本发明专利技术公开了一种基于半导体陶瓷片的电加热采暖炉，其结构包括机体、前置门、排水管、控制面板，前置门与机体正面内壁铰链连接，排水管水平安装在机体右侧，由于液体中的杂质沉积在加热腔底部的陶瓷片上表面，通过推动机构的推板在加热腔底部来回移动，使得加热腔底部的液体流动，有利于沉积在加热腔底部的物质与液体混合后随着液体排放，减少杂质长期沉积后固化在陶瓷片表面，增大陶瓷片与液体的接触面，加快液体的加热速度，由于液体进入到侧槽中，液体中的杂质易滞留在侧槽内壁，通过推动块在侧槽来回移动，推片将侧槽内壁滞留的杂质清除后排放，有利于减小杂质堆积在侧槽内壁，减小杂质的阻力加快推动块的移动速度。减小杂质的阻力加快推动块的移动速度。减小杂质的阻力加快推动块的移动速度。
【技术实现步骤摘要】
一种基于半导体陶瓷片的电加热采暖炉
[0001]本专利技术属于导体陶瓷领域，更具体的说，尤其涉及到一种基于半导体陶瓷片的电加热采暖炉。
技术介绍
[0002]半导体陶瓷具有良好的导热性，在电加热采暖炉中，通过陶瓷片将加热器与液体隔离，加热器将热量传导给陶瓷片，陶瓷片将液体加热升温后供使用，为了加快对液体加热的速度，加热腔位于采暖炉中部，加热器和陶瓷片以加热腔为中心呈上下对称分布；现有技术中采用电加热采暖炉对液体加热时，由于液体含有杂质，在加热的过程中液体为静止状态，液体中的杂质沉积在加热腔底部的陶瓷片上表面，随着使用时间的延长，杂质长期沉积后易固化在陶瓷片表面，导致陶瓷片与液体的接触面受到阻挡，减慢液体的加热速度。
技术实现思路
[0003]为了解决上述技术采用电加热采暖炉对液体加热时，由于液体含有杂质，在加热的过程中液体为静止状态，液体中的杂质沉积在加热腔底部的陶瓷片上表面，随着使用时间的延长，杂质长期沉积后易固化在陶瓷片表面，导致陶瓷片与液压的接触面受到阻挡，减慢液体的加热速度，本专利技术提供一种基于半导体陶瓷片的电加热采暖炉。
[0004]为了实现上述目的，本专利技术是通过如下的技术方案来实现：一种基于半导体陶瓷片的电加热采暖炉，其结构包括机体、前置门、排水管、控制面板，所述前置门与机体正面内壁铰链连接，所述排水管水平安装在机体右侧，所述机体顶部表面设置有控制面板。
[0005]所述机体设有加热腔、加热器、陶瓷片、推动机构，所述加热腔位于机体内中部，所述加热器固定在机体顶部和底部内壁，所述陶瓷片与加热器末端相连接，所述推动机构安装在加热腔左侧内壁中下位置。
[0006]作为本专利技术的进一步改进，所述推动机构设有支撑架、限位片、推杆、推板，所述支撑架位于推动机构左侧，所述限位片设置在支撑架内中部，所述推杆安装在限位片左侧与支撑架之间，所述推板左端穿过支撑架中部与限位片相连接，所述推杆设有两个，呈上下对称分布。
[0007]作为本专利技术的进一步改进，所述推板设有轴承、转动板、凹槽、分散板，所述轴承位于推板左侧，所述转动板套在轴承右端，所述凹槽凹陷在转动板外壁，所述分散板固定在转动板右侧面，所述凹槽设有六个。
[0008]作为本专利技术的进一步改进，所述分散板设有板体、侧槽、伸缩杆、推动块，所述板体位于分散板左侧，所述侧槽凹陷在板体右侧面，所述伸缩杆安装在侧槽内部，所述推动块与伸缩杆活动配合，所述侧槽设有五个。
[0009]作为本专利技术的进一步改进，所述推动块设有块体、衔接轴、弹条，所述块体位于推动块上下两端，所述衔接轴衔接安装在块体右端相连接位置，所述弹条夹在块体左侧中部，所述弹条设有两个，为弹簧材质。
[0010]作为本专利技术的进一步改进，所述块体设有支撑块、弹块、推片、引流槽，所述支撑块位于块体下方，所述推片通过弹块固定在支撑块左端顶部，所述引流槽凹陷在支撑块右侧表面，所述引流槽为凹陷的弧面状。
[0011]作为本专利技术的进一步改进，所述推片设有支撑板、刮片、引流轨，所述支撑板位于推片底面，所述刮片与支撑板左端顶部为一体化结构，所述引流轨凹陷在支撑板上表面，所述刮片为粗糙的表面。
[0012]有益效果
[0013]与现有技术相比，本专利技术具有如下有益效果：
[0014]1、由于液体中的杂质沉积在加热腔底部的陶瓷片上表面，通过推动机构的推板在加热腔底部来回移动，使得加热腔底部的液体流动，有利于沉积在加热腔底部的物质与液体混合后随着液体排放，减少杂质长期沉积后固化在陶瓷片表面，增大陶瓷片与液体的接触面，加快液体的加热速度。
[0015]2、由于液体进入到侧槽中，液体中的杂质易滞留在侧槽内壁，通过推动块在侧槽来回移动，推片将侧槽内壁滞留的杂质清除后排放，有利于减小杂质堆积在侧槽内壁，减小杂质的阻力加快推动块的移动速度。
附图说明
[0016]图1为本专利技术一种基于半导体陶瓷片的电加热采暖炉的结构示意图。
[0017]图2为本专利技术一种机体内部正视的结构示意图。
[0018]图3为本专利技术一种推动机构正面剖视的结构示意图。
[0019]图4为本专利技术一种推板的结构示意图。
[0020]图5为本专利技术一种分散板正面剖视的结构示意图。
[0021]图6为本专利技术一种推动块正视的结构示意图。
[0022]图7为本专利技术一种块体正视的结构示意图。
[0023]图8为本专利技术一种推片的结构示意图。
[0024]图中：机体-1、前置门-2、排水管-3、控制面板-4、加热腔-11、加热器-12、陶瓷片-13、推动机构-14、支撑架-a1、限位片-a2、推杆-a3、推板-a4、轴承-s1、转动板-s2、凹槽-s3、分散板-s4、板体-d1、侧槽-d2、伸缩杆-d3、推动块-d4、块体-e1、衔接轴-e2、弹条-e3、支撑块-r1、弹块-r2、推片-r3、引流槽-r4、支撑板-t1、刮片-t2、引流轨-t3。
具体实施方式
[0025]以下结合附图对本专利技术做进一步描述：
[0026]实施例1：
[0027]如附图1至附图5所示：
[0028]本专利技术提供一种基于半导体陶瓷片的电加热采暖炉，其结构包括机体1、前置门2、排水管3、控制面板4，所述前置门2与机体1正面内壁铰链连接，所述排水管3水平安装在机体1右侧，所述机体1顶部表面设置有控制面板4。
[0029]所述机体1设有加热腔11、加热器12、陶瓷片13、推动机构14，所述加热腔11位于机体1内中部，所述加热器12固定在机体1顶部和底部内壁，所述陶瓷片13与加热器12末端相
连接，所述推动机构14安装在加热腔11左侧内壁中下位置。
[0030]其中，所述推动机构14设有支撑架a1、限位片a2、推杆a3、推板a4，所述支撑架a1位于推动机构14左侧，所述限位片a2设置在支撑架a1内中部，所述推杆a3安装在限位片a2左侧与支撑架a1之间，所述推板a4左端穿过支撑架a1中部与限位片a2相连接，所述推杆a3设有两个，呈上下对称分布，有利于限位片a2受力均匀，能够增大推杆a3的推力加快限位片a2的移动速度。
[0031]其中，所述推板a4设有轴承s1、转动板s2、凹槽s3、分散板s4，所述轴承s1位于推板a4左侧，所述转动板s2套在轴承s1右端，所述凹槽s3凹陷在转动板s2外壁，所述分散板s4固定在转动板s2右侧面，所述凹槽s3设有六个，有利于增大转动板s2的受力面积，加快转动板s2受到液体推力的转动速度。
[0032]其中，所述分散板s4设有板体d1、侧槽d2、伸缩杆d3、推动块d4，所述板体d1位于分散板s4左侧，所述侧槽d2凹陷在板体d1右侧面，所述伸缩杆d3安装在侧槽d2内部，所述推动块d4与伸缩杆d3活动配合，所述侧槽d2设有五个，使得分散板s4右侧呈凹凸不平的表面，增大液体的推力，加快分散板s4的移动速度，加快将加热腔11底部滞留的物质推动与液体混合排放。
[0033]本实施例的具体使本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基于半导体陶瓷片的电加热采暖炉，其结构包括机体(1)、前置门(2)、排水管(3)、控制面板(4)，所述前置门(2)与机体(1)正面内壁铰链连接，所述排水管(3)水平安装在机体(1)右侧，所述机体(1)顶部表面设置有控制面板(4)，其特征在于：所述机体(1)设有加热腔(11)、加热器(12)、陶瓷片(13)、推动机构(14)，所述加热腔(11)位于机体(1)内中部，所述加热器(12)固定在机体(1)顶部和底部内壁，所述陶瓷片(13)与加热器(12)末端相连接，所述推动机构(14)安装在加热腔(11)左侧内壁中下位置。2.根据权利要求1所述的一种基于半导体陶瓷片的电加热采暖炉，其特征在于：所述推动机构(14)设有支撑架(a1)、限位片(a2)、推杆(a3)、推板(a4)，所述支撑架(a1)位于推动机构(14)左侧，所述限位片(a2)设置在支撑架(a1)内中部，所述推杆(a3)安装在限位片(a2)左侧与支撑架(a1)之间，所述推板(a4)左端穿过支撑架(a1)中部与限位片(a2)相连接。3.根据权利要求2所述的一种基于半导体陶瓷片的电加热采暖炉，其特征在于：所述推板(a4)设有轴承(s1)、转动板(s2)、凹槽(s3)、分散板(s4)，所述轴承(s1)位于推板(a4)左侧，所述转动板(s2)套在轴承(s1)右端，所述凹槽(s3)凹陷在转动板(s2)外壁，所述分散板(s4)固定在转动板(s...
【专利技术属性】
技术研发人员：韩梦茹，
申请(专利权)人：韩梦茹，
类型：发明
国别省市：
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