【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】利用电磁场的消色差干涉叠加的干涉方法
[0001]本专利技术涉及干涉仪装置和具体利用双光束路径干涉仪进行电磁场的消色差干涉叠加的干涉方法。此外,本专利技术涉及干涉测量装置和利用干涉仪装置和干涉测量装置的干涉测量方法。本专利技术的应用例如可用于辐射-物质相互作用的研究领域,例如用于测量样品的光谱响应、电磁场的空间分布、以及测试光学部件。
技术介绍
[0002]在本说明书中,参考以下说明了本专利技术的技术背景以及相关技术的现有技术,:
[0003]1.J.P.Dakin,H.O.Edwards和B.H.Weigel,传感器致动器(Sensors Actuators)B 29,1(1995)。
[0004]2.H.R.Chandrasekhar,L.Genzel和J.Kuhl,OpticsCommunications期刊17,1(1976)。
[0005]3.Z.Guan,M.Lewander和S.Svanberg,Optics Express期刊16,26(2008)。
[0006]4.V.V.G ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种干涉仪装置,所述干涉仪装置被配置用于利用双光束路径干涉仪进行的电磁场的消色差干涉叠加,所述干涉仪装置包括:分束器,所述分束器被布置用于将输入光束分束成沿第一干涉仪臂(Al)传播的第一光束和沿第二干涉仪臂(A2)传播的第二光束,所述第一干涉仪臂包括至少一个偏转镜,所述第二干涉仪臂包括至少一个偏转镜,其中所述第一干涉仪臂和所述第二干涉仪臂具有相同的光程长度,和合束器,所述合束器被布置用于将所述第一光束和所述第二光束重新组合成相长输出和相消输出,其中所述分束器和所述合束器的反射表面被配置成使得与所述第二干涉仪臂相比,在所述第一干涉仪臂中设置光密介质处的一次附加菲涅耳反射,并且当所述第一光束和所述第二光束的电磁场的传播由合束器重新组合时,在所述两个干涉仪臂对所述相消输出的贡献之间导致与波长无关的相位差π,并且所述第一干涉仪臂包括被布置用于平衡所述第一干涉仪臂和所述第二干涉仪臂中的色散和菲涅耳损失的平衡透射元件。2.根据权利要求1所述的干涉仪装置,还包括:至少一个空间滤波器,所述至少一个空间滤波器被布置用于抑制所述第一干涉仪臂和所述第二干涉仪臂中的至少一个的电磁场的传播,所述第一干涉仪臂和所述第二干涉仪臂不具有相反相位。3.根据前述权利要求中任一项所述的干涉仪装置,还包括:至少一个防反射涂层,所述至少一个防反射涂层被布置在所述反射表面中的至少一个反射表面上。4.根据前述权利要求中任一项所述的干涉仪装置,其中:所述光密介质处的附加菲涅耳反射被设置在所述分束器处。5.根据权利要求1至3中任一项所述的干涉仪装置,其中:所述光密介质处的附加菲涅耳反射被设置在所述合束器处。6.根据前述权利要求中任一项所述的干涉仪装置,还包括:稳定性装置,所述稳定性装置被布置用于控制以下各项中的至少一个:光程长度、镜子位置、镜子取向、分束器位置、分束器取向、合束器位置、合束器取向和平衡透射元件取向。7.根据权利要求6所述的干涉仪装置,其中:所述稳定性装置包括与所述相长输出和所述相消输出中的至少一个耦合的反馈回路控件。8.根据前述权利要求中任一项所述的干涉仪装置,其...
【专利技术属性】
技术研发人员:约阿希姆,
申请(专利权)人:马克思普朗克科学促进协会,
类型:发明
国别省市:
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