一种显示面板制造技术

本发明专利技术公开了一种显示面板。显示面板包括阵列基板、发光层、封装层、λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层；发光层包括多个像素单元，设于阵列基板上；封装层设于阵列基板上且覆盖发光层；λ/4相位迟滞层设于封装层内，且对应发光层设置；纳米线结构层设于封装层上，且对应λ/4相位迟滞层设置。本发明专利技术一方面通过对应设置λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层的复合结构可有效地降低显示屏对外界光的反射；另一方面降低了屏幕的弯折时的应力，从而提升了弯折性能；再一方面可实现佩戴太阳镜的使用者在任意角度均能观看到屏幕中的画面，故实现了在佩戴太阳镜时正常使用显示面板的功能。太阳镜时正常使用显示面板的功能。太阳镜时正常使用显示面板的功能。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板


[0001]本专利技术涉及显示技术邻域，特别涉及一种显示面板。

技术介绍

[0002]随着科技发展以及人们对产品要求的提高，柔性显示屏成为日受关注的领域。目前，降低屏幕的厚度进而实现屏幕的可折叠已经成为未来手机屏幕的发展趋势。
[0003]如图1所示，图1为现有的一种OLED显示屏的结构示意图，OLED显示屏90包括从下至上依次层叠设置的阵列基板91、发光层92、封装层93、触控层94、偏光片95和盖板96。
[0004]对于现行的OLED显示屏，其偏光片是由λ/4相位迟滞片和线偏振片构成，其可有效地消除外部光照射到显示屏表面产生的反射光。但其的相位延迟能力通常不能满足所有可见光的抗反射要求，故导致反射光线不能完全被吸收。而传统的偏光片的厚度普遍在100μm的范围内，对于传统的外挂式偏光片，其主要是聚乙烯醇(PVA)层拉伸后浸润碘离子形成起偏层，故无法集成到OLED显示屏内部，进而限制了屏幕的厚度，降低了屏幕的弯折性能。故需提出具有更低反射的薄化偏光片。且由于屏幕的弯折性能，要求屏幕具有更大的视角。且由于偏光片的存在，OLED显示屏的出光为线偏，故对于佩戴太阳镜(Sunglass)的使用者，在特定观察角度由于消光效应显示屏画面不可见。

技术实现思路

[0005]本专利技术提供了一种显示面板，一方面用以解决现有显示面板中偏光片无法完全消除外部光照射到显示屏表面产生的反射光的技术问题；另一方面用以解决现有显示面板中偏光片的厚度过大，导致整体厚度增大，降低了屏幕的弯折性能的技术问题；再一方面用以解决现有显示面板中偏光片导致佩戴太阳镜的使用者在特定角度观察时出现显示屏画面不可见的技术问题。
[0006]解决上述问题的技术方案是，本专利技术提供了一种显示面板，包括阵列基板、发光层、封装层、λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层；具体的，所述发光层设于所述阵列基板上；所述封装层设于所述阵列基板上且覆盖所述发光层；所述λ/4相位迟滞层设于所述封装层内，且对应所述发光层设置；所述纳米线结构层设于所述封装层上，且对应所述λ/4相位迟滞层设置。
[0007]进一步地，所述λ/4相位迟滞层与所述纳米线结构层的层间间距范围为0.1-10μm。
[0008]进一步地，所述发光层包括多个像素单元；所述λ/4相位迟滞层包括多个1/4波片，每一1/4波片与一像素单元对应设置；所述1/4波片的厚度范围为0.01-1μm。
[0009]进一步地，所述纳米线结构层包括多个纳米线阵列单元，每一纳米线阵列单元与一像素单元对应设置。
[0010]进一步地，每一所述纳米线阵列单元包括多个平行设置的纳米线，所述纳米线之间等间距设置，用于在可见光的照射下产生等离激元效应；所述纳米线的宽度范围为5-100nm；所述纳米线的长度范围为1-10μm；所述纳米线的材质包括金或银。
[0011]进一步地，每一像素单元包括若干个子像素，在同一像素单元中，所有子像素所对应的纳米线的排布方向一致。
[0012]进一步地，所述显示面板设定有若干像素区，每一像素区具有若干个像素单元，同一区域中所有像素单元所对应的纳米线的排布方向一致。
[0013]进一步地，在相邻两个像素区之间，其中一个像素区所对应的纳米线的排布方向与另一个像素区所对应的纳米线的排布方向相互垂直。
[0014]进一步地，所述封装层包括层叠设置的第一无机层、有机层及第二无机层；所述λ/4相位迟滞层设于所述有机层与第二无机层之间。
[0015]进一步地，所述显示面板还包括保护层；所述保护层设于所述纳米线结构层上；所述保护层的厚度范围为0.1-10μm；所述保护层的材质包括氮化硅。
[0016]本专利技术的有益效果是，提供了一种显示面板。一方面通过对应设置λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层，当外界光线照射到纳米线结构层表面时，只有偏振方向平行于纳米线的线偏振单色光透过纳米线结构层，其他偏振态的光被纳米线结构层吸收，透过的线偏振单色光经过纳米线结构层下方的λ/4相位迟滞层后转变为左旋或右旋的圆偏振光，该圆偏振光被发光层下方的阳极反射后增加π的相位差进而转变为右旋或左旋的圆偏光，反射的圆偏振光经过阴极上方的λ/4相位迟滞层转变为线偏振光，线偏振光的偏振方向垂直于纳米线，故反射的线偏振光被纳米线阵列吸收，故λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层构成的复合结构可有效地降低显示屏对外界光的反射。另一方面通过将λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层集成在封装层，替换了现有的偏光片，有效减小了显示面板的整体厚度，并且λ/4相位迟滞层包括多个1/4波片，纳米线结构层包括多个纳米线阵列单元，λ/4相位迟滞层以及纳米线结构层均不是一体结构，且1/4波片与纳米线阵列单元对应设置，降低了屏幕的弯折时的应力，从而提升了弯折性能。再一方面通过设置在同一像素区内的所述纳米线阵列单元的纳米线的排布方向相同，并设置在相邻的像素区内的两个所述纳米线阵列单元的纳米线的排布方向相互垂直，可实现佩戴太阳镜的使用者在任意角度均能观看到屏幕中的画面，故实现了在佩戴太阳镜时正常使用显示面板的功能。
附图说明
[0017]下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0018]图1为现有的一种OLED显示屏的结构示意图。
[0019]图2为本专利技术实施例中的显示面板的截面结构示意图。
[0020]图3为本专利技术实施例中的所述纳米线结构层透过光线的原理图。
[0021]图4为本专利技术实施例中的显示面板在两种光线传播路径时的原理图。
[0022]图5为本专利技术实施例中在相邻的像素区内的两个所述纳米线阵列单元的纳米线的排布方向相互垂直的结构示意图。
[0023]附图中的标识如下：
[0024]1、阵列基板，2、发光层，3、阴极层，
[0025]4、封装层，5、λ/4相位迟滞层，6、纳米线结构层，
[0026]7、保护层，11、柔性基底，12、有源层，
[0027]13、第一栅极绝缘层，14、第一栅极金属层，15、第二栅极绝缘层，
[0028]16、第二栅极金属层，17、间绝缘层，18、源漏极层，
[0029]19、平坦层，20、阳极层，21、像素定义层，
[0030]22、支撑层，41、第一无机层，42、有机层，
[0031]43、第二无机层，51、1/4波片，61、纳米线，
[0032]90、OLED显示屏，91、阵列基板，92、发光层，
[0033]93、封装层，94、触控层，95、偏光片，
[0034]96、盖板，100、显示面板，110、像素单元，
[0035]111、像素区，120、纳米线阵列单元。
具体实施方式
[0036]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：阵列基板；发光层，设于所述阵列基板上；封装层，设于所述阵列基板上且覆盖所述发光层；λ/4相位迟滞层，设于所述封装层内，且对应所述发光层设置；以及纳米线结构层，设于所述封装层上，且对应所述λ/4相位迟滞层设置。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述λ/4相位迟滞层与所述纳米线结构层的层间间距范围为0.1-10μm。3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光层包括多个像素单元；所述λ/4相位迟滞层包括多个1/4波片，每一1/4波片与一像素单元对应设置；所述1/4波片的厚度范围为0.01-1μm。4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述纳米线结构层包括多个纳米线阵列单元，每一纳米线阵列单元与一像素单元对应设置。5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，每一所述纳米线阵列单元包括多个平行设置的纳米线，所述纳米线之间等间距设置，用于在可见光的照射下产生等离激元效应；所述纳米线...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨汉宁，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：