具有污染物去除筒的热处理机制造技术

一种热处理机，包括用于对成像介质进行热显影的烘箱，所述成像介质在显影期间产生气体污染物。所述气体污染物包括有气味部分和具有冷凝温度的可冷凝部分。污染物去除筒具有设置为连接到所述烘箱的壳体、热交换器和过滤器模块。所述热交换器从所述烘箱接收至少第一空气流，所述第一空气流处于第一温度且包含气体污染物，其中所述第一温度高于冷凝温度。所述热交换器将所述第一空气流冷却至低于冷凝温度的期望过滤温度，以便冷凝并收集气体污染物的可冷凝部分且形成过滤空气流。所述过滤器模块接收所述过滤空气流，以收集剩余冷凝的污染物且吸收气体污染物的有气味部分，从而形成排气流。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术总体上涉及用于对成像介质进行热处理的装置和方法，更具 体地是涉及采用污染物去除筒来收集由显影过程产生的空气污染物的 用于对成像介质进行热显影的装置和方法。
技术介绍
光敏热成像膜(或胶片)通常包括基体材料，例如薄聚合物或纸，通 常用热敏材料乳剂涂层在一侧上，例如干银。 一旦膜遭受光刺激，例如 通过来自激光成像系统的激光器的光，通过对膜施加热可使得到的潜像 显影，从而形成可见图像。已经发展了几种处理机器以显影光敏热成像膜。 一种采用具有位于 鼓周边的多个压力辊的旋转受热鼓，以在显影期间将膜与鼓保持接触。 另一种处理机，通常称为平床处理机，包括多个隔开的辊，以形成使光 敏热成像膜运动通过烘箱的大体上水平的传送路径。不管它们的类型， 处理机通常都被设计为加热光敏热成像膜至少到期望处理温度一段预 定时间，通常称为静置时间，以优化膜的显影。当光敏热成像膜加热时，某些类型的乳剂会产生含有污染物的气体，例如脂肪酸(FAZ)，所迷污染物随后在与处理机中较冷的空气或 表面接触时冷凝。当接触较冷的空气或较冷的表面时，气体可能冷凝， 而污染物尤其是脂肪酸可能沉积在光敏热成像膜上且随后传送给其它 的处理机部件。这些沉积物可以随着时间积聚，可能损害处理机部件， 在处理机内引起膜阻塞，且在显影的图像中引起视觉缺陷。为了减少这种问题的发生，处理机通常包括设计为在污染物冷凝之 前从处理机去除气体的系统。这些系统通常包括风道或通风系统，风道 或通风系统设计为，在将空气排到环境之前，引导受热的空气和气体气 流从处理室通过某种类型的冷凝物积聚器，然后通过过滤模块。冷凝物积聚器总体上设计为冷却空气气流且使污染物沉淀并收集 在积聚器表面上。冷凝物积聚器采用多种形式，从简单地将大气空气与 受热空气气流混合的冷凝捕集器到各种形式的热交换器。冷却的空气流从冷凝物积聚器通过过滤模块。过滤模块通常包括吸收剂块，吸收剂块 在将空气气流从处理机排出之前去除有气味的材料。虽然过滤模块的吸收剂块通常是可更换的，但冷凝物积聚器通常保 持附接到处理机。同样，冷凝物积聚器和过滤器模块通常位于离处理室 遥远处，且需要通过其从处理室接收气体的延长的风道系统。由于离处 理室的距离，污染物通常在风道系统中冷凝并积聚。结果，即使过滤器 模块可以是使用者可更换的，通常需要定期维护，以从风道系统和冷凝 物积聚器中去除污染物累积。这种维护是昂贵的且导致处理机停机时 间。显然需要改进热处理机以减少与在光敏热成像膜的显影期间产生 的污染物有关的问题。
技术实现思路
在一个实施例中，本专利技术提供一种热处理机，所述热处理机包括用 于对成像介质进行热显影的烘箱，所述成像介质在显影期间产生气体污凝的可冷凝部分;一 和污染物去除筒:所述污染物去除s具;设置为选择性地连接到所述烘箱的壳体。在所述壳体内，所述污染物去除筒包括热 交换器和过滤器模块。所述热交换器设置为从所述烘箱接收至少第一空 气流，所述第一空气流处于第一温度且包含气体污染物，其中所述第一 温度高于冷凝温度。所述热交换器还设置为将所述第一空气流冷却至期 望过滤温度，所述过滤温度低于冷凝温度，以便冷凝并收集气体污染物 的基本上所有的可冷凝部分且形成过滤空气流。所迷过滤器模块设置为 接收所述过滤空气流，以收集基本上所有的剩余冷凝的污染物且吸收气 体污染物的基本上所有的有气味部分，以便形成排气流。在一个实施例中，所述第一温度基本上等于所述烘箱的处理温度。 在一个实施例中，所述过滤器模块包括设置为从过滤空气流吸收气体污 染物有气味部分的吸收剂材料，从而使得排气流基本上没有气体污染 物。在一个实施例中，期望过滤温度大致等于吸收剂材料最具吸收性时 的温度。在一个实施例中，期望排气温度大致等于热处理机操作环境的 大气温度。在热处理机操作期间，由成像介质在热显影期间产生的基本上所有吸收。此外，由于所述第一空气流的温复基本上处于所述烘箱的处理温度，基本上消除了烘箱或处理机30其它内置部件中气体污染物的冷凝。 当需要更换所述污染物去除筒时，热处理机的使用者能够简单地移 除"用过的"污染物去除筒，并用"新的"污染物去除筒来更换"用过 的"污染物去除筒。由于气体污染物的收集基本上被限制于使用者可更 换的污染物去除筒中，因此显著地减少了与从热处理机中清洁冷凝气体 污染物有关的昂贵的维护和停机时间。此外，由于气体污染物的基本上 所有可冷凝部分收集在热交换器中，扩大了吸收剂材料的有效性，从而 延长了污染物去除筒的预期寿命。附图说明根据下文对附图所示的本专利技术实施例的更加具体的描述，本专利技术的 前述和其它目的、特征和优势将变得明显。附图中各元件彼此不一定成 比例。图l是总体上示出了根据本专利技术的采用污染物去除筒的热处理机的 方块图。图2是示出了根据本专利技术的采用污染物去除模块的热处理机的一个 实施例的横截面图。图3是总体上示出了用于图2的热处理机的污染物去除筒的一个实 施例的示意图。图4是示出了图3污染物去除筒的一个示范性实施例的透视图。 图5是图4的污染物去除筒的横截面图。具体实施例方式以下是参考附图对本专利技术优选实施例所作的详细描述，在每个附图 中，相同的附图标记表示相同的结构元件。图1是在总体上图示了根据本专利技术的热处理机30的一个实施例的 方块图，热处理机30包括使用者可更换的污染物去除筒。根据本专利技术 的一个实施例，热处理机30包括封装件32、烘箱34、和污染物去除筒 36。烘箱34包括热源38和传送系统40。操作中，传送系统40接收暴 露的光敏热成像介质42，并将光敏热成像介质42沿传送路径43从进口44向出口 45传送通过烘箱34。热源38将成像介质42至少加热到期望 处理温度，以当它沿传送路径44运动时使暴露的图像热显影。当成像 介质42热显影时，它产生气体污染物，所述气体污染物包括可在相应 冷凝温度或冷凝温度以下冷凝的部分(例如，FAZ)以及产生气味的部 分(例如，甲基乙基曱酮(MEK))。污染物去除筒36包括位于壳体50中的热交换器46和过滤器模块 48,所述壳体50设置为使得污染物去除筒36能够选择性地连接到热处 理才几30并从热处理4几30拆除。在一个实施例中，污染物去除筒36的 壳体50设置为可滑动地插入并连接到封装件32，从而靠近并连接到烘 箱34 (即，"安装"位置)。在一个实施例中，热处理机30包括位于 烘箱34和污染物去除筒36之间的绝缘层52。在一个实施例中，当处于 安装位置时，污染物去除筒36被定位成在壳体50和绝缘层52之间保 持空气层54。在一个实施例中，绝缘层52包括三聚氰胺绝缘材料。虽然通过图1图示且描述为可滑动地插入到封装件32中，但污染 物去除模块滤筒36的壳体50可以其它方式连接到封装件32和烘箱34, 例如封装件32外部。在一个实施例中，热交换器46包括受污染空气路径或通道56和冷 却空气通道58，受污染空气路径或通道56和冷却空气通道58共享一个 或更多的通道壁60且通过通道壁60隔开，图示为通道壁60a和60b, 以便热交换器46包括"隔开空气流"的热交换器。在一个实施例中， 通道壁60包括具有高导热性的材料。在一个实施例中，通道壁60包括 铝。在一个实施例中，受污染空气通道56通过移送通风孔61连接到过 滤本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种热处理机，包括：　用于对成像介质进行热显影的烘箱，所述成像介质在显影期间产生气体污染物，所述气体污染物包括有气味部分和在冷凝温度或在冷凝温度以下冷凝的可冷凝部分；和　污染物去除筒，所述污染物去除筒具有设置为选择性地连接到所述烘箱的壳体，且在所述壳体内包括：　热交换器，所述热交换器设置为从所述烘箱接收至少第一空气流，所述第一空气流处于高于冷凝温度的第一温度且包含气体污染物，且所述热交换器设置为将所述第一空气流冷却至期望过滤温度，所述过滤温度低于冷凝温度，以便冷凝并收集气体污染物的基本上所有可冷凝部分且形成过滤空气流；和　过滤器模块，所述过滤器模块设置为接收所述过滤空气流，以收集基本上所有的剩余冷凝的污染物且吸收气体污染物的基本上所有有气味部分，从而形成排气流。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：KR斯特鲁布尔，DJ麦丹尼尔，JM努特，
申请(专利权)人：卡尔斯特里姆保健公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]