【技术实现步骤摘要】
一种恒温反应容器及恒温方法
[0001]本专利技术涉及一种恒温反应容器及恒温方法,属于反应器
技术介绍
[0002]现有技术中恒温搅拌器锅体的上盖配有不同口径的组合套圈,也叫做环形锅盖,可适应不同口径的反应容器,但是不同口径的组合套圈使用起来较为麻烦,经常容易散落,而且不易放置,取下放置不当容易丢失。实验室在水浴加热时,由于搅拌器锅体未考虑如何对沸水浴中反应容器的稳固,多依靠容器自身的重量在沸腾的水域中保持稳固状态;当容器中样品量过小时,会导致容器在水浴浮力的作用下侧翻,导致实验失败,。最终的结果,不仅给工作人员增加固定容器的麻烦,会影响到整个实验的稳定性以及实验结果的准确性。
技术实现思路
[0003]本专利技术针对恒温反应容器存在的问题,提出一种恒温反应容器及恒温方法,本专利技术本专利技术通过温度传感器实时监控反应器内的温度,实现恒温,通过组合套环构件的定位件实现反应器的定位和稳固,防止反应容器倾翻而导致的实验失败。
[0004]本专利技术为解决其技术问题而采用的技术方案是:
[0005]一种恒温反应容器,包括磁力搅拌器1、恒温液浴锅5、组合套环构件、温度传感器和反应器,恒温液浴锅5固定设置在磁力搅拌器1顶端中心,反应器的底端设置在磁力搅拌器1顶端的磁力面上,反应器的底部设置在恒温液浴锅5内,组合套环构件设置在恒温液浴锅5顶部,组合套环构件上设置有定位件,恒温液浴锅5反应器的顶部通过定位件固定设置在组合套环构件上,温度传感器穿过组合套环构件并延伸至反应器内。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种恒温反应容器,其特征在于:包括磁力搅拌器(1)、恒温液浴锅(5)、组合套环构件、温度传感器和反应器,恒温液浴锅(5)固定设置在磁力搅拌器(1)顶端中心,反应器的底端设置在磁力搅拌器(1)顶端的磁力面上,反应器的底部设置在恒温液浴锅(5)内,组合套环构件设置在恒温液浴锅(5)顶部,组合套环构件上设置有定位件,反应器的顶部通过定位件固定设置在组合套环构件上,温度传感器穿过组合套环构件并延伸至反应器内。2.根据权利要求1所述恒温反应容器,其特征在于:组合套环构件包括套环I(4)、套环II(8)和套环III(10),组合时,套环I(4)、套环II(8)和套环III(10)为同圆心圆环,套环III(10)的外径等于恒温液浴锅(5)的外径,套环I(4)的内径等于套环II(8)的外径,套环II(8)的内径等于套环III(10)的外径,套环I(4)上连接设置有连接杆I(3),连接杆I(3)的另一端转动设置在支撑杆I(2)的顶端,支撑杆I(2)的底端固定设置在磁力搅拌器(1)的壳体上,套环II(8)上连接设置有连接杆II(18),连接杆II(18)的另一端转动设置在支撑杆II的顶端,支撑杆II的底端固定设置在磁力搅拌器(1)的壳体上,套环III(10)上连接设置有连接杆III,连接杆III的另一端转动设置在支撑杆III的顶端,支撑杆III的底端固定设置在磁力搅拌器(1)的壳体上,连接杆I(3)、连接杆II(18)和支撑杆III均分设置在恒温液浴锅(5)的外侧。3.根据权利要求2所述恒温反应容器,其特征在于:支撑杆I(2)的顶端设置有连接凸体I,连接凸体I的中部沿连接凸体I长度方向开设有转动销轴通孔I,连接杆I(3)的端头开设有与连接凸体I配合的凹槽,凹槽两侧壁上开设有与转动销轴通孔I相匹配的转动通孔I,转动销轴通孔I与转动通孔I内设置有转动销轴I,连接杆I(3)的端头通过转动销轴I转动设置在支撑杆I(2)的顶端;支撑杆II的顶端设置有连接凸体II,连接凸体II的中部沿连接凸体II长度方向开设有转动销轴通孔II,连接杆II(18)的端头开设有与连接凸体II配合的凹槽,凹槽两侧壁上开设有与转动销轴通孔II相匹配的转动通孔II,转动销轴通孔II与转动通孔II内设置有转动销轴II,连接杆II(18)的端头通过转动销轴II转动设置在支撑杆II的顶端;支撑杆III的顶端设置有连接凸体III,连接凸体III的中部沿连接凸体III长度方向开设有转动销轴通孔III,连接杆III的端头开设有与连接凸体III配合的凹槽,凹槽两侧壁上开设有与转动销轴通孔III相匹配的转动通孔III,转动销轴通孔III与转动通孔III内设置有转动销轴III,连接杆III的端头通过转动销轴III转动设置在支撑杆III的顶端。4.根据权利要求2或3所述恒温反应容器,其特征在于:套环I(4)上开设有径向对称的水平滑槽I和水平滑槽II(16),套环II(8)上开设有径向对称的水平滑槽III和水平滑槽IV,套环III(10)上开设有径向对称的水平滑槽V和水平滑槽VI,套环I(4)、套环II(8)和套环III(10)组合时,水平滑槽I、水平滑槽II(16)、水平滑槽III、水平滑槽IV、水平滑槽V和水平滑槽VI位于组合套环构件的同一条直径上,水平滑槽I、水平滑槽III和水平滑槽V位于组合套环构件的同一条半径上,水平滑槽II(16)、水平滑槽IV和水平滑槽VI位于组合套环...
【专利技术属性】
技术研发人员:夏洪应,辛椿福,张利波,张威,曾抗庆,蔡无尘,徐英杰,蒋桂玉,张奇,严恒,
申请(专利权)人:昆明理工大学,
类型:发明
国别省市:
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