曝光装置、方法、薄膜晶体管的制造方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及曝光装置、方法、薄膜晶体管的制造方法、显示装置。本发明专利技术的目的是提供为了能够高密度地形成不同的曝光区域，并且使整个装置的尺寸小而具有适当构成的曝光装置。在用于使任意的曝光区域曝光的曝光装置中，备有具有用于使曝光区域曝光的预定光束宽度（Ｂ）的曝光光束的照射装置（２８０），具有至少与曝光光束的光束宽度相当的宽度的遮光板（Ｓ）、和通过驱动遮光板遮断曝光光束的一部分或全部，阻止曝光光束（Ｂ）到达曝光区域（ＤＡ）以外的区域的驱动装置（１１０）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及利用全息进行曝光的全息图曝光装置，特别是涉及适用于曝光全息掩模的一部分的曝光曝光装置和曝光方法。
技术介绍
在半导体装置的图案形成过程中，TIR(Total Internal Reflection全内部反射)型全息图曝光技术正在引起人们的注意。该曝光技术由对于全息掩模记录所要的图案的记录工序、和将再生光照射在该全息掩模上使半导体图案用的光致抗蚀剂感光的曝光工序构成。在记录工序中，首先将激光的记录光束照射在与半导体装置的图案对应的掩模图案(原分光板)上产生衍射光，射出到全息掩模的记录面上。另一方面，以一定的角度将来自全息掩模的里侧的参照光照射到全息掩模的记录面上，与来自原分光板的衍射光发生干涉。因此，在全息掩模的记录面上产生干涉图案，将它记录在全息记录面上。在曝光工序中，将全息掩模放置在与原分光板相同的位置上，当记录时从反方向照射作为再生光的曝光光束，使再现原图案的衍射光成像在在光致抗蚀剂上，使光致抗蚀剂曝光。一般地为了扫描全息掩模的整个面而作成在曝光工序中使用的曝光光束。而且为了只曝光全息掩模的一部分区域，至今使用具有全息掩模那样大小的遮光板。或者，调节曝光光束的扫描范围只使全息掩模的一部分区域曝光。可是，因为在同一个全息掩模上形成多个曝光区域，所以为了确保曝光量的均匀性，如图8(a)所示，需要在各曝光区域A～E的周围设置缓冲区域。又，在对于任意形状的曝光区域都可以遮光的情形中，必须使用大的遮光板，不得不使曝光装置的尺寸变得非常大。即，为了对于全息掩模上的任意位置中的曝光区域实现完全的遮光，需要分别覆盖该曝光区域的四周。为了与曝光区域处于全息掩模上的偏离位置上的情形对应，各个遮光板至少需要全息掩模那样的大小。而且，为了包围处于任意位置的曝光区域，至少需要用4块全息掩模那样的面积的遮光板。特别是，当曝光区域对于全息掩模来说比较大时，遮光板的宽度范围达到全息掩模3倍的宽度范围。全息掩模的尺寸越大这个问题变得越显著。因此，本专利技术的目的是提供能够高密度地形成不同的曝光区域，并且为了使装置全体的尺寸小而具有适当构成的曝光装置和曝光方法。用于达到上述目的的本专利技术的曝光装置是使任意的曝光区域曝光的曝光装置，它备有用于使曝光区域曝光的具有预定光束宽度的曝光光束的照射装置、和通过驱动与曝光区域的形状对应，具有至少与曝光光束的光束宽度相当的宽度的遮光板，遮断曝光光束的一部分或全部，阻止该曝光光束到达曝光区域以外的区域的驱动装置。更具体地说，在曝光区域具有由边包围的形状，例如四角形的情形中，只设置至少与曝光区域的边数对应的数目的遮光板，分别与边对应，遮光板具有至少与曝光光束的光束宽度相当的宽度和高度。这里，不限定曝光对象，能够应用于通常光刻法的曝光。又，上述曝光装置具有沿与曝光光束的照射方向大致垂直，相互交叉的2个方向中的任何一个方向独立地驱动的多块遮光板和驱动遮光板的驱动装置。进一步，上述的曝光装置具有沿与曝光光束的照射方向大致垂直，相互交叉的2个方向中的各个方向独立地驱动的4块遮光板和驱动遮光板的驱动装置。进一步，上述的曝光装置具有可以与曝光光束的照射方向大致垂直地移动的遮光板和驱动遮光板的驱动装置。又，上述照射装置在从与曝光区域对应的遮光平面内的区域的境界，不超过加上与该遮光平面内的光束宽度的约1/2相当的宽度的区域的范围内移动曝光光束的中心点。又，上述的曝光装置中的上述驱动装置，当曝光光束的中心点与曝光区域的境界的距离在曝光光束宽度的1/2以下时，为了使曝光光束只到达曝光区域内而移动遮光板。又，本专利技术的曝光方法是用于使任意的曝光区域曝光的曝光方法，它包含为了遮断具有预定的光束宽度的曝光光束的一部分，阻止该曝光光束到达曝光区域以外的区域，在从与曝光区域对应的遮光平面内的区域的境界，不超过加上与该遮光平面内的光束宽度的约1/2相当的宽度的区域的范围内移动曝光光束的中心点进行曝光的扫描控制过程、和为了阻止该曝光光束到达曝光区域以外的区域，移动具有至少与光束宽度相当宽度和高的遮光板，遮住曝光光束的一部分或全部的遮光控制过程。更具体地说，它是备有在曝光区域具有由边包围的形状，例如四角形的情形中，为了遮断具有预定光束宽度的曝光光束的一部分或全部，阻止该曝光光束到达曝光区域以外的区域，在从与曝光区域对应的遮光平面内的区域的境界，不超过加上与该遮光平面内的光束宽度的约1/2相当的宽度的区域的扫描范围内移动曝光光束的中心点进行曝光的扫描控制的曝光方法。这里，曝光步骤包含使曝光光束的中心点位于扫描范围的边界上的步骤、在使曝光光束稳定后使该曝光光束沿第1方向进行扫描的步骤、当曝光光束的中心点到达扫描范围的另一端时，使曝光光束沿第2方向只移动预定距离，使该曝光光束沿与到达该另一端前的扫描方向相反的方向进行扫描的步骤、和当曝光光束的中心点到达扫描范围的终端时，结束曝光的步骤。又，在本专利技术的曝光方法中，在扫描控制过程中，当沿第1方向进行扫描中的曝光光束的中心位于从扫描区域沿该区域以外的方向在该曝光光束宽度的1/2以内的距离上时，进一步，实施为了使该曝光光束不到达扫描范围以外的区域而与该扫描速度同步地移动遮光板的遮光控制步骤。又，在本专利技术的薄膜晶体管的制造方法中包含对于感光性树脂上的曝光区域，使具有预定光束宽度的曝光光束的中心从曝光区域在不超过与曝光光束宽度的1/2相当的宽度的扫描范围内移动的扫描控制过程、为了阻止该曝光光束到达曝光区域以外的区域，使具有至少与光束宽度相当的宽度和高度的遮光板移动，遮断曝光光束的一部分或全部的遮光控制过程、对经过扫描控制过程和遮光控制过程对形成预定图案的感光性树脂进行刻蚀形成掩模图案的掩模图案形成过程、和用上述掩模图案，形成栅极的电极的形成过程。又，本专利技术的显示装置是备有用上述薄膜晶体管的制造方法制造的薄膜晶体管的显示装置。又，本专利技术的电子设备备有上述显示装置。附图说明图1是本专利技术中的构成原理说明图。图2是本专利技术中的工作原理说明图。图3是实施形态1中的全息图曝光装置的构成图。图4是说明本实施形态1中的曝光方法的操作程序图。图5是说明根据实施形态1中的曝光方法的扫描顺序的全息掩模面的说明图。图6是说明根据实施形态2中的曝光方法的扫描顺序的全息掩模面的说明图。图7是说明实施形态1中的曝光方法的的操作程序图。图8(a)是在已有的曝光装置中组合可以曝光的曝光区域的例子，图8(b)是在本专利技术中组合可以曝光的全息掩模的曝光区域的例子。图9是显示装置的连接图。图10是到显示装置在电子设备中的应用例。其中Sv1、Sv2、Sh1、Sh2……快门(遮光板)，Wsv……垂直方向的遮光板的宽度，Wsh……水平方向的遮光板的宽度，Wbv……垂直方向的光束宽度，Wbh……水平方向的光束宽度，L……曝光光源，SS……移动曝光系统，A～E……在全息掩模中的曝光区域，HM……全息掩模，P……棱镜，100……第3信息处理装置，102……遮光板驱动器，200……全息掩模，201……棱镜 具体实施例方式下面，我们一面参照附图一面说明本专利技术的实施形态。(第1实施形态)本专利技术的第1实施形态，在全息图曝光装置中，使曝光光束在全息掩模上沿水平(或横)方向(图1、图5的h方向)进行主扫描，沿垂直(或纵)方向(图1、图5的v方向)本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种使任意的曝光区域曝光的曝光装置，其特征在于：它备有具有使上述曝光区域曝光的预定光束宽度的曝光光束的照射装置，具有至少与曝光光束的光束宽度相当的宽度的遮光板、和通过驱动上述遮光板遮断上述曝光光束的一部分或全部，阻止该曝光光束到达上 述曝光区域以外的区域的驱动装置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：入口千春，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]