本发明专利技术公开了一种显影装置和具有该显影装置的成像装置。显影装置包括：用于支持光敏介质的主框架，包括：开放的顶表面和具有光敏介质开口的底表面，光敏介质的一部分通过该光敏介质开口暴露，主框架包括分别形成于光敏介质的每一侧的可以接收调色剂和旧调色剂的两个空间；以及用于覆盖主框架的顶表面的盖。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种成像装置。更具体地，本专利技术涉及一种用于显影图像的 显影装置和具有该显影装置的成像装置。
技术介绍
传统的成像装置在打印介质上形成图像，其包括根据打印命令形成静电 潜像、然后使用调色剂将静电潜像显影成打印介质上的图像的显影装置。 图1示出传统的显影装置。参照图1,传统的显影装置l包括主框架组件IO,用于支持其上形成 有图像的光敏介质12;清理组件20，用于从光敏介质12去除旧调色剂(used toner);以及盖30。主框架组件10包括主框架11、光敏介质12、显影辊13、调色剂调节元 件14、左侧板31和右侧板32、以及密封元件16。主框架11形成为用于支持光敏介质12、显影辊13、调色剂调节元件14, 并具有相对的开放侧。相对开放侧中的每一个由左侧板31和右侧板32关闭。 左侧板31和右侧板32支撑光敏介质12和显影辊13以使其旋转。光敏介质12可旋转地设置在主框架11的下部，静电潜像通过从曝光单 元(未示出)发出的激光束而形成在光敏介质12的表面上。充电辊15设置在 光敏介质12的上方，从而为光敏介质12充电。显影辊13设置在光敏介质12的一侧以提供调色剂，从而对形成在光敏 介质12上的静电潜像进行显影。调色剂调节元件14设置成与显影辊13接 触，以调节显影辊13所供应的调色剂的量。调色剂贮存在调色剂调节元件 14与主框架11之间的空间17中。密封元件16设置在主框架11与盖30之 间，以保护调色剂不从主框架11泄漏。清理组件20包括清理框架21和清理元件23。清理元件23设置在清理 框架21处，以去除残留在光敏介质12表面上的旧调色剂。清理框架21具 有接收由清理元件23去除的旧调色剂的内部空间。下面，描述具有上述结构的传统显影装置1的操作。在打印操作开始时，充电辊15向光敏介质12的表面施加预定的电压。 当光敏介质12从动力传输单元(未示出)接收到动力以进行旋转时，从曝光单 元(未示出)发出的激光束在光敏介质12的带电表面上形成静电潜像。当光敏介质12继续旋转时，显影辊13所供应的调色剂将静电潜像显影 成图像。此时，调色剂被贮存在位于显影辊13 —侧的主框架11的空间17 中。转印单元(未示出)将图像转印到由打印介质供给单元(未示出)供应的打 印介质上。当转印单元将图像转印到打印介质上时，形成图像的一些调色剂 可能没有被转印到打印介质上，而是残留在光敏介质12的表面上。残留在 光敏介质12表面上的调色剂称为旧调色剂。残留在光敏介质12上的旧调色 剂由清理元件23从光敏介质12上去除，然后收集在清理框架21的内部空 间中。旧调色剂被去除的光敏介质12由充电辊15进行重新充电，然后重复 上述过程。在将调色剂转印到光敏介质12上之后，显影装置1使用清理组件20清 理残留在光敏介质12表面上的旧调色剂。从而，将光敏介质12清理成使其 在将来可以产生良好质量的图像。然而，在传统的显影装置l中，去除旧调色剂并容纳已去除的旧调色剂 的清理组件20相对于贮存并供应调色剂的主框架组件10形成为一独立的部 分。换言之，用于容纳调色剂的主框架11和用于容纳旧调色剂的清理框架 21单独形成。从而，清理组件20是在与主框架组件10的组装过程分开的组 装过程中组装的。为了形成清理组件20,传统的显影装置1具有与主框架11分开的清理 框架21,因而增加了部件的数量。此外，清理组件20通过单独的组装过程组装成子组件，然后与主框架 组件10组装在一起，从而增加了组装时间。因此，传统的显影装置1具有 较高的制造成本。
技术实现思路
本专利技术提供了可以去除并容纳旧调色剂(used toner)且制造成本低^/显 影装置和具有该显影装置的成像装置。本专利技术的其它方面和益处将部分地在随后的描述中提出，部分地将从描 述中变得明显，或者可以通过实施本专利技术而获知。本专利技术的前述和/或其它方面和益处通过提供一种显影装置来实现，该显影装置包括用于支持光敏介质的主框架，主框架包括开放的顶表面和具 有光敏介质开口的底表面，光敏介质的一部分通过该光敏介质开口暴露，主 框架包括分别形成于光敏介质的每一侧以接收调色剂和旧调色剂的两个空 间；以及用于覆盖主框架的顶表面的盖。显影装置还可包括设置在光敏介质的一侧、用于向光敏介质供应调色 剂的显影元件；和设置成与显影元件接触的调色剂调节元件，其中，显影元 件、调色剂调节元件和主框架形成用于容纳调色剂的调色剂空间。显影装置还可包括清理元件，设置成与显影元件相对，用于从光敏介 质去除旧调色剂，其中，清理元件和主框架形成用于容纳从光敏介质去除的 旧调色剂的旧调色剂空间。清理元件可以由主框架支撑。显影装置还可包括设置在主框架与盖之间的密封元件。本专利技术的前述和/或其它方面和益处还可通过提供一种显影装置来实现， 该显影装置包括光敏介质；主框架，包括开放的顶表面，具有光敏介质 开口的底表面，光敏介质的一部分通过该光敏介质开口暴露，形成于主框架 的每一侧以对应于光敏介质的相对端的开口 ，和分别形成于光敏介质的左侧 和右侧的两个空间；左右侧板，设置成用于闭合每个开口，从而可旋转地支 撑光敏介质的轴；用于覆盖主框架的顶表面的盖；以及设置在主框架的一侧、 用于去除残留在光敏介质上的旧调色剂的清理元件。显影装置还可包括设置在光敏介质的一侧并由左右侧板可旋转地支撑 以向光敏介质供应调色剂的显影元件；和设置于主框架以与显影元件接触的 调色剂调节元件，其中，调色剂贮存于由显影元件、调色剂调节元件和主框 架形成的调色剂空间。清理元件可以设置成与显影元件相对，并且从光敏介质去除的旧调色剂 可以收集于由清理元件和主框架形成的旧调色剂空间。开口可以具有足够大的尺寸以露出光敏介质和调色剂空间。显影装置还可包括用于给光敏介质充电的充电元件；和用于向显影元 件供应调色剂的调色剂供应元件，其中，左右侧板可旋转地支撑充电元件的轴和调色剂供应元件的轴。显影装置还可包括设置在主框架与盖之间的密封元件。本专利技术的前述和/或其它方面和益处还可通过提供一种成像装置来实现，该成像装置包括用于供给打印介质的打印介质供给单元；形成对应于打印 数据的图像的显影装置，包括光敏介质；主框架，包括开放的顶表面， 具有光敏介质开口的底表面，光敏介质的一部分通过该光敏介质开口暴露， 形成于主框架的每一侧而对应于光敏介质的相对端的开口 ，和形成于光敏介 质的左侧和右侧的两个空间；左右侧板，设置成用于闭合每个开口，从而可 旋转地支撑光敏介质的轴；用于覆盖主框架的顶表面的盖；以及设置在主框 架的一侧、用于去除残留在光敏介质上的旧调色剂的清理元件；以及用于将 光敏介质上的图像转印到打印介质上的转印单元。本专利技术的前述和/或其它方面和益处还可通过提供一种具有主框架的显 影装置来实现，该显影装置包括单一体的主框架，具有用于4妄收新调色 剂的第一部分，用于接收旧调色剂的第二部分，用于将新调色剂从第一部分 传送到第二部分的第三部分，其中新调色剂变为旧调色剂；和位于第三部分 中、利用新调色剂将对应于打印数据的静电潜像转印到打印介质上的光敏介 质；以及联接到单一体的主框架以覆盖第一、第二和第三部分的盖。第三部分可以将第一部分与第二部分分离。显影装置还可包括设置在第二部分与第三部分之间、用于本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种显影装置，包括： 主框架，用于支持光敏介质，包括： 开放的顶表面， 具有光敏介质开口的底表面，光敏介质的一部分通过该光敏介质开口暴露，和 分别形成于光敏介质的每一侧以接收调色剂和旧调色剂的两个空间；以及 用于覆盖主框架的顶表面的盖。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：卢周焕，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]
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