本发明专利技术提供式（Ⅰ）的盐，其中环Ｘ表示含有３至３０个碳原子的单环或双环烃基，并且环Ｘ中的一个或多个氢原子任选被含有１至６个碳原子的烷基、含有２至６个碳原子的烯基、含有２至６个碳原子的烷氧基或含有１至４个碳原子的全氟烷基取代；Ｑ↑［１］和Ｑ↑［２］各自独立地表示氟原子或者含有１至６个碳原子的全氟烷基；Ａ↑［＋］表示有机抗衡离子；并且ｎ表示１至１２的整数。本发明专利技术还提供包含所述式（Ⅰ）的盐的化学放大型抗蚀剂组合物。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种适合于酸生成剂的盐，该酸生成剂用于在半导体精细加工中使用的化学放大型性抗蚀剂，还涉及一种含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物。
技术介绍
用于采用光刻法的半导体微型制造的化学放大型抗蚀剂组合物含有酸生成剂，该酸生成剂包含通过辐照产生酸的化合物。在半导体微型制造中，适宜的是形成具有高分辨率的图案，并且期望有产生这样的图案的化学放大型抗蚀剂组合物。最近，提出了一种化学放大型抗蚀剂组合物，该化学放大型抗蚀剂组合物含有三苯锍1-金刚烷甲氧基羰基二氟甲磺酸盐、对-甲苯基二苯基锍全氟辛烷磺酸盐等(例如JP 2004-4561-A)，以及提供能够形成具有更高分辨率和更优异图案形状的图案的化学放大型抗蚀剂组合物的盐。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是提供一种适合于酸生成剂的盐，所述的酸生成剂能够提供产生具有高分辨率和优异图案形状的图案的化学放大型抗蚀剂组合物。本专利技术的另一目的是提供该盐的合成中间体，并且提供制备该合成中间体或盐的方法。本专利技术的再一个目的是提供一种含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物。本专利技术的这些和其它目的将由以下的描述变得显而易见。本专利技术涉及以下方面 <1>一种式(I)的盐 其中环X表示含有3至30个碳原子的单环或双环烃基，并且环X中的一个或多个氢原子任选被含有1至6个碳原子的烷基、含有2至6个碳原子的烯基、含有2至6个碳原子的烷氧基或含有1至4个碳原子的全氟烷基取代；Q1和Q2各自独立地表示氟原子或者含有1至6个碳原子的全氟烷基；A+表示有机抗衡离子；并且n表示1至12的整数。以下，式(I)的盐也可以称作盐(I)。<2>根据<1>所述的盐，其中所述环X是由式(IIIa)、(IIIb)、(IIIc)、(IIId)、(IIIe)或(IIIf)表示的化合物的一价残基 其中X1表示亚烷基、氧原子或硫原子，式(IIIa)、(IIIb)、(IIIc)、(IIId)、(IIIe)和(IIIf)中的一个或多个氢原子任选被含有1至6个碳原子的烷基、含有2至6个碳原子的烷氧基或含有1至4个碳原子的全氟烷基取代，并且f表示1至10的整数。<3>根据<1>或<2>所述的盐，其中所述环X是环己基或者双环庚基。<4>根据<1>至<3>中任一项所述的盐，其中A+是选自式(IIe)、式(IIb)、式(IIc)和式(IId)中的至少一种阳离子，式(IIe)的阳离子 其中P25、P26和P27各自独立地表示含有1至30个碳原子的烷基或者含有3至30个碳原子的环烃基，其中所述烷基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷氧基或者含有3至12个碳原子的环烃基取代，并且其中所述环烃基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基取代，式(IIb)的阳离子 其中P4和P5各自独立地表示氢原子、羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基，式(IIc)的阳离子 其中P6和P7各自独立地表示含有1至12个碳原子的烷基或者含有3至12个碳原子的环烷基，或者P6和P7结合形成含有3至12个碳原子的二价无环烃基，该二价无环烃基与相邻的S+一起形成环，并且所述二价无环烃基中的一个或多个-CH2-任选被-CO-、-O-或-S-取代，P8表示氢，P9表示任选取代的含有1至12个碳原子的烷基、含有3至12个碳原子的环烷基或者芳环基，或者P8和P9结合形成二价无环烃基，该二价无环烃基与相邻的-CHCO-一起形成2-氧代环烷基，并且所述二价无环烃基中的一个或多个-CH2-任选被-CO-、-O-或-S-取代，式(IId)的阳离子 其中P10、P11、P12、P13、P14、P15、P16、P17、P18、P19、P20和P21各自独立地表示氢原子、羟基、含有1至12个碳原子的烷基或含有1至12个碳原子的烷氧基，B表示硫原子或氧原子，并且m表示0或1。<5>根据<4>所述的盐，其中式(IIe)的阳离子是式(IIf)、(IIg)或(IIh)的阳离子 其中P28、P29和P30各自独立地表示含有1至20个碳原子的烷基或者含有3至30个碳原子的除苯基外的环烃基，其中所述烷基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷氧基或者含有3至12个碳原子的环烃基取代，并且其中所述环烃基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基取代；并且P31、P32、P33、P34、P35和P36各自独立地表示羟基、含有1至12个碳原子的烷基、含有1至12个碳原子的烷氧基或者含有3至12个碳原子的环烃基，并且l、k、j、i、h和g各自独立地表示0至5的整数。<6>根据<4>所述的盐，其中式(IIe)的阳离子是式(IIa)的阳离子 其中P1、P2和P3各自独立地表示氢原子、羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基。<7>根据<6>所述的盐，其中式(IIa)的阳离子是式(IIi)的阳离子 其中P22、P23和P24各自独立地表示氢原子或者含有1至4个碳原子的烷基。<8>根据权利要求1所述的盐，其中该盐是式(IV)或(V)的盐 P22、P23和P24具有与上述定义相同的含义。<9>根据<1>至<8>中任何一项所述的盐，其中Q1和Q2中的每一个独立地是氟原子或三氟甲基。<10>一种式(VI)的酯化合物， 其中X表示含有3至30个碳原子的单环或双环烃基，并且环X中的一个或多个氢原子任选被含有1至6个碳原子的烷基、含有2至6个碳原子的烯基、含有2至6个碳原子的烷氧基或含有1至4个碳原子的全氟烷基取代；Q1和Q2各自独立地表示氟原子或者含有1至6个碳原子的全氟烷基；M表示Li、Na、K或Ag；并且n表示1至12的整数。<11>一种制备式(VI)的酯化合物的方法，该方法包括将式(VII)的醇化合物 其中X和n具有如上定义的相同含义，与式(VIII)的羧酸化合物反应， 其中M、Q1和Q2具有如上定义的相同含义。<12>一种制备盐(I)的方法，该方法包括将式(VI)的酯化合物与式(IX)化合物反应，A+Z-(IX)其中Z表示F、Cl、Br、I、BF4、AsF6、PF6或ClO4，并且A+具有如上定义的相同含义。<13>一种化学放大型抗蚀剂组合物，其包含盐(I)和树脂，该树脂包含具有酸-不稳定基团的结构单元，并且所述树脂本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种式（Ⅰ）的盐： ＊＊＊ （Ⅰ） 其中环Ｘ表示含有３至３０个碳原子的单环或双环烃基，并且环Ｘ中的一个或多个氢原子任选被含有１至６个碳原子的烷基、含有２至６个碳原子的烯基、含有２至６个碳原子的烷氧基或含有１至４个碳原子的全氟烷基取代；Ｑ↑［１］和Ｑ↑［２］各自独立地表示氟原子或者含有１至６个碳原子的全氟烷基；Ａ↑［＋］表示有机抗衡离子；并且ｎ表示１至１２的整数。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：吉田勋，原田由香子，山口训史，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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