本发明专利技术涉及一种即使在感光材料中设有孔的情况下，也能够准确地让焦点与感光材料相一致而进行曝光的曝光装置以及曝光方法。该曝光装置具有测量感光材料的被曝光面的位置高度的距离测定机构、判断感光材料的被曝光面的孔位置的孔位置确定机构、确定感光材料上的孔位置的孔坐标测定机构、位移数据生成机构以及进行让曝光机构的光束的焦点位置与上述被曝光面相一致的对焦控制的对焦机构，在上述距离测量机构检测出给定大小以上的位移量的情况下，除去根据上述孔位置确定机构的判断结果而被判断为孔的位置，在上述位移数据生成机构中，生成用于上述对焦机构的对焦控制的位移数据的位移数据。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种，特别是一种即使在工件具有基准孔或安装孔等时，也不会产生所谓的焦点偏移，能够曝光出准确对应焦点的图像的。
技术介绍
近年来，作为图像记录装置的一例，提案了各种利用数字微反射镜设备(DMD)等空间光调制器件(SLM)，通过对应于图像数据所调制的光束，进行图像曝光的曝光装置(参照例如非专利文献1以及2)。该DMD例如在SRAM的各个存储单元上设置多个微小的微反射镜而构成，通过存储在各个存储单元中的电荷所产生的静电力，来变化微反射镜的反射面的角度。在实际进行描绘时，在各个SRAM中写入有图像数据的状态下，重置各个微反射镜，使其成给定的角度，让光的反射方向为所期望的方向。上述曝光装置的应用领域之一，例如是液晶显示器或等离子显示器等平板显示器的基板的制造，以及印刷基板的制造。作为面板或印刷基板的制造用曝光装置，例如有为了扩大曝光范围，沿着与上述基板的传送方向相交叉的方向，排列多个具有上述DMD的曝光头而形成的多头曝光装置。上述多头曝光装置中，有些具有通过多个测量点来测定基板的位移的检测机构，以及根据通过上述检测机构所测定的位移数据，调整曝光头之类的投影光学系统的像面与上述基板之间的位置关系的调整机构(专利文献1)。通过使用这些机构保持焦点，来进行用于对应于基板的表面的凹凸或厚度不均的曝光的校准。非专利文献1Larry J.Hornbeck，Digital Light Processing and MEMSreflecting the digital display needs of the networked society，THEINTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING，Proceedingsof SPIE Volume2783，8/1996，P.2-1非专利文献2W.E.Nelson and Robit Bhuva，Digital micromirrordevice imaging bar for hard copy，THE INTERNATIONAL SOCIETY FOROPTICAL ENGINEERING，Proceedings of SPIE Volume2413，4/1995，P.58-专利文献1特许第3305448号公报基板中，通常在上述多头曝光装置中设置有成为位置对应的基准的基准孔。另外，有时候还设有称作安装孔的用来在工件中安装各种部件的孔以及沟。本说明书中，将这样的孔以及凹陷阶梯都当作“孔”。但是，在使用上述多头曝光装置，对设有这些上述基准孔等的基板进行曝光的情况下，在通过上述检测机构所具有激光位移计测定基板的Z方向(基板的厚度方向)的位移时，上述激光位移计所照射的激光，有时候会从上述基准孔等中通过。另外，上述检测机构在基板上的测定范围是独立的点，因此，测定点的周边根据测定点的测定结果来调整焦点。特别是在X方向(与基板的移动方向相交叉的方向)上，上述检测机构间的间隔原封不动成为测定点之间的间隔，因此，扩大了各个测定点之间的间隔。因此，通过上述检测机构所测定的原始位移测定结果，有可能也包括基准孔等的位移，因此，如果原样使用这样的位移测定结果，生成位移数据，调整焦点，则在上述检测机构的测定点是孔或凹部的情况下，有可能其周边部分也被实施了对应于测定点的曝光。另外，上述以前的技术中，根据凹凸的程度不同，很难在所加工的孔或凹部与基板的变形之间进行区分，从而存在无法进行适当对应的问题。
技术实现思路
本专利技术为了解决上述以前的问题而提出的，目的在于提供一种即使在基板等工件中设有基准孔等孔或凹部的情况下，也能够准确地将焦点对准工件进行曝光的。为解决上述问题，技术方案1中所述的专利技术，是一种通过让感光材料相对移动，并发射根据图像数据进行了调制的光束的曝光机构进行曝光的曝光装置，特征在于具有判断上述感光材料的被曝光面的孔位置的孔位置确定机构；以及进行让上述曝光机构的光束的焦点位置与上述被曝光面相一致的对焦控制的对焦机构；以及除了根据上述孔位置确定机构的判断结果而被判断为孔的位置，生成用于上述对焦机构的对焦控制的位移数据的位移数据生成机构。如前所述，孔具有工件的校准中所使用的基准孔(校准标记)，以及用来在工件中安装各种部件的安装孔等。这些全部都是成为对象的孔。另外除了孔以外，还能够以凸部(也可以是校准标记)为对象。也即，位移数据生成机构，可以对除去凹凸部之外的区域输出位移数据。上述工件可以列举出包含有感光层的单层或多层的印刷基板、平板式显示器用基板、硬挠性基板(挠性基板)、薄片状或长条状的印刷布线板(PWB)、显示装置用基板、液晶单元形成构造、滤波器等(以下称作感光材料)。另外，感光层的种类可以列举出光致抗蚀剂、光硬化材料以及能够通过光显影的材料等。技术方案2中所述的专利技术，在技术方案1所述的曝光装置中，上述孔位置确定机构，根据测量上述感光材料的被曝光面的位置高度的距离测量机构所测定的上述感光材料的被曝光面的位置高度测量数据，判断上述感光材料的被曝光面的孔位置；上述位移数据生成机构，不使用上述感光材料的被曝光面的被判断为孔位置的位置上的测量数据，而生成位移数据。技术方案3中所述的专利技术，在技术方案2所述的曝光装置中，上述位移数据生成机构，将某个测定位置(A)中的上述距离测量机构的测量数据，与它旁边的测定位置中的上述距离测量机构的测量数据进行比较，在该值的差超过了给定值的情况下，对上述测定位置(A)中的上述距离测量机构的测量数据进行校准或将其忽略。技术方案4中所述的专利技术，在技术方案1所述的曝光装置中，上述孔位置确定机构，是取得在通过孔形成机构在感光材料上形成孔时的数据的孔形成位置信息取得机构；上述位移数据生成机构，根据通过孔形成机构在上述感光材料上形成孔时的数据，确定上述感光材料上的孔位置，对该位置的测量数据进行校准或将其忽略。技术方案5中所述的专利技术，在技术方案2所述的曝光装置中，除了上述距离测量机构与对焦机构之外，还具有用来确定上述感光材料上的孔位置的孔坐标测定机构，在通过上述距离测量机构所取得的某个测定位置(B)的测量数据(C)是给定值以上的值的情况下，上述位移数据生成机构，将取得了上述测量数据(C)的测定位置(B)，与通过上述孔坐标测定机构所得到的孔坐标位置进行比较，在两者相一致的情况下，判断为取得了上述测量数据(C)的测定位置(B)与上述感光材料上的孔位置相对应，对于以上述测定位置(B)为中心的给定范围，对上述测量数据(C)进行校准或将其忽略。上述曝光装置中，在通过上述孔坐标测定机构求得上述感光材料中所开的孔的位置坐标的同时，在上述位移数据生成机构中，根据通过上述距离测量机构的位移测定结果与上述孔坐标测定机构所得到的孔位置坐标，判断孔的有无，在存在有孔时，确定其位置坐标，排除孔及其周围的位移测定值，通过与所测定的位移量不同的位移量生成位移数据。并根据该位移数据控制对焦机构。因此，即使是开有孔的感光材料，因检测到孔而引起的误差也不会进入位移数据，因此，能够准确地让来自曝光头的光束的焦点与感光材料的被曝光面一致。孔坐标测定机构，可以列举出拍摄感光材料并求出基准孔的位置的校准照相机等。技术方案6中所述的专利技术，在技术方案2所述的曝光装置中，除本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种曝光装置，通过一边使感光材料相对移动、一边发射根据图像数据进行了调制的光束的曝光机构进行曝光，其特征在于，具有：判断上述感光材料的被曝光面的孔位置的孔位置确定机构；以及进行让上述曝光机构的光束的焦点位置与上述被曝光面相一 致的对焦控制的对焦机构；以及除去根据上述孔位置确定机构的判断结果而被判断为孔的位置，生成用于上述对焦机构的对焦控制的位移数据的位移数据生成机构。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：北川智也，大野薰，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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