曝光装置及其曝光方法、校正方法制造方法及图纸

一种曝光装置及其曝光方法、校正方法，在用ＣＣＤ相机拍摄感光材料的校准标记之前，在可利用ＣＣＤ相机的拍摄的位置配置基准板，其具有沿ＣＣＤ相机的移动方向按规定间隔排列的多个检测用标记的，用配置在拍摄感光材料上所设的校准标记的位置的ＣＣＤ相机拍摄多个检测用标记中的至少一个，基于该拍摄取得的相机的光轴位置偏移数据计算校正用数据，通过将该校正用数据反映在基准位置数据中来校正曝光装置的曝光对位功能。因此，可校正随着用于拍摄感光材料的校准标记的校准相机的移动的姿势的变化而影响精度的曝光对位功能，能够提高相对于感光材料的曝光位置偏移的修正精度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及曝光装置的校正方法、曝光方法以及曝光装置，特别涉及，根据图像信息，校正利用由空间调制元件调制的光束曝光感光材料的曝光装置中的曝光对位功能的曝光装置的校正方法、曝光方法以及曝光装置。
技术介绍
以往，提出了多种利用数字·微型反射镜·器件(DMD)等空间光调制元件(SLM)，用根据图像数据(图像信息)调制的光束，进行图像曝光的曝光装置。例如，DMD，是在硅等半导体基板之上以二维状排列根据控制信号变化反射面的角度的多个微型反射镜的反射镜器件，在采用该DMD的以往的数字扫描曝光式(无掩模曝光方式)的曝光装置中，通过具有照射激光的光源、调准(准直)从光源照射出的激光的透镜系、配置在透镜系的大致焦点位置上的DMD、将用DMD反射的激光成像在扫描面上的透镜系、的曝光头(扫描器)，利用调制后的激光，对放置在载物台上的沿扫描方向(Y方向)移动的感光材料扫描曝光图像(图形)，其中根据图像数据等生成的控制信号通断控制DMD的各微型反射镜来调制激光。此外，在该曝光装置中，为了准确地对正感光材料的X-Y方向的曝光位置，在曝光之前，用CCD相机等校准相机拍摄设在感光材料上的、成为曝光位置的基准的校准标记，基于通过该拍摄得到的标记测定位置(基准位置数据)，进行将曝光位置对正在适当位置的校准，关于该校准相机，由于曝光装置以尺寸及校准标记的位置不同的多种感光材料为曝光对象，因此即使在校准标记向与扫描方向正交的方向变更位置的情况下，也能够拍摄，例如，能够由沿与扫描方向正交的方向(X方向)延伸设置的导轨等导向，由滚珠丝杠等驱动机构驱动，能够移动及定位配置在曝光对象物的X方向尺寸的整个区域中的任意的位置上。另外，利用直线检测元件等位置检测机构检测·测定该校准相机的位置，以该位置为基准，进行上述的校准(例如，参照专利文献1)。此外，关于如此的校准功能(曝光对位功能)，为保证其精度，在制造时或维护时等，进行有关校准测定的各部的校正。作为有关该校准功能的校正的技术，以往，就相对于向副扫描方向移动的感光材料一边主扫描一边照射激光来扫描曝光图像的方式的曝光装置提出了多种提案。例如，在校准显示器(scoope)的位置校正中，在对载置在载置台上的印刷电路基板，用处理部实施规定的处理之前，校正进行印刷电路基板的计测的校准显示器的位置的装置中，具有以下构成的技术，在载物台上具有形成基准图形的基准掩模，在规定位置的基准图形上移动校准显示器后，通过基于基准图形的交点和校准显示器的视野中心的位置偏移量，进行校准显示器的位置校正，能够用简单的构成，简便且高精度实施校准显示器的位置校正(例如，参照专利文献2)。专利文献1特开平8-222511号公报专利文献2特开2000-329523公报但是，在上述的数字扫描曝光方式或以往的使激光主扫描的扫描方式的曝光装置中，在利用曝光前的校准向拍摄校准标记的位置移动校准相机的时候，由于构成上述的相机驱动机构的各部件精度或组装精度的误差等，校准相机会因滚动、颠簸及偏摆引起姿势变化，以配置在拍摄位置上的状态拍摄透镜的光轴中心偏移正规的位置。由于该位置偏移直接影响校准标记的计测误差，因此，即使采用上述的校准功能修正曝光位置，进行图像曝光，伴随该校准相机的移动的姿势变化的影响，也存在校准精度降低，曝光位置偏离适当位置的问题。此外，即使专利文献1及2记载的技术，由于不考虑如此的校准相机的姿势变化而造成的影响，所以即使采用这些技术进行校准调整或校准功能的校正，也不能高精度地修正曝光位置偏移。此外，在是专利文献2记载的技术的情况下，由于一次校正二维配置的多台(4台)校准显示器，因此采用形成二维状(格子状)的基准图形的大型的基准掩模，但由于在描绘台上装备该基准掩模，因此基准掩模配置在描绘台的基台和吸附板的之间，由透明玻璃形成吸附板。如此，因具有大型的基准掩模，描绘台向厚度方向大型化、大重量化，此外，由于吸附板为玻璃制的，因此存在抗冲击等的耐损坏性、耐久性降低的问题。此外，在所述以往技术中，基于形成在基准掩模上的基准图形和校准显示器的位置偏移量，进行校准显示器的位置校正，但要实现更高精度的曝光位置修正，例如，考虑到与利用光束的曝光位置的关系，希望以曝光位置为基准，进行校准显示器的位置校正。
技术实现思路
本专利技术鉴于以上的事实，其目的在于提供一种曝光装置校正方法及曝光装置，能够校正因伴随用于拍摄感光材料的校准标记的校准相机的移动的姿势变化而影响精度的曝光对位功能，能够提高相对于感光材料的曝光位置偏移的修正精度。为达到上述目的，第1项专利技术是一种曝光装置，具有移动机构，其载置设有成为曝光位置的基准的基准标记的感光材料，使该感光材料向沿着扫描方向的方向移动，读取机构，其读取载置在所述移动机构上的所述感光材料的所述基准标记，曝光机构，其利用对应图像数据调制的光束曝光由所述移动机构移动的所述感光材料，控制机构，其在所述曝光机构的曝光中，基于由所述读取机构读取基准标记而取得的基准位置数据，进行所述光束的曝光对位，控制所述曝光机构进行曝光动作，其特征在于所述曝光装置，还具有读取机构位置标度，其具有沿着所述读取机构的移动方向排列的多个读取机构基准标记的同时，配置在能够由读取机构读取该多个读取机构基准标记的位置，读取位置数据存储机构，在利用所述读取机构读取基准标记时，由配置在读取所述基准标记的位置的读取机构读取所述多个读取机构基准标记中的至少1个，该读取位置数据存储机构存储经该读取取得的所述读取机构的位置数据，曝光点位置信息存储机构，其具有光束位置检测机构，该光束位置检测机构具有检测利用所述光束进行曝光的曝光位置的检测部，该曝光点位置信息存储机构存储由该光束位置检测机构检测从所述曝光机构输出的规定的光束的曝光点位置而得到的曝光点位置数据，并且，在对所述感光材料的曝光中，所述控制机构，从所述数据存储机构读出所述基准位置数据，从所述曝光点位置信息存储机构读出曝光点位置数据，从所述光束位置检测机构相对于所述读取机构基准标记的相对位置关系，基于所述基准位置数据和所述曝光点位置数据来曝光所述图像数据。在第1专利技术中，由于拍摄形成在基板上的校准标记，检测出曝光光束在曝光面上的光束位置，基于此将所希望的图像曝光在感光材料上，所以可以在基板上高位置精度地对曝光图像进行曝光。第2项专利技术的曝光装置，其特征在于所述光束位置检测机构与所述读取机构位置标度被一体设置。在第2项专利技术中，通过在具有检测出光束的曝光位置的检测部的光束位置检测机构上一体设置校正用部件，而与将它们分体设置的情况相比，能够高精度地计测检测部与读取机构基准标记的相对位置的同时，也不容易在检测部与读取机构基准标记之间产生位置偏移等。在读取机构读取基准标记的位置读取一体设在检测机构上的读取机构位置标度，取得读取位置数据，另一方面由该检测机构取得光束的曝光位置数据，基于这些读取位置数据与曝光光束位置数据将所希望的图像曝光在感光材料上，因此，可以在基板上高位置精度地对曝光图像进行曝光。第3项专利技术是一种曝光装置，具有移动机构，其载置设有成为曝光位置的基准的基准标记的感光材料，使该感光材料向沿着扫描方向的方向移动，读取机构，其读取载置在所述移动机构上的所述感光材料的所述基准标记，曝光机构，其利用对应图像数据调制的光束本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，具有：移动机构，其载置设有成为曝光位置的基准的基准标记的感光材料，使该感光材料向沿着扫描方向的方向移动，读取机构，其读取载置在所述移动机构上的所述感光材料的所述基准标记，曝光机构，其利用对应图像 数据调制的光束曝光由所述移动机构移动的所述感光材料，控制机构，其在所述曝光机构的曝光中，基于由所述读取机构读取基准标记而取得的基准位置数据，进行所述光束的曝光对位，控制所述曝光机构进行曝光动作，其特征在于：所述曝光装 置，还具有：读取机构位置标度，其具有沿着所述读取机构的移动方向排列的多个读取机构基准标记的同时，配置在能够由读取机构读取该多个读取机构基准标记的位置，读取位置数据存储机构，在利用所述读取机构读取基准标记时，由配置在读取所述基 准标记的位置的读取机构读取所述多个读取机构基准标记中的至少１个，该读取位置数据存储机构存储经该读取取得的所述读取机构的位置数据，曝光点位置信息存储机构，其具有光束位置检测机构，该光束位置检测机构具有检测利用所述光束进行曝光的曝光位置 的检测部，该曝光点位置信息存储机构存储由该光束位置检测机构检测从所述曝光机构输出的规定的光束的曝光点位置而得到的曝光点位置数据，并且，在对所述感光材料的曝光中，所述控制机构，从所述数据存储机构读出所述基准位置数据，从所述曝光点位置信 息存储机构读出曝光点位置数据，从所述光束位置检测机构相对于所述读取机构基准标记的相对位置关系，基于所述基准位置数据和所述曝光点位置数据来曝光所述图像数据。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：上村宽，福田刚志，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]