激光直描装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够将各种灵敏度的感光材料进行曝光并且能够根据工件的变形来修正描画位置的激光直描装置。该激光直描装置使基于光栅数据调制的激光束（５ａ）通过圆柱形透镜（９）向副扫描方向聚光的同时偏向主扫描方向，并且使被描画体（１０）向副扫描方向移动而将所期望的图形描画到被描画体（１０）上，构成为使圆柱形透镜（９）的中心轴（Ｐ）能够在水平方向旋转，并能够改变圆柱形透镜（９）的中心轴（Ｐ）相对于主扫描方向的角度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及使基于光栅数据调制的激光束利用圆柱形透镜向副扫描方向 聚光并偏向主扫描方向的同时，使被描画体向副扫描方向移动，从而将所期望的图形描画到被描画体上的激光直描装置(LDI: Laser Direct Imaging (激光直接成像))。
技术介绍
在激光直描装置中，将设计回路图形时的CAD转换成向量数据格式并算 出轮廓线后，再转换成描画用光栅数据，求出激光的ON/OFF像素，并对ON 像素照射激光。图7是现有的激光直描装置的构成图。激光源1搭载在光学基座16上。光学基座16配置在机架18上的支柱17 上。从激光源l输出的激光束5通过反射镜2、扩展器3入射到音响光学元件 (以下称为"AOM，，)4。用AOM调制后的激光束5a利用多角镜6偏向并入射 到f e透镜7，透过f 0透镜7的激光束5a利用折回反射镜8偏向图的下方并 入射到圆柱形透镜9。然后，透过圆柱形透镜9的激光束5a入射到被描画体 IO而使被描画体IO上的干膜光刻胶(以下称为"DFR")或光刻胶等感光。此 时，搭载了被描画体10的工作台12向副扫描方向(图中的Y方向。还有， 主扫描方向是图中的X方向)等速移动。线性本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种激光直描装置，使基于光栅数据调制的激光束通过圆柱形透镜向副扫描方向聚光的同时偏向主扫描方向，并且使被描画体向副扫描方向移动而将所期望的图形描画到被描画体上，其特征在于，　构成为，使上述圆柱形透镜的轴线能够在与上述被描画体的表面平行的方向旋转，　能够改变上述圆柱形透镜的轴线相对于上述主扫描方向的角度。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：内藤芳达，押田良忠，铃木光弘，
申请(专利权)人：日立比亚机械股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]