延长，则曝光处理的效率会降低。本专利技术的目的在于提供一种曝光装置，该曝光装置能够以简单且紧凑的构成来提高曝光处理的效率而不会降低衬底的清洁度。本专利技术的另一目的在于提供一种能够提高曝光处理的精度及效率的曝光装置。本专利技术的一形态的曝光装置对至少一部分具有圆形状的衬底进行曝光处理，且包括：圆筒形状的周壁部件，形成能够收容衬底的处理空间并且具有上部开口及下部开口；光出射部，以盖住周壁部件的上部开口的方式设置于周壁部件的上方且具有能够向处理空间出射真空紫外线的出射面；封闭部件，在周壁部件的下方设置成能够沿上下方向移动且构成为能够封闭及打开下部开口；衬底支撑部，以衬底与出射面对向的方式在出射面与封闭部件之间支撑衬底；供给部，以在处理空间内利用衬底支撑部来支撑衬底且利用封闭部件封闭下部开口的状态将惰性气体供给到处理空间；及排出部，以在处理空间内利用衬底支撑部来支撑衬底且利用封闭部件封闭下部开口的状态将处理空间内的环境气体排出到处理空间的外部。该曝光装置中，以衬底与光出射部的出射面对向的方式，将衬底支撑在出射面与封闭部件之间。周壁部件的下部开口由封闭部件封闭，处理空间内的环境气体被惰性气体置换。该状态下，将真空紫外线从光出射部的出射面出射到衬底，衬底被曝光。该曝光时，处理空间内的氧浓度因惰性气体而降低，因此从光出射部的出射面出射到衬底的真空紫外线的衰减得以减少。根据所述构成，周壁部件具有与衬底的形状对应的圆筒形状，因而能够减小处理空间的容积。由此，能够用惰性气体迅速地置换处理空间内的环境气体。因此，能够在短时间内使处理空间的氧浓度降低。而且，由圆筒形状的周壁部件形成的处理空间内不存在让气体滞留的角部。因此，当用惰性气体置换处理空间内的环境气体时，沿着周壁部件的内周面形成顺畅的气体流动。由此，微粒不易残留于处理空间内。因此，能够提高处理空间内的衬底的清洁度。此外，封闭部件通过将周壁部件的下部开口打开关闭，而能够将衬底搬入到处理空间内及从处理空间内搬出衬底。封闭部件通过沿上下方向移动而能够以简单的构成及动作将下部开口打开关闭。因此，无需在周壁部件设置衬底的搬入搬出口并且无需设置用于将该搬入搬出口打开关闭的复杂的机构。这些的结果为，能够以简单且紧凑的构成来提高曝光处理的效率而不会降低衬底的清洁度。可在周壁部件的内部形成着将周壁部件的外部与处理空间连通的第1气体流路及第2气体流路，供给部可设置成能够通过第1气体流路将惰性气体供给到处理空间内，排出部可设置成能够通过第2气体流路将处理空间内的环境气体排出到处理空间的外部。该情况下，无需在处理空间内设置用于供给惰性气体的配管或喷嘴等部件。而且，无需在处理空间内设置用于将其内部的环境气体排出到处理空间的外部的配管或喷嘴等部件。由此，因处理空间内成为气体流动的阻碍的区域减少，所以微粒不易残留于处理空间内。第1气体流路及第2气体流路可分别形成于周壁部件中的隔着处理空间而彼此对向的部分。该情况下，在处理空间内，从第1气体流路朝向第2气体流路形成顺畅的气体流动。由此，能够用惰性气体顺畅地置换处理空间内的环境气体，因此置换环境气体所需的时间得以缩短。而且，由于抑制处理空间内产生乱流，所以能够将处理空间内的多个部分中的氧浓度保持为均匀。因此，能够对衬底进行均匀的曝光。封闭部件可具有与出射面对向的平坦的上表面，在封闭部件的上表面安装着多个衬底支撑部。该情况下，由于多个衬底支撑部共通地安装于封闭部件的平坦的上表面上，所以当向封闭部件安装多个衬底支撑部时，能够容易且准确地对准多个衬底支撑部的上下方向的位置。由此，能够防止由衬底支撑部支撑的衬底相对于出射面倾斜，从而能够对衬底进行均匀的曝光。曝光装置可还包括多个支撑销，所述多个支撑销分别具有在处理空间的下方的位置处沿上下方向延伸且能够支撑衬底的多个上端部，封闭部件可具有供多个支撑销插入的多个贯通孔，多个支撑销能够以如下方式设置，即，当利用封闭部件封闭下部开口时，多个支撑销的上端部位于比多个衬底支撑部的上端更靠下方处，当利用封闭部件打开下部开口时，多个支撑销的上端部位于比多个衬底支撑部的上端更靠上方处。该情况下，当向处理空间搬入衬底时，在利用封闭部件打开了下部开口的状态下，在处理空间的下方的位置处将衬底从曝光装置的外部载置于多个支撑销的上端部上。然后，当利用封闭部件封闭下部开口时，封闭部件通过相对于多个支撑销向上方移动而多个衬底支撑部的上端移动到比多个支撑销的上端部更靠上方处。由此，衬底从多个支撑销交递到多个衬底支撑部，且衬底被支撑在处理空间内。另一方面，当从处理空间搬出衬底时，封闭部件通过相对于多个支撑销向下方移动而多个衬底支撑部的上端移动到比多个支撑销的上端部更靠下方处。由此，衬底从多个衬底支撑部交递到多个支撑销，且衬底被支撑在处理空间的下方。这样，通过使封闭部件沿上下方向移动，能够以简单的构成及动作相对于处理空间搬入及搬出衬底。曝光装置可还包括控制光出射部及供给部的控制部，控制部能够以如下方式控制供给部，即，在从在处理空间内利用衬底支撑部来支撑衬底且利用封闭部件封闭下部开口的时间点到预定的第1时间内，以第1流量本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，对至少一部分具有圆形状的衬底进行曝光处理，且包括：/n圆筒形状的周壁部件，形成能够收容所述衬底的处理空间并且具有上部开口及下部开口；/n光出射部，以盖住所述周壁部件的所述上部开口的方式设置于所述周壁部件的上方且具有能够向所述处理空间出射真空紫外线的出射面；/n封闭部件，在所述周壁部件的下方设置成能够沿上下方向移动且构成为能够封闭及打开所述下部开口；/n衬底支撑部，以所述衬底与所述出射面对向的方式在所述出射面与所述封闭部件之间支撑所述衬底；/n供给部，以在所述处理空间内利用所述衬底支撑部来支撑所述衬底且利用所述封闭部件封闭所述下部开口的状态将惰性气体供给到所述处理空间；及/n排出部，以在所述处理空间内利用所述衬底支撑部来支撑所述衬底且利用所述封闭部件封闭所述下部开口的状态将所述处理空间内的环境气体排出到所述处理空间的外部。/n

【技术特征摘要】
20190919 JP 2019-170831;20190919 JP 2019-1708331.一种曝光装置，对至少一部分具有圆形状的衬底进行曝光处理，且包括：
圆筒形状的周壁部件，形成能够收容所述衬底的处理空间并且具有上部开口及下部开口；
光出射部，以盖住所述周壁部件的所述上部开口的方式设置于所述周壁部件的上方且具有能够向所述处理空间出射真空紫外线的出射面；
封闭部件，在所述周壁部件的下方设置成能够沿上下方向移动且构成为能够封闭及打开所述下部开口；
衬底支撑部，以所述衬底与所述出射面对向的方式在所述出射面与所述封闭部件之间支撑所述衬底；
供给部，以在所述处理空间内利用所述衬底支撑部来支撑所述衬底且利用所述封闭部件封闭所述下部开口的状态将惰性气体供给到所述处理空间；及
排出部，以在所述处理空间内利用所述衬底支撑部来支撑所述衬底且利用所述封闭部件封闭所述下部开口的状态将所述处理空间内的环境气体排出到所述处理空间的外部。


2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中
在所述周壁部件的内部，形成着将所述周壁部件的外部与所述处理空间连通的第1气体流路及第2气体流路，
所述供给部设置成能够通过所述第1气体流路将惰性气体供给到所述处理空间内，
所述排出部设置成能够通过所述第2气体流路将所述处理空间内的环境气体排出到所述处理空间的外部。


3.根据权利要求2所述的曝光装置，其中
所述第1气体流路及所述第2气体流路分别形成于所述周壁部件中的隔着所述处理空间而彼此对向的部分。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其中
所述封闭部件具有与所述出射面对向的平坦的上表面，
在所述封闭部件的所述上表面安装着多个所述衬底支撑部。


5.根据权利要求4所述的曝光装置，其还包括多个支撑销，所述多个支撑销分别具有在所述处理空间的下方的位置处沿上下方向延伸且能够支撑所述衬底的多个上端部，
所述封闭部件具有供所述多个支撑销插入的多个贯通孔，
所述多个支撑销以如下方式设置，即，当利用所述封闭部件封闭所述下部开口时，所述多个支撑销的上端部位于比所述多个衬底支撑部的上端更靠下方处，当利用所述封闭部件打开所述下部开口时，所述多个支撑销的上端部位于比所述多个衬底支撑部的上端更靠上方处。

【专利技术属性】
技术研发人员：有泽洋，浅井正也，春本将彦，田中裕二，毛利知佐世，本野智大，宫本周治，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP