膜的剥离装置及膜的剥离方法制造方法及图纸

提供一种膜的剥离装置及膜的剥离方法，对于由基材和膜构成的层压体，能够更可靠地将膜从基材上剥离或者更可靠地开始将基材粘贴到粘贴对象上。一种剥离装置，对于由基材和膜构成的层压体，将膜从基材上剥离，其中，具有：支撑构件，从下方支撑作为层压体的前端的区域的端区域；台，与支撑构件邻接，在使基材侧朝下的状态下，从下方支撑层压体中的作为端区域以外的区域的主体区域；剥离机构，从层压体中的端区域到主体区域，将膜从基材上剥离；支撑构件具有圆筒形状，支撑构件的圆筒面由具有粘附性的构件形成。

【技术实现步骤摘要】
膜的剥离装置及膜的剥离方法
本专利技术涉及一种用于从具有基材和膜的层压体剥离膜的剥离装置及剥离方法。
技术介绍
一直以来，将隔板(膜)从配置在基材上的片状单片(基材)上剥离，并将剥离了隔板(膜)的片状单片(基材)粘合到其他粘合对象上来进行运送的技术广为人知。例如，在专利文献1中，公开了一种粘合装置，该粘合装置将从成卷的膜中取出的膜粘贴到另一成卷的膜上。该粘合装置具有剥离部，该剥离部将片状单片从隔板剥离来作为粘合处理的前处理。在上述技术中，在开始粘贴之前，将保持在长方体型的吸附垫构件(支撑构件)上的片状单片2(基材)的粘贴开始端部，按压到粘贴对象即第二膜上，接着，在开始粘贴之前，吸附垫构件移动到退避位置，并使粘贴辊上升，通过粘贴辊将片状单片的粘贴开始端部按压到第二膜上。然后，通过使粘贴辊旋转，来一边施加按压力一边将片状单片的粘贴开始端部的后方区域粘贴到第二膜上。另外，在这样的技术中，通过长方体型的支撑构件(吸附垫构件)从下方对剥离隔板(膜)之前的片状单片(基材)的前端侧的区域进行支撑，并通过与支撑构件邻接的台，对片状单片(基材)的前端侧以外的区域进行支撑，在该状态下，有时会将隔板(膜)从基材剥离。另外，此时，多通过从设置在支撑构件的上表面的吸引孔吸引空气，来将基材保持于支撑构件，但是，在支撑构件为长方体型的情况下，有时会因开始剥离膜的位置不同而导致在剥离膜时作用于基材的力大于支撑构件对基材的保持力。在这种情况下，会在支撑构件的上表面的吸引孔中产生空气漏泄，有时难以通过支撑构件稳定地保持基材的端区域。另外，在支撑构件为长方体型的情况下，由于支撑构件与基材的接触面积较大，因此当在开始粘贴之前使支撑构件退避时，基材会与支撑构件一起移动，有时难以顺利地进行基材的粘贴作业。或者，在使支撑构件退避时的驱动力弱的情况下，支撑构件不能对抗基材的保持力来进行移动，有时会导致机构部的误动作。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2018-1466号公报(例如，0070～0075段、图24A至E)
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术是鉴于上述情况而完成的，其目的在于，提供一种能够更可靠地从由基材和膜构成的层压体上剥离膜或者更可靠地开始将基材粘贴到粘贴对象上的技术。用于解决问题的手段用于解决上述问题的本专利技术提供一种剥离装置，用于从由基材和粘合在该基材上的膜所构成的层压体上将所述膜剥离，所述剥离装置的特征在于，具有：支撑构件，从下方支撑作为所述层压体的前端的区域的端区域，台，与所述支撑构件邻接，在使所述基材的一侧朝下的状态下，从下方支撑所述层压体中的作为所述端区域以外的区域的主体区域，剥离机构，从所述层压体中的所述端区域到所述主体区域，将所述膜从所述基材上剥离；所述支撑构件具有圆筒形状，所述支撑构件的圆筒面由具有粘附性的构件形成。即，在本专利技术中，使支撑构件具有圆筒形状，并使支撑构件的圆筒面具有粘附性。由此，在将膜从基材上剥离的情况下，能够以支撑构件的圆筒面上的粘附力更可靠地保持基材的端区域。另外，在开始粘贴基材之前使支撑构件退避的情况下，由于支撑构件与基材之间的接触面积有限，在支撑构件退避时，能够抑制基材与支撑构件一起移动。此外，这里所说的“圆筒形状”不仅包括中空的筒形状，还包括实心的圆柱形状。另外，在本专利技术中，所述支撑构件的圆筒面的一部分也可以由第二构件形成，所述第二构件具有比所述构件所具有的所述粘附性的低的粘附性。由此，在支撑构件的圆筒面上，通过适当地变更由具有粘附性的构件形成的部分的面积和由粘附性更低的第二构件形成的部分的面积，能够调整作为支撑构件整体的粘附性的强度。另外，在本专利技术中，所述支撑构件也可以设置成能够围绕所述圆筒形状的中心轴旋转。由此，在结束了将膜从基材上剥离之后，通过使支撑构件自行旋转，能够消除支撑构件与基材的粘附。这样一来，在使支撑构件退避的情况下，能够更可靠地抑制基材一起移动的情况。此外，在本专利技术中，没有特别地使支撑构件主动旋转的机构，也可以仅使支撑构件能够自由旋转。另外，在本专利技术中，还具有退避机构，所述退避机构在所述支撑构件以及所述台支撑剥离了所述膜后的所述基材的状态下，使所述支撑构件向远离所述台的方向退避，所述退避机构也可以在使所述支撑构件退避时，使所述支撑构件旋转并移动。由此，在使支撑构件退避时，能够成为随着支撑构件的移动，支撑构件进行旋转而在基材上滚动的情况。其结果，在使支撑构件退避的情况下，能够更可靠地抑制基材一起移动的情况，并能够更可靠地使支撑构件退避。另外，在本专利技术中，所述退避机构也可以以使所述支撑构件随着远离所述台而向上侧移动的方式来使所述支撑构件退避。在此，当支撑构件退避时，在使支撑构件水平移动的情况下，随着上述的支撑构件的旋转，基材有可能向下侧被卷入。其结果，基材会出现损伤或折痕等不良。与此相对，在本专利技术中，在支撑构件退避时，所述支撑构件随着远离所述台而向上侧移动。由此，能够减轻基材随着支撑构件的旋转而向下侧的卷入，并能够抑制基材出现损伤或折痕的不良。另外，在本专利技术中，在使所述支撑构件退避时，所述支撑构件的移动的轨迹也可以具有直线状、向下凸的曲线状、向下凸的圆弧状中的任一个形状。另外，在本专利技术中，在使所述支撑构件退避时，所述支撑构件的移动的轨迹也可以是，在所述支撑构件退避时使所述支撑构件所支撑的基材的变形小于或等于0.1mm的轨迹。支撑构件所支撑的基材的变形小于或等于0.1mm的该轨迹也可以通过实验或模拟来确定。由此，能够更可靠地减轻基材随着支撑构件的旋转而向下侧的卷入，能够抑制基材出现损伤或折痕的不良。在此，0.1mm是作为用于使基材不出现损伤或折痕的阈值的变形量，是通过实验或模拟来确定的。另外，在本专利技术中，也可以进一步具有锁定机构，所述锁定机构用于限制所述支撑构件的旋转。由此，在使支撑构件构成为能够自由旋转的情况下，当不需要支撑构件进行旋转时，能够对支撑构件进行锁定。另外，在本专利技术中，所述支撑构件的所述圆筒面的粘附性大于1N/15mm且小于等于3N/15mm。通过使支撑构件的圆筒面上的粘附性在该范围内，在将膜从基材上剥离的情况下，能够适当地保持基材，并且在支撑构件退避时，能够抑制基材一起移动的不良。另外，在本专利技术中，所述剥离机构也可以具有：辊，具有在水平方向上具有轴的圆筒状的形状，在其圆筒面上具有粘附性，并且能够围绕所述轴旋转，移动机构，使所述辊从所述端区域沿朝向主体区域的方向移动，卷绕机构，从所述辊与所述膜中的所述端区域抵接的状态起，通过所述移动机构使所述辊移动，并使所述辊围绕所述轴旋转，来将所述膜的一部分卷绕到所述辊的所述圆筒面上。由此，在开始从基材上剥离膜时，成为由2个圆筒从上下夹住层压体的结构，通过使端区域的膜适度地变形，能够容易地将膜卷绕到辊上。另外，根据本专利技术，所述剥离机构中的所述辊与所述端区域的所述膜抵接的位置也可以为，相对于所述支撑构件支撑所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种剥离装置，用于从由基材和粘合在该基材上的膜所构成的层压体上将所述膜剥离，所述剥离装置的特征在于，具有：/n支撑构件，从下方支撑作为所述层压体的前端的区域的端区域，/n台，与所述支撑构件邻接，在使所述基材的一侧朝下的状态下，从下方支撑所述层压体中的作为所述端区域以外的区域的主体区域，以及/n剥离机构，从所述层压体中的所述端区域到所述主体区域，将所述膜从所述基材上剥离；/n所述支撑构件具有圆筒形状，所述支撑构件的圆筒面由具有粘附性的构件形成。/n

【技术特征摘要】
20190919 JP 2019-1702921.一种剥离装置，用于从由基材和粘合在该基材上的膜所构成的层压体上将所述膜剥离，所述剥离装置的特征在于，具有：
支撑构件，从下方支撑作为所述层压体的前端的区域的端区域，
台，与所述支撑构件邻接，在使所述基材的一侧朝下的状态下，从下方支撑所述层压体中的作为所述端区域以外的区域的主体区域，以及
剥离机构，从所述层压体中的所述端区域到所述主体区域，将所述膜从所述基材上剥离；
所述支撑构件具有圆筒形状，所述支撑构件的圆筒面由具有粘附性的构件形成。


2.根据权利要求1所述的剥离装置，其特征在于，
所述支撑构件的圆筒面的一部分由第二构件形成，所述第二构件具有比所述构件所具有的所述粘附性低的粘附性。


3.根据权利要求1所述的剥离装置，其特征在于，
所述支撑构件被设置成，能够围绕所述圆筒形状的中心轴旋转。


4.根据权利要求3所述的剥离装置，其特征在于，
还具有退避机构，所述退避机构在所述支撑构件以及所述台支撑着剥离了所述膜后的所述基材的状态下，使所述支撑构件向远离所述台的方向退避，
所述退避机构，在使所述支撑构件退避时，使所述支撑构件一边旋转一边移动。


5.根据权利要求4所述的剥离装置，其特征在于，
所述退避机构，以使所述支撑构件随着远离所述台而向上侧移动的方式，来使所述支撑构件退避。


6.根据权利要求5所述的剥离装置，其特征在于，
在使所述支撑构件退避时，所述支撑构件移动的轨迹具有直线状、向下凸的曲线状、向下凸的圆弧状中的任一个形状。


7.根据权利要求5所述的剥离装置，其特征在于，
在使所述支撑构件退避时，所述支撑构件移动的轨迹是，在所述支撑构件退避时使所述支撑构件所支撑着的基材的变形小于或等于0.1mm的轨迹。


8.根据权利要求3至7...

【专利技术属性】
技术研发人员：厨子卓哉，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP