运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置，涉及金属冶炼，旨在解决缺乏安全、高效、控制精确的问题，其技术方案要点是：一种运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置，包括射流气液混合反应器和旋流反应槽，旋流反应槽设置有筛网和扰流板，旋流反应槽设置有PH计、ORP计、温度计、热电阻以及压力传感器，射流气液混合反应器安装于旋流反应槽的底部，射流气液混合反应器安装有气用单向阀和电磁流量计。本发明专利技术的一种运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置，有效解决了硫化氢有毒有害气体的外泄，更高效的净化镍电解混酸体系中的铜离子，实现了安全、高效、控制精确的硫化氢深度除铜。控制精确的硫化氢深度除铜。控制精确的硫化氢深度除铜。

【技术实现步骤摘要】
运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置


[0001]本专利技术涉及金属冶炼，更具体地说，它涉及一种运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置。

技术介绍

[0002]由于铜元素具有强烈的亲硫性质，且在镍电解阳极液的各种元素中，以铜的硫化物溶度积为最小，并且与镍钴等主金属硫化物的差别较大，目前开发的各种除铜方法中选择性和除铜深度均较好的除铜剂基本都利用了铜的这一性质，硫化氢除铜技术也是基于此性质。
[0003]相比于其他的硫化物除铜剂，硫化氢除铜技术不仅除铜效果更为经济、高效而且不会带入其他杂质元素；例如当除铜剂为硫化钠、硫氢化钠时，这些沉淀剂大部分必须在碱性溶液中使用，而在碱性溶液中镍、钴、铜会生成氢氧化物沉淀，使铜渣中含镍、钴高，不能达到比较彻底的分离目的，还带入了钠离子。
[0004]近年来，世界各国电镍的生产规模在不断扩大，对电镍质量的要求也越来越高，目前使用的除铜方式越来越不能适应发展需求，硫化氢除铜技术重新又引起关注，但相关安全高效的气液反应设备的研发相对滞后，现有的气液反应装置按气液两相的接触形态可分为：本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置，其特征在于：包括射流气液混合反应器（1）和旋流反应槽（2），所述旋流反应槽（2）中部设置有筛网（3），所述旋流反应槽（2）于筛网（3）之上设置有扰流板（4），所述旋流反应槽（2）顶部设置有PH计（6）、ORP计（7）、温度计（8）、热电阻（8-8）以及压力传感器（9），所述射流气液混合反应器（1）安装于旋流反应槽（2）的底部，所述射流气液混合反应器（1）的两相进口处分别安装有气用单向阀（10）和电磁流量计（11）。2.根据权利要求1所述的运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置，其特征在于：所述射流气液混合反应器（1）包括前段射流混合部件（12）以及后段静态混合反应部件（13）。3.根据权利要求2所述的运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置，其特征在于：所述前段射流混合部件（12）包括液相泵入组件（14）、气相充入组件（15）以及射流混合器（16）；所述液相泵入组件（14）包括连接于电磁流量计（11）进液端的液相管道（17）以及设置于液相管道（17）入口端的给液泵（18），所述给液泵（18）的入口端设置有进液阀（19），其出口端设置有出液阀（20）；所述气相充入组件（15）整体呈竖直安装，其包括输入接管（21）以及安装短接管（22），所述气用单向阀（10）安装于输入接管（21）和安装短接管（22）之间；所述射流混合器（16）包括连通于后段静态混合反应部件（13）的吸入室（23）、连接于吸入室（23）的收缩段喷嘴（24），以及连接于吸入室（23）的扩散段（25），所述收缩段喷嘴（24）入口端与液相管道（17）连通，所述扩散段（25）入口端与安装短接管（22）连通。4.根据权利要求2所述的运用硫化氢气体去除镍电解混酸体系中铜离子的装置，其特征在于：所述后段静态混合反应部件（13）包括外管（26）以及设置于外管内的波...

【专利技术属性】
技术研发人员：周通，陈东达，巫旭，方道良，卢建波，沈李奇，赵重，周亚飞，王世荣，李红利，李想，
申请(专利权)人：金川集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：