一种新型波前测量装置及方法、设备及介质制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种新型波前测量装置及方法、设备及介质，所述装置包括设置有成像靶面的图像传感器、光源，所述成像靶面的前方沿远离成像靶面的方向依次同轴地安装设置有掩膜板、第二透镜、光阑、第一透镜，所述掩膜板上按预设的分布密度均匀设置有复数个微型通光孔，微型通光孔的直径d>10λ，且直径d与掩膜板距成像靶面的距离满足关系：

【技术实现步骤摘要】
一种新型波前测量装置及方法、设备及介质
本专利技术涉及波前测试
，特别地，涉及一种新型波前测量装置及方法、设备及介质。
技术介绍
最早的Hartmann波前传感器主要通过在成像靶面前面布置一个具有很多小孔的Hartmann平板实现。光束在透过Hartmann平板后会形成很多小光束。受到变折射率场扰动影响后光束在靶面上的位置会发生变化。根据惠更斯(Huygens)原理结合Hartmann平板与靶面之间的距离便可以得到对应小孔处波前的空间梯度，选取合适的积分方法完成波前重构。Shack-Hartmann(S-H)波前传感器通过利用微透镜阵列代替了早期的Hartmann平板，透过微透镜的光束会聚焦在成像靶面上，通过类似Hartmann波前传感器的方法实现波前信息捕获。微透镜的运用使得S-H波前传感器的聚光效率更高，在微光条件下也可以比较好地使用。其次成像靶面上光斑的尺寸更小，确定光束偏斜角度更为精确。Hartmann波前传感器采用的Hartmann平板上面通光孔直径比较大，而且分布非常稀疏，不仅使得波前测试的误差比较大，而空间分辨率非常本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型波前测量装置，包括设置有成像靶面(7)的图像传感器、光源，其特征在于，/n所述成像靶面(7)的前方沿远离成像靶面(7)的方向依次同轴地安装设置有掩膜板(6)、第二透镜(5)、光阑(4)、第一透镜(3)，所述掩膜板(6)上按预设的分布密度均匀设置有复数个微型通光孔，微型通光孔的直径d>10λ，且直径d与掩膜板(6)距成像靶面(7)的距离满足关系：

【技术特征摘要】
1.一种新型波前测量装置，包括设置有成像靶面(7)的图像传感器、光源，其特征在于，
所述成像靶面(7)的前方沿远离成像靶面(7)的方向依次同轴地安装设置有掩膜板(6)、第二透镜(5)、光阑(4)、第一透镜(3)，所述掩膜板(6)上按预设的分布密度均匀设置有复数个微型通光孔，微型通光孔的直径d>10λ，且直径d与掩膜板(6)距成像靶面(7)的距离满足关系：同时L＞＞25λ，λ为光线波长；
所述第二透镜(5)、第一透镜(3)的焦点重叠，所述光阑(4)设置在焦点重叠处；
所述光源为准直光源(1)或非准直光源(8)。


2.根据权利要求1所述的新型波前测量装置，其特征在于，
所述微型通光孔在掩膜板(6)上行列式规则分布。


3.根据权利要求1所述的新型波前测量装置，其特征在于，
所述微型通光孔在掩膜板(6)上无规则随机分布。


4.根据权利要求1所述的新型波前测量装置，其特征在于，
所述掩膜板(6)上的微型通光孔的分布密度满足孔隙比0.4～0.6，且各微型通光孔相互之间不重叠。


5.根据权利要求1所述的新型波前测量装置，其特征在于，
所述成像靶面(7)为CCD传感器或者CMOS传感器。


6.一种新型波前测量方法，基于权利要求1至5中任一项所述的新型波前测量装置，其特征在于，包括步骤：
通过光源在有/无光学畸变场...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁浩林，易仕和，
申请(专利权)人：中国人民解放军国防科技大学，
类型：发明
国别省市：湖南;43