用于去除彩色滤光片制程中不良基板上彩色光刻胶及保护层的剥离液制造技术

本发明专利技术提供一种用于去除彩色滤光片制程中不良基板上彩色光刻胶及保护层的剥离液，其配方：无机碱氢氧化物５～１５ｗｔ％，水溶性有机胺化合物１～２０ｗｔ％，烷基二醇烷基醚１～２０ｗｔ％，聚氧乙烯醚０．１～１０ｗｔ％，水３５～８０ｗｔ％。配制的剥离液广泛用于去除彩色滤光片制程中不良基板上彩色光刻胶及保护层，不损坏玻璃基板，使处理后的玻璃基板可重新利用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种剥离液，用于去除彩色滤光片制程中不良基板上的彩 色光刻胶及保护层。
技术介绍
彩色滤光片(CF)由玻璃基板、Si02膜、彩色光刻胶(BM、 R、 G、 B)、 OC膜、SiOj莫、ITO膜组成，具体层结构如下表所示<table>table see original document page 3</column></row><table>彩色滤光片的制程通常是首先，在空白玻璃基片上上第一层膜， 然后上BM，前烘、对准，曝光、显影、后烘、蚀刻，BM;然后再镀第二层膜，上R，前烘、对准，曝光、显影、后烘、蚀刻，R;然后再镀第三 层膜，上G，前烘、对准，曝光、显影、后烘、蚀刻，G;然后再镀第四 层膜，上B，前烘、对准，曝光、显影、后烘、蚀刻，B;最后上OC膜层、 SiOj莫层、镀ITO膜层。彩色光刻胶可通过颜料分装法、染色法、电着法等方法制造，由光聚引发剂、单体、分剂、溶剂、色膏、粘合剂等组成。光聚引发剂在曝光时 受光后产生自由基的高感光性化合物，而单体则通过自由基引发聚合反应 后合成高分子形态，从而形成不溶于显影溶剂的形本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于去除彩色滤光片制程中不良基板上彩色光刻胶及保护层的剥离液，其特征在于其组分具有如下的重量百分比：无机碱氢氧化物５～１５ｗｔ％，水溶性有机胺化合物１～２０ｗｔ％，烷基二醇烷基醚１～２０ｗｔ％，聚氧乙烯醚０．１～１０ｗｔ％，水３５～８０ｗｔ％。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：顾奇，朱海盛，
申请(专利权)人：苏州苏电微电子信息化学品研发中心有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]