含双环氧基团的硫杂蒽酮光引发剂及其制备方法技术

含双环氧基团的硫杂蒽酮光引发剂，其特征在于该化合物的化学结构如下式所示：　　　　＊＊＊　　　　其中Ｒ↓［１］，Ｒ↓［２］分别独立选自氢、卤素、Ｃ１－Ｃ２２烷基、烷氧基。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于一种光引发剂及其制备方法，特别是含有双环氧基团的硫杂蒽酮光引发剂及其制备方法。
技术介绍
紫外光固化技术在光固化涂料、光刻胶、光固化油墨、电子封装材料、粘合剂、光盘复制、纸张上光等工业领域上的广泛应用，显示了良好的发展前景。在光固化体系的技术进步过程中，光引发剂体系的研究与开发始终占据着十分重要的位置。商业上大量用作高效光引发剂的硫杂蒽酮(2-氯硫杂蒽酮和异丙基硫杂蒽酮，US Patent 6025408)与光固化体系相容性差，这不但降低了硫杂蒽酮的光引发效率，而且限制了其应用的领域。随着科学技术的发展，对光引发剂的各种性能(引发速度，与光固化体系的相容性，毒性，储存的稳定性)要求也越来越高。对于光固化体系，在长时间的保存过程中，光引发剂由于与光固化体系相容性差而容易挥发和发生迁移，这一方面会降低光聚合引发效率，另一方面会导致产品出现气味和毒性。因此研究和开发高效、与体系相容性好的光引发剂成为人们关注的焦点。
技术实现思路
本专利技术将双环氧基团引入到硫杂蒽酮分子中，不仅改善了硫杂蒽酮的溶解性能，提高了引发剂与引发体系的相容性，还能作为单体与二胺聚合生成高分子光引发剂，并本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：姜学松，印杰，
申请(专利权)人：上海交通大学，
类型：发明
国别省市：