一种大米抛光工艺制造技术

本发明专利技术提供一种大米抛光工艺，具体涉及粮食再加工领域，复位各设备，将水箱设定为自动状态；监测室内温度，根据监测的室内温度设定水箱温度；监测水箱温度，并开始抛光机；启动风机，等待15秒，主机电机进入星三角降压启动，同时启动补水程序；监测电机的电流强度，运转260秒大米流程为0，则终止程序；启动电磁喷雾阀全部喷水；抛光机进入停止程序时，待整机电流降为65A后，运转30秒排空抛光室，先关抛光机主机电机，然后关闭风机，关闭电源。本发明专利技术可提高大米抛光的质量和效率，且自动化高。

【技术实现步骤摘要】
一种大米抛光工艺
本专利技术属于一种大米抛光工艺，具体涉及粮食再加工领域。
技术介绍
大米抛光是现代粮食加工生产优质精制大米必不可少的一道工序。它是将精制大米送入专用设备内，经过水及抛光剂的喷淋和磨擦，并在一定温度下，米粒表面的淀粉胶质化，从而保证了大米粒的光洁。通过大米抛光技术，能够清除米粒表面浮糠，使米粒表面光洁细腻，提高大米的外观品质以及大米的商品价值；大米通过抛光工序，进一步清除了大米加工后残存的糠粉，延长了大米的货架期。现有的抛光工艺自动化和抛光效果仍有待进一步提高针对上述不足，现需要一种大米抛光工艺，可提高大米抛光的质量和效率，且自动化高。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种大米抛光工艺，可提高大米抛光的质量和效率，且自动化高。本专利技术提供了如下的技术方案：一种大米抛光工艺，具体如下，复位各设备，将水箱设定为自动状态；监测室内温度，根据监测的室内温度设定水箱温度；监测水箱温度，并开始抛光机；启动风机，等待15秒，主机电机进入星三角降压启动，同时启动补水程序；监测电机的电流强度，运转本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种大米抛光工艺，其特征在于：复位各设备，将水箱设定为自动状态；监测室内温度，根据监测的室内温度设定水箱温度；监测水箱温度，并开始抛光机；启动风机，等待15秒，主机电机进入星三角降压启动，同时启动补水程序；监测电机的电流强度，运转260秒大米流程为0，则终止程序；启动电磁喷雾阀全部喷水；抛光机进入停止程序时，待整机电流降为65A后，运转30秒排空抛光室，先关抛光机主机电机，然后关闭风机，关闭电源。/n

【技术特征摘要】
1.一种大米抛光工艺，其特征在于：复位各设备，将水箱设定为自动状态；监测室内温度，根据监测的室内温度设定水箱温度；监测水箱温度，并开始抛光机；启动风机，等待15秒，主机电机进入星三角降压启动，同时启动补水程序；监测电机的电流强度，运转260秒大米流程为0，则终止程序；启动电磁喷雾阀全部喷水；抛光机进入停止程序时，待整机电流降为65A后，运转30秒排空抛光室，先关抛光机主机电机，然后关闭风机，关闭电源。


2.根据权利要求1所述的一种大米抛光工艺，其特征在于：电流电流强度与大米流量成正比，电机空转是电流为65A，电流强度为65A至70A，大米流量为少，电流强度为大于75A，大米流量为多；运转260秒大米流程为0。


3.根据权利要求2所述的一种大米抛光工艺，其特征在于：大米流量低于...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴宗耀，王涛，张义，杜学军，钱坤，
申请(专利权)人：江苏景山生态有机农业有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32