涂布装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种涂布装置。形成有多个孔部(43)的截流环(41)配置在内罩(21)的下端(26A)，且具有与外罩(23)的从外周壁(29)到间壁(31)为止的宽度大致相同的环宽。由于从内罩(21)滴落的涂布液的一部分被截流环(41)拦截，因此能够防止因冰柱状的涂布液导致底排气通路(PT2)堵塞。另外，当气体从外排气通路(PT1)流向底排气通路(PT2)时，截流环(41)能够捕获涂布液雾气。进而，当气体从底排气通路(PT2)流向内排气通路(PT3)时，截流环(41)能够进一步捕获残留的涂布液雾气。能够提高处理液雾气的捕获效率。捕获效率。捕获效率。

【技术实现步骤摘要】
涂布装置


[0001]本专利技术涉及一种将涂布液涂布在衬底表面的涂布装置。衬底例如可列举：半导体衬底、FPD(Flat Panel Display，平板显示器)用衬底、光罩用玻璃衬底、光碟用衬底、磁碟用衬底、陶瓷衬底、太阳电池用衬底等。FPD例如可列举：液晶显示装置、有机EL(electroluminescence，电致发光)显示装置等。

技术介绍

[0002]以往的涂布装置是通过向衬底上供给涂布液，并使衬底旋转而将涂布液涂布在衬底上。此时，多余的涂布液因离心力而飞散到衬底外。飞散到衬底外的涂布液利用防飞散罩(以下，称作“罩”)进行回收(例如，参照专利文献1～3)。
[0003]此外，专利文献1中揭示了一种捕雾器，其在将罩内的气体向外部排出的排气通路内、且在排气口附近，捕捉罩内气体中所含有的涂布液雾气。
[0004]专利文献2中揭示了一种截流部件，其捕捉悬浮的线状涂布液。截流部件具有多个孔部。截流部件配置为将上下方向的排气通路从下侧拦截。截流部件利用螺丝，经由间隔片安装在整流部件。由于截流部件形成为大于整流部件的外径，因此能够使洗净液滴在截流部件的上表面，使得附着在截流部件的孔部的涂布液被洗净液洗净并去除。
[0005]专利文献3中揭示了一种涂布液捕获部件，其捕获线状涂布液。涂布液捕获部件具有多个开口部，且构成为能够贮存溶剂。线状涂布液与贮存在涂布液捕获部件的溶剂接触而被溶解。
[0006][先前技术文献][0007][专利文献][0008][专利文献1][0009]日本专利特开2003-080159号公报
[0010][专利文献2][0011]日本专利特开2016-184644号公报
[0012][专利文献3][0013]日本专利特开2019-046833号公报

技术实现思路

[0014][专利技术要解决的问题][0015]然而，以往的装置存在以下问题。如果因衬底的旋转使得多余的处理液飞散，那么会产生涂布液雾气。涂布液雾气有可能会附着在排气通路的内壁而堵塞排气通路。可设置捕雾器以捕获(捕捉)涂布液雾气。但是，以往的捕雾器有可能捕获效果不充分。另外，如图15所示，有可能涂布液在内罩121的下端成为冰柱状(符号IC)而堵塞排气通路。
[0016]本专利技术是鉴于如上所述的情况而完成的，其目的在于提供一种能够防止因冰柱状的涂布液导致排气通路堵塞，且能够提高处理液雾气的捕获效率的涂布装置。
[0017][解决问题的技术手段][0018]本专利技术为了达成如上所述的目的，采用如下构成。也就是说，本专利技术的涂布装置的特征在于具备：旋转吸盘，保持衬底；旋转轴，设置在所述旋转吸盘的下表面，能够与所述旋转吸盘一起绕铅直轴旋转；圆筒状内罩，配置在所述旋转轴的周围；外罩，收容被所述旋转吸盘保持的衬底及所述内罩，且具有与所述内罩的下端隔开地配置的中空圆板状的底部、从所述底部的外缘部向上方延伸且配置在所述内罩周围的圆筒状外周壁、及从所述底部的内缘部向上方延伸且配置在所述内罩内侧的圆筒状间壁；外排气通路，为所述外罩的所述外周壁与所述内罩的间隙；底排气通路，与所述外排气通路连通，为所述内罩的下端与所述外罩的所述底部的间隙；内排气通路，与所述底排气通路连通，为所述内罩与所述外罩的所述间壁的间隙；排气部，将所述外排气通路、所述底排气通路及所述内排气通路从所述外罩的所述间壁的内周侧进行排气；及截流环，形成有多个孔部；且截流环配置在所述内罩的下端，具有与所述外罩从所述外周壁到所述间壁为止的宽度大致相同的环宽。
[0019]根据本专利技术的涂布装置，形成有多个孔部的截流环配置在内罩的下端，且具有与外罩的从外周壁到间壁为止的宽度大致相同的环宽。由于从内罩滴落的涂布液的一部分被截流环拦截，因此能够防止冰柱状的涂布液堵塞底排气通路。另外，当气体从外排气通路流向底排气通路时，截流环能够捕获涂布液雾气。进而，当气体从底排气通路流向内排气通路时，截流环能够进一步捕获残留的涂布液雾气。也就是说，根据这种构成，能够使要排气的气体通过截流环两次。因此，能够提高处理液雾气的捕获效率。
[0020]另外，在所述涂布装置中，优选还具备：溶剂供给部，从所述旋转吸盘侧向所述外罩的所述外周壁与所述内罩之间供给溶剂；及液体排出部，用于从所述外罩的底部排出溶剂。通过利用溶剂供给部供给溶剂，例如能够将外周壁、内罩及截流环洗净。
[0021]另外，在所述涂布装置中，优选所述截流环在与所述内罩的下端之间具有间隙地配置，且所述截流环以内周侧变低的方式倾斜。由此，能够使得溶剂从截流环的外周流到内周。例如，在截流环以外周侧变低的方式倾斜的情况下，溶剂流向截流环的外周侧，但无法流向内周侧。
[0022]另外，在所述涂布装置中，优选所述内罩具有以外周侧变低的方式倾斜的中空圆板状的上整流部件、及与所述上整流部件的外缘部连接的圆筒状的下整流部件，所述外罩具有设置在其内壁的环状导引突起部，且所述导引突起部将被包含所述导引突起部的所述外罩的内壁接住的溶剂引至所述上整流部件上。被引至上整流部件上的溶剂流向与上整流部件的外缘部连接的下整流部件。因此，能够使溶剂从下整流部件的上游侧流动。因此，能够将附着在下整流部件的外壁的涂布液冲掉，从而能够进一步防止因冰柱状的涂布液导致排气通路堵塞。
[0023]另外，在所述涂布装置中，优选所述内罩具有以外周侧变低的方式倾斜的中空圆板状的上整流部件、及与所述上整流部件的外缘部连接的圆筒状的下整流部件，所述外罩具有设置在其内壁的环状导引突起部，且所述导引突起部将被包含所述导引突起部的所述外罩的内壁接住的溶剂引至所述下整流部件的外壁。由此，能够将附着在下整流部件的外壁的涂布液冲掉，因此能够进一步防止因冰柱状的涂布液导致排气通路堵塞。
[0024]另外，在所述涂布装置中，优选所述导引突起部具有所述溶剂聚集的前端、与从所述前端各自延伸的2个面，且所述前端以成为所述2个面的最低位置的方式配置。由于前端
以成为2个面的最低位置的方式配置，因此能够使溶剂聚集在前端，并且能够防止溶剂从前端顺着一个面流动。因此，能够使聚集在前端的溶剂从前端有效地滴下。
[0025]另外，在所述涂布装置中，优选还具备环状溶剂导引部件，该环状溶剂导引部件设置在所述外罩的外周壁的内壁，用于将从所述溶剂供给部供给的溶剂引至所述截流环。由此，能够容易地将溶剂供给至截流环。
[0026]另外，在所述涂布装置中，所述截流环优选在与所述外周壁之间及与所述间壁之间具有间隙地配置。通过设置间隙，即便外罩发生变形，也能够防止变得难以安装截流环。另外，由于避免堵塞外周壁附近及间壁附近的排气通路，因此能够防止排气性能下降。进而，能够抑制截流环因附着的涂布液(例如阻剂)与外周壁及间壁的至少一个固接，其结果能够防止变得难以拆卸截流环，从而防止维护性下降。
[0027]另外，在所述涂布装置中，所述截流环优选还具备挂钩，该挂钩挂在所述外罩或所述内罩上，用于垂吊所述截流环。例如，如果利用螺丝固定截流环，那么当覆盖螺丝的涂布液固化时，变得难以拆卸截本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种涂布装置，其特征在于具备：旋转吸盘，保持衬底；旋转轴，设置在所述旋转吸盘的下表面，能够与所述旋转吸盘一起绕铅直轴旋转；圆筒状内罩，配置在所述旋转轴的周围；外罩，收容被所述旋转吸盘保持的衬底及所述内罩，且具有与所述内罩的下端隔开地配置的中空圆板状的底部、从所述底部的外缘部向上方延伸且配置在所述内罩周围的圆筒状外周壁、及从所述底部的内缘部向上方延伸且配置在所述内罩内侧的圆筒状间壁；外排气通路，为所述外罩的所述外周壁与所述内罩的间隙；底排气通路，与所述外排气通路连通，为所述内罩的下端与所述外罩的所述底部的间隙；内排气通路，与所述底排气通路连通，为所述内罩与所述外罩的所述间壁的间隙；排气部，将所述外排气通路、所述底排气通路及所述内排气通路从所述外罩的所述间壁的内周侧进行排气；及截流环，形成有多个孔部；且所述截流环配置在所述内罩的下端，具有与所述外罩从所述外周壁到所述间壁为止的宽度大致相同的环宽。2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于：还具备：溶剂供给部，从所述旋转吸盘侧向所述外罩的所述外周壁与所述内罩之间供给溶剂；及液体排出部，用于从所述外罩的底部排出溶剂。3.根据权利要求2所述的涂布装置，其特征在于：所述截流环配置为在与所述内罩的下端之间具有间隙，所述截流环以内周侧变低的方式倾斜。4.根据权利要求2所述的涂布装置，其特征在于：所述内罩具有以外周侧变低的方式倾斜的中空圆板状的上整流部件、及与所述上整流部件的外缘部连接的圆筒状的下整流部件；所述外罩具有设置在其内壁的环状导引突起部；所述导引突起部将被包含所述导引突起部的所述外罩的内壁接住的溶剂引至所述上整流部件上。5.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：松近启司，松泰司，俵谷佳典，铃木优史，西山耕二，村井征尔，福本靖博，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：