基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种对基板进行清洗处理的基板处理装置，处理部的上部和下部分别具有多个处理单元。处理部具备至少一个塔单元，所述塔单元中，所述上部具有至少一个正面清洗单元和至少一个反面清洗单元，所述下部具有至少一个正面清洗单元和至少一个反面清洗单元。搬运部在所述上部和所述下部分别具有中心机器人。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本专利技术涉及一种对半导体晶片、液晶显示器或有机EL(Electroluminescence：场致发光)显示装置用基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板、磁盘用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等基板(以下，仅称作基板)进行正面清洗、反面清洗等清洗处理的基板处理装置。
技术介绍
以往，作为这种装置存在具有分度器部、处理部、反转路径部的装置。例如，参考日本特开2014-72490号公报(图2)。分度器部具有容纳架承载部和分度机械手。处理部具有正面清洗单元和反面清洗单元作为处理单元。容纳架承载部对容置了多张基板的容纳架进行承载。分度机械手在容纳架与反转路径部之间搬运基板。反转路径部具有反转路径单元。反转路径单元具有承载基板的多层搁板，并与处理部之间交接基板或使基板的正面和反面反转。从分度器部观察，处理部的左侧具有两台反面清洗单元。处理部的两台反面清洗单元的上方具有两台正面清洗单元。也就是说，从分度器部观察，处理部的左侧具有四层结构的第一处理部列。从分度器部观察，处理部的右侧具有两台反面清洗单元。处理部的两台反面清洗单元的上方具有两台正面清洗单元。也就是说，从分度器部观察，处理部的右侧具有四层结构的第二处理部列。处理部具有一台主机器人，所述主机器人在正面清洗单元及反面清洗单元与反转路径单元之间搬运基板。在该装置中，处理部只设置了一台主机器人。但是，近来，为了提高生产能力，存在具有如下结构的装置，即，处理部的上部的两层处理单元具有一台主机器人，处理部的下部的两层处理单元具有一台主机器人。换言之，处理部具有两台主机器人。例如，参考日本特开2016-201526号公报(图10)。但是，具有这样的结构的现有装置存在下述问题。即，如果现有装置的上部或下部的一方的主机器人发生故障，或者，上部或下部的处理单元全部发生故障，则只能进行正面清洗或反面清洗中的一者。因此，存在这样的问题，即，如果发生上述这样的故障，则现有装置无法进行完整的正反面清洗处理。
技术实现思路
本专利技术是鉴于这样的情况而提出的，其目的在于提供一种基板处理装置，其采用能够提高生产能力的结构，并且，即使在上部或下部的结构中任一方发生故障时，也能够进行完整的正反面清洗处理。为达到这样的目的，本专利技术采用如下结构。本专利技术是一种对基板进行清洗处理的基板处理装置，所述装置具有：分度器部，具有容纳架承载部和分度机械手，所述容纳架承载部对容置有多张基板的容纳架进行承载，所述分度机械手在与所述容纳架承载部的所述容纳架之间搬运基板；处理部，具有正面清洗单元和反面清洗单元作为处理单元，所述正面清洗单元执行基板的正面清洗处理，所述反面清洗单元执行基板的反面清洗处理；以及反转路径部，配置在所述分度器部与所述处理部之间，具有承载基板的多层搁板，并具有反转基板的正反面的反转功能。所述处理部具备至少一个塔单元，所述塔单元在上部和下部分别具有多个所述处理单元，所述上部具有至少一个所述正面清洗单元和至少一个所述反面清洗单元，所述下部具有至少一个所述正面清洗单元和至少一个所述反面清洗单元。所述基板处理装置具有搬运部，所述搬运部在所述上部和所述下部分别具有中心机器人，所述中心机器人在所述塔单元中的各个所述处理单元与所述反转路径部之间搬运基板。根据本专利技术，处理部具有至少一个塔单元。该塔单元的上部和下部分别具有多个处理单元。该塔单元的上部具有至少一个正面清洗单元和至少一个反面清洗单元。该塔单元的下部具有至少一个正面清洗单元和至少一个反面清洗单元。另外，搬运部在处理器的上部和下部分别具有中心机器人。因此，能够提高生产能力。在该结构中，能够在上部或下部中的一方的中心机器人发生故障，或者，上部或下部中的一方的全部处理单元发生故障时，通过上部或下部中的另一方来进行完整的正反面清洗处理。因此，采用能够提高生产能力的结构，并且，在上部或下部中的任一方的结构发生故障場合时也能够进行完整的正反面清洗处理。另外，在本专利技术中，优选所述反转路径部在所述上部和所述下部分别具有至少两个独立的反转路径单元，所述反转路径单元分别具有承载基板的多层搁板，并且具有使基板的正反面反转的反转功能。反转路径部在上部和下部分别具有至少两个独立的反转路径单元。因此，能够在各上下部同时实施交接基板W的动作和反转基板W的动作，所述交接基板W的动作是用于进行正面清洗处理，无需反转基板的正反面而仅交接基板W的动作，所述反转基板W的动作是用于进行反面清洗处理而使基板W反转的动作。因此，能够高效地进行上部和下部中的完整的正反面清洗处理。在本专利技术中，优选所述处理部具有多个所述塔单元，靠近所述反转路径部的塔单元比远离所述反转路径部的塔单元具有更多的所述正面清洗单元。通常，相比反面清洗处理，实施正面清洗处理的比例更高。因此，通过靠近反转路径部的塔单元具有更多的正面清洗单元，能够缩短中心机器人的搬运时间。因此，能够高效地实施正面清洗处理。本专利技术优选各个所述塔单元在隔着所述中心机器人而相对的相同高度位置上具有所述正面清洗单元和所述反面清洗单元。因为当经由反转路径部在正面清洗单元与反面清洗单元之间搬运基板时，能够省略中心机器人在上下方向的移动，所以，能够提高基板的搬运效率。在本专利技术中，优选各个所述塔单元中，靠近所述反转路径部的塔单元具有至少一个在上下方向上所述正面处理单元和所述反面处理单元相邻的组。塔单元中靠近反转路径部的塔单元的正面处理单元与反面处理单元在上下方向上相邻配置。因此，当进行完整的正反面清洗处理时，能够缩短中心机器人在前后方向上移动的距离，因此，能够高效地搬运基板。在本专利技术中，优选靠近所述反转路径部的塔单元中，所述上部与所述下部在两者的界限处分别具有所述正面清洗单元。通常，相比反面清洗处理，实施正面清洗处理的比例更高。因此，通过将正面清洗单元配置在上部与下部的界限处，能够在利用上部和下部这两部分来进行正面清洗处理时，缩短分度机械手在上下方向的移动距离。因此，能够提高正面清洗处理的处理效率。在本专利技术中，优选靠近所述反转路径部的塔单元中，所述上部与所述下部在两者的界限处分别具有所述反面清洗单元。因为将反面清洗单元配置在上部与下部的界限处，能够在进行多个反面清洗处理时缩短分度机械手在上下方向上的移动距离。因此，能够提高反面清洗处理的处理效率。在本专利技术中，优选所述塔单元中，以与所述上部所具有的多个处理单元配置相同地，所述下部具有多个处理单元。即使在上部或下部中的一方的处理单元发生故障时，也能够以上下方向上的相同的搬运路径由另一方继续执行相同的处理。因此，即使由另一方进行处理，也依然能够保证生产能力。附图说明为了说明本专利技术，在附图中示出了目前优选的几种形式，但是应当理解，本专利技术不限于所示的具体布置和手段。图1是表示实施例的基板处理装置的整体结构的立体图。图2是基板处理装置的俯视图，表示处理部的上部的上层。图3是基板处理装置的俯视图，表示处理部的上部的下层。图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，用于对基板进行清洗处理，其中，具有：/n分度器部，具有容纳架承载部和分度机械手，所述容纳架承载部对用于容置多张基板的容纳架进行承载，所述分度机械手在与所述容纳架承载部的所述容纳架之间搬运基板；/n处理部，具有正面清洗单元和反面清洗单元作为处理单元，所述正面清洗单元执行基板的正面清洗处理，所述反面清洗单元执行基板的反面清洗处理；以及/n反转路径部，配置在所述分度器部与所述处理部之间，具有承载基板的多层搁板，并具有使基板的正面和反面反转的反转功能，/n所述处理部具备至少一个塔单元，所述塔单元在上部和下部分别具有多个所述处理单元，所述上部具有至少一个所述正面清洗单元和至少一个所述反面清洗单元，所述下部具有至少一个所述正面清洗单元和至少一个所述反面清洗单元，/n所述基板处理装置具有搬运部，所述搬运部在所述上部和所述下部分别具有中心机器人，所述中心机器人在所述塔单元中的各个所述处理单元与所述反转路径部之间搬运基板。/n

【技术特征摘要】
20190913 JP 2019-1670401.一种基板处理装置，用于对基板进行清洗处理，其中，具有：
分度器部，具有容纳架承载部和分度机械手，所述容纳架承载部对用于容置多张基板的容纳架进行承载，所述分度机械手在与所述容纳架承载部的所述容纳架之间搬运基板；
处理部，具有正面清洗单元和反面清洗单元作为处理单元，所述正面清洗单元执行基板的正面清洗处理，所述反面清洗单元执行基板的反面清洗处理；以及
反转路径部，配置在所述分度器部与所述处理部之间，具有承载基板的多层搁板，并具有使基板的正面和反面反转的反转功能，
所述处理部具备至少一个塔单元，所述塔单元在上部和下部分别具有多个所述处理单元，所述上部具有至少一个所述正面清洗单元和至少一个所述反面清洗单元，所述下部具有至少一个所述正面清洗单元和至少一个所述反面清洗单元，
所述基板处理装置具有搬运部，所述搬运部在所述上部和所述下部分别具有中心机器人，所述中心机器人在所述塔单元中的各个所述处理单元与所述反转路径部之间搬运基板。


2.如权利要求1所述的基板处理装置，其中，
所述反转路径部在所述上部和所述下部分别具有至少两个独立的反转路径单元，
所述反转路径单元分别具有承载基板的多层搁板，并且具有使基板的正面和反面反转的反转功能。


3.如权利要求1所述的基板处理装置，其中，
所述处理部具有多个所述塔单元，
靠近所述反转路径部的塔单元比远离所述反转路径部的塔单元具有更多的所述正面清洗单元。


4.如权利要求2所述的基板处理装置，其中，
所述处理部具有多个所述塔单元，
靠近所述反转路径部的塔单元比远离所述反转路径部的塔单元具有更多的所述正面清洗单元。


5.如权利要求3所述的基板处理装置，其中，
各个所述塔单元在隔着所述中心机器人而相对的相同高度位置上具有所述正面清洗单元和所述反面清洗单元。


6.如权利要求4所述的基板处理装置，其中，
各个所述塔单元在隔着所述中心机器人而相对的相同高度位置上具有所述正面清洗单元和所述反面清洗单元。


7.如权利要求3所述的基板处理装置，其中，
各个所述塔单元中，靠近所述反转路径部的塔单元具有至少一个在上下方向上所述正面处理单元和所述反面处理单元相邻的组。

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【专利技术属性】
技术研发人员：菊本宪幸，内田雄三，河原启之，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP