涂布装置、高度检测方法以及涂布方法制造方法及图纸

提供一种涂布装置、高度检测方法以及涂布方法，对基板施加浮力来在水平方向上运送基板并向基板供给处理液，高精度地检测与喷嘴的相向位置上的基板上表面的高度。涂布装置具有：运送部，从下方对基板施加浮力并在水平方向上运送基板；喷嘴，被定位在与被运送的基板的上表面相向的涂布位置并向基板喷出处理液；高度检测部，在基板的运送方向上，检测喷嘴的上游侧或下游侧的检测位置上的基板的上表面的高度；计算部，基于规定的换算特性，根据在检测位置检测到的高度，计算与位于涂布位置的喷嘴相向的相向位置上的基板的上表面的高度。换算特性是根据事先运送基板而在相向位置以及检测位置分别检测到的基板的上表面的高度的相关关系来预先求出的。

【技术实现步骤摘要】
涂布装置、高度检测方法以及涂布方法
本专利技术涉及一种从下方对基板施加浮力来运送基板并向基板的上表面供给处理液的涂布装置及涂布方法，以及一种检测在这些技术中运送的基板的上表面的高度的方法。此外，上述基板包括半导体基板、光掩模用基板、液晶显示用基板、有机EL(electroluminescence：电致发光)显示用基板、等离子显示用基板、FED(FieldEmissionDisplay：场致发射显示)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板等。
技术介绍
在半导体装置和液晶显示装置等电子部件等的制造工序中，使用向基板的上表面喷出处理液来将处理液涂布在基板的上表面的涂布装置。例如，在日本特开2018-147977号公报中记载的涂布装置中，利用从上表面喷出气体的台使基板浮起并运送基板，从面向基板的上表面配置的狭缝喷嘴将涂布液喷出并涂布到基板上。在该涂布装置中，通过安装在喷嘴上的传感器，来检测被运送的基板的上表面的高度与台的高度，根据这些检测结果和另外求出的基板的厚度，求出基板相对于台的浮起量。
技术实现思路
专利技术要解决的问题以这种方式求出基板的高度和浮起量的主要目的在于，确认基板被恰当地运送，以及将喷嘴与基板之间的间隙保持为规定值，以获得均匀且质量良好的涂膜。尤其是在后者的情况下，本来应该求出的是在与喷嘴相向的相向位置上的基板上表面的高度。然而，由于在结构上难以在配置喷嘴的位置设置传感器，因而不得不在与本来的相向位置不同的位置处进行检测。然而，运送时的基板并不会保持完全水平的姿势。即，在与喷嘴相向的相向位置，需要严格管理基板的姿势和位置，但在除此以外的位置，较宽松的姿势管理足矣。例如，尤其是对于大版、薄型的基板，由于容易因其自重而弯曲，因而为了避免在运送过程中与台接触而造成损伤，有时会有意地增加基板从台浮起的浮起量。也就是说，基板以在一定程度上弯曲的状态被运送。因此，通过以往的高度检测方法检测出的基板上表面的高度，有时在严格意义上来说不同于与喷嘴相向的相向位置上的高度。因此，期望建立一种能够更精确求出与喷嘴相向的相向位置上的基板上表面的高度的技术。本专利技术是鉴于上述课题而完成的，其目的在于，提供一种这样的技术：在一边对基板施加浮力来在水平方向上运送基板一边向基板供给处理液的涂布装置中，能够高精度地检测与喷嘴相向的相向位置上的基板上表面的高度。用于解决问题的手段本专利技术的一方式为一种涂布装置，为了达成上述目的，该涂布装置具有：运送部，从下方对基板施加浮力并在水平方向上运送该基板；喷嘴，被定位在与被运送的所述基板的上表面相向的涂布位置，并向所述基板喷出处理液；高度检测部，在所述基板的运送方向上，检测所述喷嘴的上游侧或下游侧的检测位置上的所述基板的上表面的高度；以及计算部，基于规定的换算特性，根据在所述检测位置检测到的高度，计算与位于所述涂布位置的所述喷嘴相向的相向位置上的所述基板的上表面的高度；所述换算特性，是根据事先运送所述基板而在所述相向位置以及所述检测位置分别检测到的所述基板的上表面的高度的相关关系来预先求出的。另外，本专利技术的另一方式为一种高度检测方法，检测被运送到与喷出处理液的喷嘴相向的相向位置上的基板的上表面的高度，为了达成上述目的，所述高度检测方法具有如下工序：在所述基板的运送方向上，在所述喷嘴的上游侧或下游侧的检测位置，检测所述基板的上表面的高度；以及基于规定的换算特性，根据在所述检测位置检测到的高度，计算与所述喷嘴相向的相向位置上的所述基板的上表面的高度；所述换算特性，是根据事先运送所述基板而在所述相向位置以及所述检测位置分别检测到的所述基板的上表面的高度的相关关系来预先求出的。另外，本专利技术的另一方式为一种涂布方法，为了达成上述目的，所述涂布方法具有如下工序：从下方对基板施加浮力并在水平方向上运送该基板；将喷嘴定位在与被运送的所述基板的上表面相向的涂布位置，并从所述喷嘴向所述基板喷出处理液；以及利用上述高度检测方法，求出与所述喷嘴相向的相向位置上的所述基板的上表面的高度。在这样构成的专利技术中，根据用预先实际运送的基板而得到的检测结果，来掌握在进行高度检测的检测位置上检测的基板上表面的高度与此时与喷嘴相向的相向位置上的基板上表面的高度之间的相关关系。因此，根据该关系，能够确定换算特性，该换算特性用于，针对检测位置上的基板上表面的高度而检测到某个值时，将该值换算为此时相向位置上的基板上表面的高度。因此，能够根据在检测位置间接检测到的高度与预先求出的换算特性，高精度地求出作为本来的检测对象的相向位置上的基板上表面的高度。专利技术的效果如上所述，根据本专利技术，由于预先求出检测位置以及相対位置上的基板的上表面高度的相关关系，因而能够根据在检测位置检测到的基板上表面的高度，高精度地求出实际想要测量的与喷嘴相向的相向位置上的基板的上表面高度。附图说明图1是示意性地示出本专利技术的涂布装置的一实施方式的整体结构的图。图2是从铅垂上方观察涂布装置时的俯视图。图3是从图2去掉涂布机构后的俯视图。图4是沿图2的A-A线的剖视图。图5是示出该实施方式中的涂布处理的流程图。图6A是示意性地示出运送中的基板的姿势以及与喷嘴之间的位置关系的图。图6B是示意性地示出运送中的基板的姿势以及与喷嘴之间的位置关系的图。图6C是示意性地示出运送中的基板的姿势以及与喷嘴之间的位置关系的图。图7是示出换算特性获取处理流程图。图8A是说明换算特性获取处理的原理的图。图8B是说明换算特性获取处理的原理的图。图8C是说明换算特性获取处理的原理的图。附图标记说明1：涂布装置3：浮起台部(运送部)5：基板运送部(运送部)31：入口浮起台(入口台)32：涂布台33：出口浮起台(出口台)62：传感器(高度检测部)71：喷嘴73：定位机构92：运算单元(计算部)P1：第一位置P2：第二位置Pa：检测位置Pb：相向位置S：基板Sf：基板S的上表面具体实施方式图1是示意性地示出本专利技术的涂布装置的一实施方式的整体结构的图。该涂布装置1是狭缝涂布机，其将涂布液涂布到以水平姿势从图1的左侧向右侧运送的基板S的上表面Sf。此外，在以下的各图中，为了明确装置各部的配置关系，将基板S的运送方向设为“X方向”，将从图1的左侧朝向右侧的水平方向称为“+X方向”，将反方向称为“-X方向”。另外，在与X方向正交的水平方向Y中，将装置的正面侧称为“-Y方向”，将装置的背面侧称为“+Y方向”。进而，将铅垂方向Z中的上方向以及下方向分别称为“+Z方向”以及“-Z方向”。首先，使用图1对该涂布装置1的结构以及动作的概要进行说明，然后，对维护单元的更详细的结构进行说明。此外，涂布装置1的基本结构和动作原理与本申请的申请人在前公开的日本特开2018-187597号公报中记本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂布装置，其特征在于，具有：/n运送部，从下方对基板施加浮力并在水平方向上运送该基板，/n喷嘴，被定位在与被运送的所述基板的上表面相向的涂布位置，并向所述基板喷出处理液，/n高度检测部，在所述基板的运送方向上，检测所述喷嘴的上游侧或下游侧的检测位置上的所述基板的上表面的高度，以及/n计算部，基于规定的换算特性，根据在所述检测位置检测到的高度，计算与位于所述涂布位置的所述喷嘴相向的相向位置上的所述基板的上表面的高度；/n所述换算特性，是根据事先运送所述基板而在所述相向位置以及所述检测位置分别检测到的所述基板的上表面的高度的相关关系来预先求出的。/n

【技术特征摘要】
20190919 JP 2019-1701121.一种涂布装置，其特征在于，具有：
运送部，从下方对基板施加浮力并在水平方向上运送该基板，
喷嘴，被定位在与被运送的所述基板的上表面相向的涂布位置，并向所述基板喷出处理液，
高度检测部，在所述基板的运送方向上，检测所述喷嘴的上游侧或下游侧的检测位置上的所述基板的上表面的高度，以及
计算部，基于规定的换算特性，根据在所述检测位置检测到的高度，计算与位于所述涂布位置的所述喷嘴相向的相向位置上的所述基板的上表面的高度；
所述换算特性，是根据事先运送所述基板而在所述相向位置以及所述检测位置分别检测到的所述基板的上表面的高度的相关关系来预先求出的。


2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，
所述换算特性，是根据被运送的所述基板在所述运送方向上的位置来设定的。


3.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，
具有定位机构，所述定位机构使所述高度检测部在第一位置与第二位置之间移动并进行定位，所述第一位置用于检测在所述检测位置的所述基板的高度，所述第二位置用于检测在所述相向位置的所述基板的高度；
所述换算特性，是根据在所述高度检测部被定位在所述第一位置的状态下运送所述基板时的检测结果以及在所述高度检测部被定位在所述第二位置的状态下运送所述基板时的检测结果来求出的。


4.根据权利要求3所述的涂布装置，其特征在于，
所述定位机构，将所述喷嘴与所述高度检测部一体地移动来进行定位。


5.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，
根据由所述计算部求出的所述相向位置上的所述基板的上表面的高度，来设定所述喷嘴在上下方向上的位置。


6.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，
所述喷嘴，从沿着与所述运送方向正交的所述基板的宽度方向延伸的狭缝状的开口，喷出所述处理液。


7.根据权利要求1至6中的任一项所述的涂布装置，其特征在于，
所述运送部具有：
涂布台，配置在被定位在所述涂布位置的所述喷嘴的下方，
入口台，在所述运送方向上被配置在所述涂布台的上游侧，以及
出口台，...

【专利技术属性】
技术研发人员：大宅宗明，实井祐介，黑枝笃史，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP