【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种成像设备。
技术介绍
在典型的电子照相成像设备中，诸如利用激光光学扫描表面的激光写 入装置的潜像写入单元将潜像写在潜像载体上。潜像载体例如是均匀充电 的感光体。在这种成像设备中，取决于设备内的布局，潜像写入单元成为 障碍，并且导致潜像载体和各种周边装置的可维护性下降。各种周边装置 包括设置在潜像载体附近的显影单元或清洁单元。在曰本专利申请公开说明书第2849978号中，描述了一种成像设备， 其中，潜像写入单元固定到开关盖上，该开关盖相对于固定盖打开和关 闭，并且潜像载体固定到固定盖上。固定盖是成像设备的壳体的一部分。 在开关盖打开时，潜像写入单元与潜像载体宽阔地分离。由于在开关盖打 开时，潜像写入单元从与潜像载体相对的位置回退，潜像载体及其周边装 置外露，由此改善了潜像载体及其周边装置的可维护性。但是，有时开关盖相对于固定盖振动(rattle),而导致潜像写入单元和 潜像载体的相对位置中出现误差。这种误差导致潜像写入单元的写入位置 精度降低。因此，本申请人已经提出一种成像设备，如在日本专利申请公开说明 书第2006-157380 (以下称为在...
【技术保护点】
一种成像设备，包括： 承载潜像的潜像载体； 将潜像写入在潜像载体上的潜像写入单元； 保持体，该保持体可以相对于设备主体以设置在设备主体上的旋转轴为中心在打开位置和关闭位置之间摆动，同时保持潜像写入单元，其中，基准位置部件设置在潜像写入单元的定位基准位置处，定位元件设置在设备主体中，以在保持体处于关闭位置时将潜像写入单元相对于潜像载体定位，且基准位置部件被偏压元件偏压，以便与定位元件相接触； 机构，在保持体处于关闭位置时，该机构将定位元件和基准位置部件置于接触状态和非接触状态中的任一种，在接触状态下，定位元件和基准位置部件相接触，而在非接触状态，定位元件和基准位置部件不接触；...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：出原良，喜多信彦，小沼精，近藤和芳，古市佑介，萩原元太，多田薰，
申请(专利权)人：株式会社理光，
类型：发明
国别省市：JP
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