本发明专利技术提供了一种蒸镀掩模制造方法，该方法包括步骤：提供金属卷材；分别在所述金属卷材的上表面及下表面真空贴合干膜光阻，通过曝光显影将所述干膜光阻图案化；通过图案化的所述干膜光阻刻蚀所述上表面形成第一面侧，在所述第一面侧真空贴合树脂以填埋所述第一凹部；通过图案化的所述干膜光阻刻蚀所述下表面形成第二面侧，所述第二面侧包括若干个第二凹部，所述第二凹部包括第二刻蚀面，相邻的两个第二刻蚀面相交形成凸起部，所述凸起部沿背离所述上表面的方向凸起；所述第二支撑部包括多个边部和多个尖部，所述尖部位于相邻的两边部之间，以提高蒸镀掩模与蒸镀基板配合的密着性，减轻张网时的褶皱，同时减轻蒸镀时的阴影，提高蒸镀精度。提高蒸镀精度。提高蒸镀精度。
【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模制造方法、蒸镀掩模、组件、装置及显示装置
[0001]本专利技术涉及光学掩模板
，尤其涉及一种蒸镀掩模制造方法、蒸镀掩模、组件、装置及显示装置。
技术介绍
[0002]近年来，智能手机和平板电脑等移动终端上使用的显示器要求非常精细(像素数:400ppi以上)。未来，面向移动终端将被要求使用ultra high difinision(UHD，超高清分辨率)，并且预计将要求更高精细(像素数:800ppi)的OLED面板。OLED面板制造中需要使用蒸镀掩模，为了对应OLED面板的高精细化，蒸镀掩模也需要高精细化，蒸镀掩模的厚度太大会在被蒸镀工件上留下未被蒸镀充分的阴影，影响蒸镀效果，采用厚度更小的蒸镀掩模有利于提高精细化，但厚度太小会降低刚性并且张网时会发生褶皱，刚性差会导致蒸镀掩模与蒸镀基板的密着性变差，从而影响了蒸镀精度。因此有必要提供一种具有高密着性的蒸镀掩模及其制造方法。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的在于提供一种具有高密着性的蒸镀掩模及其制造方法。
[0004]本专利技术的技术方案如下：一种蒸镀掩模制造方法，所述蒸镀掩模在蒸镀材料向蒸镀基板的蒸镀中被使用，所述蒸镀掩模包括：
[0005]第一面侧，其构成所述蒸镀掩模面对所述蒸镀基板的一侧；
[0006]第二面侧，其构成所述蒸镀掩模与所述第一面侧相反的一侧；及
[0007]贯通孔，其贯穿所述第一面侧与所述第二面侧，
[0008]该方法包括步骤：
[0009]提供一包括上表面及与上表面相对的下表面的金属卷材，所述金属卷材的厚度T满足关系式：10um≤T≤40um；
[0010]分别在所述金属卷材的上表面及下表面真空贴合干膜光阻，通过曝光显影将所述干膜光阻图案化；
[0011]通过图案化的所述干膜光阻刻蚀所述上表面形成第一面侧，所述第一面侧至少包括若干第一凹部，所述第一凹部向所述下表面凹陷；
[0012]在所述第一面侧真空贴合树脂以填埋所述第一凹部；
[0013]通过图案化的所述干膜光阻刻蚀所述下表面形成第二面侧，所述第二面侧包括若干个第二凹部和若干个第二支撑部，所述第二凹部与所述第一凹部相贯通形成贯通孔，所述第二支撑部为平面，且所述第二支撑部至所述上表面的厚度等于金属卷材的厚度T；所述第二凹部包括第二开口及第二刻蚀面，所述第二开口与所述第二支撑部相连，且所述第二刻蚀面连接所述第二开口与所述贯通孔，相邻的两个第二刻蚀面相交形成凸起部，所述凸起部沿背离所述上表面的方向凸起；所述第二支撑部包括多个边部和多个尖部，所述尖部位于相邻的两边部之间，所述边部向内凹陷，所述尖部指向所述凸起部并与所述凸起部相
连；
[0014]剥离所述树脂及所述干膜光阻；
[0015]裁剪所述金属卷材形成若干金属片材；
[0016]剪裁所述金属片材形成若干条状的蒸镀掩模。
[0017]更优地，多个所述边部成对设置，定义相对的两边部之间的宽度为W3，满足关系式：
[0018]2um≤W3≤10um。
[0019]更优地，多个所述尖部成对设置，定义相对的两尖部之间的距离为W4，满足关系式：
[0020]1um≤W4
‑
W3≤5um。
[0021]更优地，所述金属卷材的材料为镍铁合金。
[0022]一种制造装置，其用于实施任一所述的蒸镀掩模制造方法。
[0023]一种蒸镀掩模，其通过任一所述的蒸镀掩模制造方法制造获得。
[0024]一种蒸镀掩模组件，其至少包括框架及任一所述的蒸镀掩模，所述蒸镀掩模张网焊接于所述框架。
[0025]更优地，所述蒸镀掩模张网焊接于所述框架前先对所述框架施加作用力进行预变形处理。
[0026]更优地，定义张网于框架上的蒸镀掩模的所述贯通孔的位置相对于位置精度规定的位置的偏移精度为P，则满足关系式：
[0027]‑
3um≤P≤3um。
[0028]更优地，所述预变形处理的预变形力及相对蒸镀掩模的张网力通过模拟获得。
[0029]更优地，所述框架的材料为镍铁合金。
[0030]一种蒸镀掩模装置，其特征在于，包括任一所述的蒸镀掩模组件。
[0031]一种有机显示装置，该有机显示装置通过所述的蒸镀掩模装置进行蒸镀获得。
[0032]本专利技术的有益效果在于：本专利技术规定了蒸镀掩模的第二支撑部的形状以提高蒸镀掩模与蒸镀基板配合的密着性，减轻张网时的褶皱，同时减轻蒸镀时的阴影，提高蒸镀精度。
【附图说明】
[0033]图1为本专利技术的蒸镀掩模装置结构示意图；
[0034]图2为本专利技术的蒸镀掩模组件结构示意图；
[0035]图3为对应绿色蒸镀材料的蒸镀掩模第一面侧示意图；
[0036]图4为对应红色蒸镀材料的蒸镀掩模第一面侧示意图；
[0037]图5为对应蓝色蒸镀材料的蒸镀掩模第一面侧示意图；
[0038]图6为红绿蓝三种蒸镀材料在玻璃基板组合形成的蒸镀区域；
[0039]图7为本专利技术的蒸镀掩模掩模的第一面侧朝上的结构示意图；
[0040]图8为本专利技术的蒸镀掩模掩模的第二面侧朝上的结构示意图；
[0041]图9为图7中A
‑
A处截面示意图；
[0042]图10为图7中B
‑
B处截面示意图；
[0043]图11为本专利技术的蒸镀掩模制造方法流程示意图；
[0044]图12为本专利技术的第一贴合设备的结构示意图；
[0045]图13为本专利技术的曝光设备的结构示意图；
[0046]图14为本专利技术的显影设备的结构示意图；
[0047]图15为本专利技术的金属卷材在制造装置内的输送顺序流程示意图；
[0048]图16为本专利技术的步骤S20对应的蒸镀掩模结构剖视图；
[0049]图17为本专利技术的步骤S40对应的蒸镀掩模结构剖视图；
[0050]图18为本专利技术的步骤S50对应的蒸镀掩模结构剖视图；
[0051]图19为本专利技术的步骤S60对应的蒸镀掩模结构剖视图；
[0052]图20为本专利技术的步骤S70对应的蒸镀掩模结构剖视图。
【具体实施方式】
[0053]下面结合附图和实施方式对本专利技术作进一步说明。
[0054](蒸镀掩模装置4000)
[0055]本实施例提供一种蒸镀掩模装置4000，参见图1，所述蒸镀掩模装置4000包括：蒸镀掩模组件1000、蒸镀组件2000及蒸镀基板3000，蒸镀组件2000加热产生气化或升华的蒸镀材料2300并通过蒸镀掩模组件1000蒸镀于蒸镀基板3000上。
[0056]更优地，参见图2，所述蒸镀掩模组件1000包括蒸镀掩模100和框架200，所述框架200的中部设有贯通的贯通区域210，所述蒸镀基板3000设置于所述贯通区域210内，所述蒸镀掩模100固定于所述框架200并与所述蒸镀基板本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩模制造方法，所述蒸镀掩模在蒸镀材料向蒸镀基板的蒸镀中被使用，所述蒸镀掩模包括：第一面侧，其构成所述蒸镀掩模面对所述蒸镀基板的一侧；第二面侧，其构成所述蒸镀掩模与所述第一面侧相反的一侧；及贯通孔，其贯穿所述第一面侧与所述第二面侧，其特征在于，该方法包括步骤：提供一包括上表面及与上表面相对的下表面的金属卷材，所述金属卷材的厚度T满足关系式：10um≤T≤40um；分别在所述金属卷材的上表面及下表面真空贴合干膜光阻，通过曝光显影将所述干膜光阻图案化；通过图案化的所述干膜光阻刻蚀所述上表面形成第一面侧，所述第一面侧至少包括若干第一凹部，所述第一凹部向所述下表面凹陷；在所述第一面侧真空贴合树脂以填埋所述第一凹部；通过图案化的所述干膜光阻刻蚀所述下表面形成第二面侧，所述第二面侧包括若干个第二凹部和若干个第二支撑部，所述第二凹部与所述第一凹部相贯通形成贯通孔，所述第二支撑部为平面，且所述第二支撑部至所述上表面的厚度等于金属卷材的厚度T；所述第二凹部包括第二开口及第二刻蚀面，所述第二开口与所述第二支撑部相连，且所述第二刻蚀面连接所述第二开口与所述贯通孔，相邻的两个第二刻蚀面相交形成凸起部，所述凸起部沿背离所述上表面的方向凸起；所述第二支撑部包括多个边部和多个尖部，所述尖部位于相邻的两边部之间，所述边部向内凹陷，所述尖部指向所述凸起部并与所述凸起部相连；剥离所述树脂及所述干膜光阻；裁剪所述金属卷材形成若干金属片材；剪裁所述金属片材形成若干条状的蒸镀掩模。2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模制造方法，其特征在于，多个所述边部成对设置，定义相对的两边部之间的宽度为W3，满足关系式：2um...
【专利技术属性】
技术研发人员：蓝秋亮，
申请(专利权)人：匠博先进材料科技广州有限公司，
类型：发明
国别省市：
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